公开(公告)号：JP5029390B2

公开(公告)日：2012-09-19

申请号：JP2008016479

申请日：2008-01-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 敦 中村 ,  祐亮 庵野 ,  誠 杉浦 ,  智樹 永井 ,  剛史 若松

IPC: C08F6/10 ,  C08F220/58

公开(公告)号：JP4946094B2

公开(公告)日：2012-06-06

申请号：JP2006055222

申请日：2006-03-01

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  琢磨 江畑 ,  英司 米田

IPC: C07C381/12 ,  G03F7/004

公开(公告)号：JP4877231B2

公开(公告)日：2012-02-15

申请号：JP2007546435

申请日：2006-11-21

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  勇二 矢田

IPC: G03F7/004 ,  G03F7/039

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/122 ,  Y10S430/123

公开(公告)号：JP4817063B2

公开(公告)日：2011-11-16

申请号：JP2006224767

申请日：2006-08-21

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井

IPC: C08F220/26 ,  C08F4/48 ,  G03F7/033

公开(公告)号：JP4692540B2

公开(公告)日：2011-06-01

申请号：JP2007505904

申请日：2006-02-24

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 圭二 今野 ,  智樹 永井 ,  正人 田中 ,  桃子 石井 ,  純一 高橋

IPC: G03F7/11 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0752 ,  G03F7/0751 ,  G03F7/11 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/0332 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/115 ,  Y10T428/31515 ,  Y10T428/31612 ,  Y10T428/31663

公开(公告)号：JP4682345B2

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：JP2001280035

申请日：2001-09-14

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 正昭 宮路 ,  智樹 永井 ,  淳 沼田 ,  勇二 矢田

IPC: G03F7/039 ,  C08F212/14 ,  C08F220/56 ,  G03F7/038 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a chemically amplifying positive or negative radiation sensitive composition capable of stably forming a fine pattern excellent in machining performance in a small space, critical dimension uniformity, maintainability and stability as a resist, having small density dependence in high accuracy. SOLUTION: The positive type radiation sensitive component contains (A1) a copolymer including a hydroxy(methyl) styrene unit and/or an alkoxy(methyl) styrene unit and a repeating unit expressed in formula (3) and (B) a radiation sensitive acid generator. The negative type radiation sensitive component contains (A2) a copolymer including a hydroxy(methyl) styrene unit and a repeating unit expressed in the formula (3), (B) the radiation sensitive acid generator and (C) a compound capable of bridging the component of (A2) under the existence of an acid.

公开(公告)号：JP4655909B2

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：JP2005348402

申请日：2005-12-01

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井 ,  英司 米田

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a radiation-sensitive resin composition having high resolution, as well as, being useful as a chemically amplified resist having superior LER. SOLUTION: The radiation-sensitive resin composition contains an alkali-insoluble or slightly alkali-soluble resin containing a repeating unit having a lactone skeleton, an acid generator capable of generating benzenesulfonic acid, and an acid generator comprising a compound, having a structure of Formula (I-A) or Formula (I-B), wherein Z 1 and Z 2 are mutually independently F, or a 1-10C linear or branched perfluoroalkyl group; Y 1 is a single bond or a divalent bond group; R is a substituent; k is an integer of 0-5; n is an integer of 0-5; and if a plurality of symbols R exist, they may bond with each other to form a ring. COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

公开(公告)号：JP4655886B2

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：JP2005315087

申请日：2005-10-28

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 誠 志水 ,  智樹 永井 ,  英司 米田

IPC: G03F7/039 ,  C08F220/36 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4640305B2

公开(公告)日：2011-03-02

申请号：JP2006268488

申请日：2006-09-29

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 智樹 永井

IPC: G03F7/004 ,  C09K3/00 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

公开(公告)号：JP4544085B2

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：JP2005218054

申请日：2005-07-27

Applicant: Jsr株式会社

Inventor： 健太郎 後藤 ,  智樹 永井 ,  大輔 清水 ,  勇二 矢田

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/004 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/091 ,  Y10S430/106 ,  Y10S430/111 ,  Y10S430/127