走査電子顕微鏡
    25.
    发明专利
    走査電子顕微鏡 有权
    扫描型电子显微镜

    公开(公告)号:JPWO2015016040A1

    公开(公告)日:2017-03-02

    申请号:JP2015529496

    申请日:2014-07-11

    Abstract: 本発明の走査電子顕微鏡は、電子線(5)が対物レンズを通過する際に前記電子線を減速させる減速手段と、前記電子源と前記対物レンズとの間に配置され、前記電子線の光軸に対して軸対称な形状の感受面を有する第1検出器(8)および第2検出器(7)を備える。前記第1検出器は前記第2検出器よりも試料側に設置され、減速電界型エネルギーフィルタ(9A)を通過した高エネルギーの信号電子を専ら検出する。前記対物レンズの試料側の先端部(13)と前記第1検出器の感受面の間の距離をL1、前記対物レンズの前記試料側の先端部と前記第2検出器の感受面の間の距離をL2とすると、L1/L2≦5/9である。これにより、走査型電子顕微鏡で、減速法を適用して低加速観察を行うときに、数100倍程度の低倍率から10万倍以上の高倍率の広い倍率範囲でシェーディングの影響なく信号電子を検出することができる。また、二次電子と比べ発生量の少ない後方散乱電子を高効率に検出できる。

    Abstract translation: 本发明的扫描型电子显微镜包括一个减速机构用于减速的电子束时,电子束(5)穿过所述物镜,被布置在电子源和物镜时,电子束的光之间 包含具有轴对称形状的敏感表面相对于所述轴(8)和第二检测器的第一检测器(7)。 其中,所述第一检测器被设置在所述第二检测器的样品侧专门探测通过减速场能量过滤器(9A)已经通过高能量的信号电子。 所述物镜(13)的前端部的样本侧的检测器平面,并且所述第一检测器L1之间的距离,所述第二检测器的检测器平面和远端部的样品侧之间物镜 当距离被称为L2,一个L1 / L2≦5/9。 因此,在扫描电子显微镜中,当执行应用程序以低加速度观测到的减速方法,该信号的电子没有阴影的影响在高倍率100000倍以上的宽放大倍率范围从低倍率约几百倍 它可以检测。 此外,它能够检测排放物的小背散射电子相比有效地二次电子。

    荷電粒子線装置
    26.
    发明专利
    荷電粒子線装置 有权
    一种带电粒子束装置

    公开(公告)号:JP2017027829A

    公开(公告)日:2017-02-02

    申请号:JP2015146549

    申请日:2015-07-24

    Abstract: 【課題】焦点深度の向上および分解能の維持・向上の両立が可能な荷電粒子線装置を提供する。 【解決手段】荷電粒子源101と、変形照明絞り103と、レンズ106と、演算部112と、記憶部111とを備え、荷電粒子源101から発生した荷電粒子線102を変形照明絞り103を介して試料108に照射し発生する信号を検出して画像を取得する荷電粒子線装置において、演算部112は荷電粒子線102のビームプロファイルを推定するビーム演算処理部120と、推定されたビームプロファイルを用いて画像を鮮鋭化する鮮鋭化処理部121とを備える。 【選択図】図1

    Abstract translation: 甲同时实现改善焦深的和分辨率的维护和提供带电粒子射线装置尽可能的改进。 和带电粒子源101,经修饰的照明光阑103,透镜106,计算单元112,存储单元111,通过改性照明光阑103从带电粒子源101产生的带电粒子束102 在获取由照射样品108碲,算术单元112和波束处理单元120用于估计带电粒子束102,所估计的光束轮廓的光束轮廓所产生的信号的图像所检测到的带电粒子线装置 使用和锐化处理单元121,以使图像聚焦。 1点域

    イオン注入装置及びイオン注入方法
    27.
    发明专利
    イオン注入装置及びイオン注入方法 有权
    离子注入装置和离子注入方法

    公开(公告)号:JP2015232947A

    公开(公告)日:2015-12-24

    申请号:JP2014118901

    申请日:2014-06-09

    Abstract: 【課題】広い範囲で使用することのできるイオン注入装置及びイオン注入方法を提供する。 【解決手段】イオン注入装置300は、ビーム走査部306と、ビーム走査部306の下流に配設されているビーム平行化部308と、を備える。ビーム走査部306は、入射イオンビームの中心軸上でビーム走査部306の中央部に走査原点を有する。ビーム平行化部308は、走査原点に平行化レンズとしての焦点を有する。イオン注入装置300は、ビーム走査部306への入射イオンビームの焦点位置が入射イオンビームの中心軸に沿って走査原点より上流側にあるよう構成されている。ビーム走査部306への入射イオンビームの焦点位置は、ビーム平行化部308からの出射イオンビームにおける空間電荷効果による発散現象を補正するように、入射イオンビームの中心軸に沿って走査原点より上流側において調整される。 【選択図】図16

    Abstract translation: 要解决的问题:提供可以广泛使用的离子注入装置和离子注入方法。解决方案:离子注入装置300包括束扫描部分306和设置在束扫描下游的束平行化部分308 光束扫描部分306具有在入射离子束的中心轴上的扫描原点和光束扫描部分306的中心部分。光束平行化部分308具有在扫描原点的焦点为 平行化镜头 离子注入装置300被配置为使得入射在束扫描部分306上的离子束的焦点位于沿着入射离子束的中心轴线的扫描原点以上。 入射在光束扫描部306上的离子束的焦点沿着入射离子束的中心轴被调整并且比扫描原点更进一步的上游,以便校正由空间电荷效应产生的发散现象 从光束平行化部分308发射的离子束。

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