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公开(公告)号：JPWO2007122929A1
公开(公告)日：2009-09-03
申请号：JP2008512026
申请日：2007-03-16
CPC classification number: G03F7/0047 , C08K5/372 , C08L101/12 , H01L21/312
Abstract: [課題]電気絶縁性、解像度、密着性および耐熱衝撃性にバランスよく優れた硬化物が得られる感放射線性絶縁樹脂組成物を提供することにある。[解決手段]本発明に係る感放射線性絶縁樹脂組成物は、ジスルフィド構造を有する化合物(A)、樹脂(B)および感放射線性化合物(D)を含むことを特徴とする。上記感放射線性絶縁樹脂組成物は、必要に応じて、アルカリ可溶性樹脂(B1)と反応可能な官能基を有する化合物(C)、平均粒径が30〜500nmの架橋微粒子(E)などをさらに含むことが好ましい。
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公开(公告)号：JPWO2008075495A1
公开(公告)日：2010-04-08
申请号：JP2008550058
申请日：2007-10-05
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/312 , G03F7/0045 , G03F7/038
Abstract: 本発明の目的は、g線、h線に対する感度が良好であり、且つ解像性、電気絶縁性、熱衝撃性等の諸特性に優れた表面保護膜、層間絶縁膜、平坦化膜を形成しうる絶縁膜形成用感光性樹脂組成物、及びその硬化膜並びにその硬化膜を備える電子部品を提供することである。本絶縁膜形成用感光性樹脂組成物は、フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と、下式(1)で表される化合物と、架橋剤と、密着助剤と、溶剤とを含有するものである。〔式中、Rは各々独立に水素原子、炭素数1〜6のアルキル基、−R1OH、−R2OR3又は−R4OR5OR6を示し、nは1又は2であり、Xは各々独立にハロゲン原子を示す。〕
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公开(公告)号：JPWO2008026406A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：JP2008531998
申请日：2007-07-30
IPC: G03F7/023 , G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0388 , H01L21/312 , H05K3/0023 , H05K3/287 , H05K3/4676 , H05K2201/0212
Abstract: 本発明の目的は、解像性、密着性、熱衝撃性、電気絶縁性、パターニング性能、及び伸び等の諸特性に優れた層間絶縁膜、平坦化膜、表面保護膜、高密度実装基板用絶縁膜を形成しうる感光性絶縁樹脂組成物、及びその硬化物並びにその硬化物を備える回路基板を提供することである。本ポジ型感光性絶縁樹脂組成物は、アルカリ可溶性樹脂と、キノンジアジド基を有する化合物と、ヒドロキシル基及び/又はカルボキシル基を有する単量体に由来する構成成分を20〜90mol%有する粒子状の共重合体である架橋樹脂粒子と、を含有するものである。
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公开(公告)号：JPWO2008026401A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：JP2008531996
申请日：2007-07-23
IPC: G03F7/038 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0385 , C08F212/08 , C08F212/14 , Y10T428/31504 , C08F220/10
Abstract: 本発明は、電気絶縁性、耐熱衝撃性、密着性等の特性に優れた硬化物を提供すること、またこのような硬化物を得ることができ、半導体素子の層間絶縁膜、表面保護膜などの用途に適した感光性絶縁樹脂組成物を提供することを目的とする。本発明は、(A)下記式(1)で示される構造単位(A1)10〜99モル%および下記式(2)で示される構造単位(A2)90〜1モル%を含有する共重合体(ただし、該共重合体(A)を構成する全構造単位の合計を100モル%とする)(式中、R1は炭素数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシ基、またはアリール基を表し、R2は、水素原子またはメチル基を表し、mは1〜3の整数、nは0〜3の整数であり、m+n≦5である。R3は炭素数1〜4のアルキル基もしくはアルコキシ基、またはアリール基を表し、R4は、水素原子またはメチル基を表し、kは0〜3の整数である)、(B)オキセタニル基を含有する化合物(B1)、(C)光感応性酸発生剤、 (D)溶剤、(F)架橋微粒子を含有することを特徴とする。
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公开(公告)号：JP5093116B2
公开(公告)日：2012-12-05
申请号：JP2008550058
申请日：2007-10-05
Applicant: Jsr株式会社
IPC: G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC classification number: H01L21/312 , G03F7/0045 , G03F7/038
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Patent Agency Ranking6.发明专利
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公开(公告)号：JP5195428B2
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：JP2008531998
申请日：2007-07-30
Applicant: Jsr株式会社
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0388 , H01L21/312 , H05K3/0023 , H05K3/287 , H05K3/4676 , H05K2201/0212
Abstract: A photosensitive insulating resin composition capable of forming an interlayer insulating film, or planarized film, or surface protective film, or insulating film for high-density mount substrate excelling in properties, such as resolution, adherence, thermal impact, electrical insulation, patterning performance and elongation; a hardening product thereof; and a circuit board equipped with the hardening product. There is provided a positive photosensitive insulating resin composition comprising an alkali-soluble resin; a compound having a quinonediazido group; and crosslinked resin particles of a particulate copolymer whose 20 to 90 mol % constituent is derived from a hydroxylated and/or carboxylated monomer.
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公开(公告)号：JP4283582B2
公开(公告)日：2009-06-24
申请号：JP2003105353
申请日：2003-04-09
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation sensitive composition with which patterned insulative films varying in water repellency are easily formed with high accuracy, a method for forming the patterned insulative films using the composition, a display element using the composition, a flat panel display device, and a method for manufacturing the same. SOLUTION: The resin composition contains (A) an alkaline soluble polymer component, (B) a 1, 2-quinonediazido compound, and (C) a water repellent siloxane resin at specific ratios. The coating film using the resin composition is subjected to pattern exposure and development in the method for forming the patterned insulative films. The display element and the flat panel display device are provided with interlayer insulating films formed by the resin composition. The method for manufacturing the flat panel display device includes an interlayer insulating film forming step of subjecting the regions formed with conductor layers to the pattern exposure with the exposure energy by which only the surface layer portions are cured in part of these regions and the whole in the thickness direction is cured in another part and a conductor layer forming step of forming the conductor layers by liquid material on the surfaces of the interlayer insulating films. COPYRIGHT: (C)2004,JPO
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公开(公告)号：JP4042142B2
公开(公告)日：2008-02-06
申请号：JP2000273213
申请日：2000-09-08
Applicant: Jsr株式会社
IPC: H05B33/22 , C08K5/3492 , C08K5/36 , C08L101/00 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/26 , G03F7/40 , H01L27/32 , H01L51/50 , H01L51/52 , H05B33/12
CPC classification number: G03F7/038 , G03F7/0045 , H01L27/3295 , H01L51/5203 , Y10S430/106 , Y10S430/111
Abstract: A radiation sensitive resin composition for the formation of cathode separators for EL display devices which have heat resistance and adhesion required for cathode separators for EL display devices and an inversely tapered shape, cathode separators formed therefrom and an EL display device comprising the cathode separators. The radiation sensitive resin composition for the formation of cathode separators for EL display devices comprises (A) an alkali soluble resin, (B) the compound represented by the formulae (I) to (IV) and (C) a trihalomethyltriazine and/or an onium salt, the cathode separators are formed from the radiation sensitive resin composition and the EL display device comprises the cathode separators formed from the radiation sensitive resin composition.
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