排ガス浄化用触媒
    47.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020182915A

    公开(公告)日:2020-11-12

    申请号:JP2019088769

    申请日:2019-05-09

    Abstract: 【課題】高Ga条件下、A/Fがリッチである雰囲気において、浄化性能が向上した排ガス浄化用触媒を提供する。 【解決手段】基材上に貴金属及び金属酸化物を含む触媒コート層を有する排ガス浄化用触媒であって、触媒コート層において、コート層の平均厚さが50μm〜100μmの範囲内であり、水中重量法により測定した空隙率が50容量%〜80容量%の範囲内であり、空隙全体の0.5容量%〜50容量%が、5以上のアスペクト比を有する高アスペクト比細孔からなり、前記高アスペクト比細孔は、前記基材の排ガスの流れ方向に垂直な触媒コート層断面の断面画像における細孔の円相当径が2μm〜50μmの範囲内であり、かつ平均アスペクト比が10〜50の範囲内であり、かつ全貴金属量の80質量%以上が、触媒コート層の厚さ方向において排ガスに接する表面側を0%、基材に接する側を100%としたときに、0%から25%以上70%以下の範囲に存在する、前記排ガス浄化用触媒に関する。 【選択図】図5

    排ガス浄化用触媒
    48.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2020179348A

    公开(公告)日:2020-11-05

    申请号:JP2019084093

    申请日:2019-04-25

    Abstract: 【課題】暖機性を維持しつつ、排ガス浄化用触媒における排ガス流れ方向に対して上流側の領域でHCを効率よく浄化し、排ガス浄化用触媒における排ガス流れ方向に対して下流側の領域でNOxを効率よく浄化することができる排ガス浄化用触媒を提供する。 【解決手段】本発明は、触媒担体で構成されるモノリス基材と該モノリス基材上にコートされている触媒コート層とを有する排ガス浄化用触媒であって、モノリス基材が、Pdを含み、触媒コート層が、下流側コート層を有し、下流側コート層が、Rhを含み、下流側コート層の密度が、特定の範囲内であり、排ガス浄化用触媒が、排ガス流れ方向に対して上流側の領域(上流部分)と上流側の領域以外の下流側の領域(下流部分)とから構成され、上流部分が、下流部分よりも高いPd濃度を有する排ガス浄化用触媒に関する。 【選択図】図7

    排ガス浄化装置及びその製造方法

    公开(公告)号:JP2020082070A

    公开(公告)日:2020-06-04

    申请号:JP2019087527

    申请日:2019-05-07

    Abstract: 【課題】高い排ガス浄化性能を有し、かつセリア−ジルコニア複合酸化物を構成材料の1種として含むハニカム基材を使用した排ガス浄化装置の提供。 【解決手段】多孔質壁1で隔てられた複数の排ガス流路を有するハニカム基材、及びハニカム基材に担持されている1種又は2種以上の触媒貴金属を有する排ガス浄化装置であって、ハニカム基材は、セリア−ジルコニア複合酸化物粒子を構成材料の1種として含み、触媒貴金属は、Pt、Pd、及びRhから成る群から選択され、かつハニカム基材は、触媒貴金属のうちの1種である特定貴金属についての、貴金属50質量%担持深さが多孔質壁1の表面から内部の中心までの距離の50%未満である貴金属濃化表面部を有しており、貴金属50質量%担持深さは、多孔質壁1の表面から内部の中心までに担持されている特定貴金属の量を基準として、特定貴金属の50質量%が担持されている深さである、排ガス浄化装置。 【選択図】図2

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