-
公开(公告)号：JP2015200395A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2014081010
申请日：2014-04-10
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B37/00 , H01L21/304 , F16L27/08
Abstract: 【課題】ロータリージョイントの回転に起因する異音の発生を抑制する。 【解決手段】ロータリージョイント160は、回転軸A周りに回転する回転体1600と、回転体1600の周囲に設けられたハウジング1620と、回転体1600とハウジング1620との間に設けられ、回転体1600の回転を支持する軸受1630と、を備える。ロータリージョイント160は、ハウジング1620に形成された流体接続口、及び、回転体1600の内部に形成された流路を介して、基板を研磨するための研磨パッドが貼り付けられる研磨テーブル、又は、基板を保持して研磨パッドへ押圧する保持部、へ流体を供給する。回転体1600と軸受1630との間、及び、ハウジング1620と軸受1630との間、の少なくとも一方には、弾性部材1640が介在する。 【選択図】図2
Abstract translation: 要解决的问题：抑制由旋转接头的旋转引起的噪声的产生。旋转接头160包括围绕旋转轴线A旋转的旋转体1600，围绕旋转体1600设置的壳体1620和轴承1630 设置在旋转体1600和壳体1620之间并支撑旋转体1600的旋转。旋转接头160向抛光台提供流体，抛光台在其上粘贴用于抛光基板的抛光垫或保持基板并保持其的保持部分 通过形成在壳体1620中的流体连接口和形成在旋转体1600的内部的流路连接到抛光垫。弹性构件1640至少插入在旋转体1600和轴承1630之间以及 壳体1620和轴承1630。
-
公开(公告)号：JP2015199163A
公开(公告)日：2015-11-12
申请号：JP2014079454
申请日：2014-04-08
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B57/02
Abstract: 【課題】砥液供給ユニット内に漏洩した砥液を確実に排出でき、復旧時の作業を最小限にすることができるハウジングを提供すること。 【解決手段】砥液供給部品を収容するハウジング3であって、このハウジング3内部の底面の少なくとも一部は傾斜面であり、この底面の最も低い部位の近傍に少なくとも1つのドレイン配管25が設けられている 【選択図】図4
Abstract translation: 要解决的问题：提供能够将泄漏到研磨液供应单元中的研磨液排出的壳体，并且使恢复期间的工作最小化。解决方案：壳体3容纳磨料液体供应部件。 壳体3的内部的底面的至少一部分是倾斜面，并且在底面的最下部附近设置有至少一个排水配管25。
-
公开(公告)号：JP2020131381A
公开(公告)日：2020-08-31
申请号：JP2019029543
申请日：2019-02-21
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B37/005 , B24B37/013 , B24B37/00
Abstract: 【課題】研磨液の供給位置の分布を均一にして、基板の研磨レートの均一性を向上させることができる研磨装置を提供する。 【解決手段】研磨装置PAは、ノズル移動装置35の動作を制御する動作制御部200を備える。動作制御部200は、プログラムを格納した記憶装置と、プログラムに従って演算を実行する処理装置と、を備えている。プログラムは、研磨液の供給位置と、基板Wの平均研磨レートおよび研磨レートの基板面内分布との間の相関関係を求め、予め設定された許容研磨レートの範囲と研磨液の供給位置と平均研磨レートとの相関関係に基づいて、液体噴射ノズルの移動可能範囲を決定し、決定された液体噴射ノズルの移動可能範囲内において、研磨液の供給位置と研磨レートの基板面内分布との相関関係から、最適な研磨液の供給位置を決定し、液体噴射ノズルを決定された供給位置に移動させて、基板Wを研磨する指令を含む。 【選択図】図1
-
公开(公告)号：JP2020023009A
公开(公告)日：2020-02-13
申请号：JP2018147917
申请日：2018-08-06
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B55/00 , B24B37/00
Abstract: 【課題】研磨液の使用量を低減することにある。 【解決手段】研磨面を有する研磨パッドを使用して研磨対象物の研磨を行う研磨装置であって、回転可能に構成された研磨テーブルであって、前記研磨パッドを支持するための研磨テーブルと、研磨対象物を保持して研磨対象物を前記研磨パッドに押し当てるための基板保持部と、前記研磨パッドに押圧された状態で前記研磨面に研磨液を供給するための供給装置と、前記供給装置を前記研磨パッドに対して押圧する押圧機構と、を備え、前記押圧機構は、前記供給装置の上流側及び下流側の側壁を研磨面に押圧する力をそれぞれ調整可能である、研磨装置。 【選択図】図12
-
公开(公告)号：JP2019181689A
公开(公告)日：2019-10-24
申请号：JP2019069986
申请日：2019-04-01
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B37/34 , B24B37/04 , B23Q11/00 , H01L21/304 , B24B55/12
Abstract: 【課題】シリコンウエハ等の基板を研磨処理する研磨テーブル上に存在する研磨屑を含んだ液体や洗浄用の気液混合液を、積極的に排出できるようにした研磨装置及び基板処理装置を提供する。 【解決手段】上面に液体が供給され、中心軸L回りに回転する研磨テーブル1と、研磨テーブル1の周縁部の下方に配置された環状の砥液受け30(樋31)と、研磨テーブル1の周縁部に取り付けられ、下端部が砥液受け30に向かって延在する筒状のフリンガー11と、を有する、という構成を採用する。 【選択図】図1
-
Patent Agency Ranking
-
-
公开(公告)号：JP2018202491A
公开(公告)日：2018-12-27
申请号：JP2017106426
申请日：2017-05-30
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B53/017 , B24B53/02 , B24B49/18 , H01L21/304 , B24B53/00
Abstract: 【課題】短時間で、かつ精度よくドレッサの荷重とエアシリンダに供給される気体の圧力との関係を決定することができる方法を提供する。 【解決手段】エアシリンダ36に加えられるドレッサ31の荷重と、エアシリンダ36に供給される気体の圧力との関係を決定する方法は、荷重測定器45が研磨テーブル11に接触した第1接触点を決定し、測定された荷重と圧力との関係を示す二次関数からなる関係式を算出し、ドレッサ31が研磨パッド10の研磨面に接触した第2接触点を決定し、第1接触点での気体の圧力と第2接触点での気体の圧力とから補正量を算出し、算出された補正量に基づいて関係式を補正する。 【選択図】図2
-
公开(公告)号：JP2018114614A
公开(公告)日：2018-07-26
申请号：JP2018031845
申请日：2018-02-26
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B37/10 , B23Q11/08 , H01L21/304 , B24B55/06
Abstract: 【課題】研磨液が固着しにくいカバーを提供する。 【解決手段】基板を研磨するための研磨装置の構成部品用のカバー70は、構成部品の本体としてのドレッサアーム本体60とカバー70とを係止するための係止機構であって、カバーの内部に設けられた係止機構を備える。外部に露出されるカバーの外表面は、凹部を有しておらず、カバーの頂部を除いて、水平面を有していない。 【選択図】図2
-
公开(公告)号：JP6126414B2
公开(公告)日：2017-05-10
申请号：JP2013043948
申请日：2013-03-06
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B65G49/07 , H01L21/304 , H01L21/677
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
57
records
(took 0.029 seconds)
