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    イオン装置で利用する磁石およびイオン装置
    41.
    发明专利
    イオン装置で利用する磁石およびイオン装置 审中-公开
    利用离子设备磁体和离子装置

    公开(公告)号：JP2016521913A

    公开(公告)日：2016-07-25

    申请号：JP2016519682

    申请日：2014-06-13

    Applicant: バリアン・セミコンダクター・エクイップメント・アソシエイツ・インコーポレイテッド

    Inventor： バラクロウ、スコット ,  エス． バフ、ジェームス ,  エス． バフ、ジェームス

    IPC: H01J37/141 ,  H01L43/12

    CPC classification number: H01J37/3007 ,  H01F7/20 ,  H01F27/10 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/1475 ,  H01J37/3171 ,  H01J2237/002 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/1526 ,  H01J2237/303 ,  H01J2237/31701 ,  H05K7/20

    Abstract: 環状流体冷却材流路を有する磁石の概要を説明する。さまざまな例によると、貫通するように開口が設けられているイオンビームカプラの周囲に配置されている第1の磁石および第2の磁石を含む磁石が提供される。第1および第2の磁石はそれぞれ、内部に空洞を持つ金属製のコアと、金属製のコアの周囲に配置されている1または複数の導電性のワイヤの巻き回し部と、空洞内に挿入されるように構成されている環状コア部とを有し、空洞と環状コア部との間に環状流体冷却材流路が形成される。さらに、それぞれの環状コア部は第1の直径を有してよく、中央部分は第2の直径を有してよく、第2の直径は第1の直径よりも小さいとしてよい。他の実施形態も開示し請求する。

    Abstract translation: 与环形流体冷却剂流动通道磁体的描述进行说明。 根据各种实施例，包括第一磁体和设置在所述离子束耦合器开口的周缘的第二磁体的磁体被设置成穿过设置。 所述第一和第二磁体，金属芯与其中的空腔，并且所述一个或多个导线的缠绕部设置围绕金属芯，插入所述腔 并且在腔和环形铁心部之间形成有被构造成一个环形流体冷却剂流动路径中的环形芯部。 此外，每个环形芯部可以具有第一直径，中心部分可以具有第二直径，第二直径可以比第一直径小。 其他实施例中所公开的权利要求书。

    Charged particle beam device
    45.
    发明专利
    Charged particle beam device 有权
    充电颗粒光束装置

    公开(公告)号：JP2014135214A

    公开(公告)日：2014-07-24

    申请号：JP2013003054

    申请日：2013-01-11

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： OHASHI KENYOSHI ,  HAYATA YASUNARI ,  TAKAHASHI NORIJI ,  KAWANO HAJIME ,  KOMURO OSAMU

    IPC: H01J37/22 ,  G01B15/00 ,  H01J37/147 ,  H01L21/66

    CPC classification number: H01J37/222 ,  H01J37/1472 ,  H01J37/1475 ,  H01J37/20 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2806 ,  H01J2237/2809 ,  H01J2237/2817

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To solve such a problem that when acquiring an image of high magnification only in an arbitrary direction, in order to prevent shrinkage reduction by dispersing dose of fine pattern, deflection aberration due to deflection in the other direction in the plane coordinate axes is actualized.SOLUTION: Images of different vertical and horizontal pixel sizes are acquired by changing a plurality of combination conditions of the intensity ratio and rotation angle of a deflector. The intensity ratio and rotation angle are determined based on the variation of the image in the direction of larger pixel size. Deflection aberration can be reduced when performing measurement in the X direction with high accuracy, while extending the field of view in the Y direction.

    Abstract translation: 要解决的问题为了解决这样一个问题，当仅在任意方向上获得高倍率的图像时，为了防止由于精细图案的分散而引起的收缩减少，由于平面坐标中的另一个方向的偏转导致的偏转像差 轴实现。解决方案：通过改变偏转器的强度比和旋转角度的多个组合条件来获取不同垂直和水平像素大小的图像。 基于图像在较大像素大小的方向上的变化来确定强度比和旋转角度。 当在Y方向上延伸视野时，可以在X方向上以高精度进行测量，可以减小偏转像差。

    Integrable magnetic field compensation for use in scanning and transmission electron microscopes
    47.
    发明专利
    Integrable magnetic field compensation for use in scanning and transmission electron microscopes 有权
    用于扫描和传输电子显微镜的一体化磁场补偿

    公开(公告)号：JP2013016492A

    公开(公告)日：2013-01-24

    申请号：JP2012150279

    申请日：2012-07-04

    Applicant: Integrated Dynamics Engineering Gmbh ,  インテグレイテッド ダイナミクス エンジニアリング ゲーエムベーハー

    Inventor： DR PETER A KROPF

    IPC: H01J37/16 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/1475 ,  H01J37/09 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/26

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus and method for reducing influence of a magnetic interference field to a sample observation area in an electron microscope.SOLUTION: In a system 40 for magnetic field compensation, a chamber wall 21 of a sample chamber 20 in an electron microscope 10 is provided with an area to accommodate compensation coils 41 in each of directions X, Y, Z, and a magnetic field sensor 42 measures an external magnetic interference field in sensitive regions in the vicinity of a lens aperture 18 and a sample 30, to adjust and compensate for a magnetic field of each of the compensation coils 41.

    Abstract translation: 解决的问题：提供一种在电子显微镜中减少磁干扰场对样品观察区域的影响的装置和方法。 解决方案：在用于磁场补偿的系统40中，电子显微镜10中的样品室20的室壁21设置有在每个方向X，Y，Z和 磁场传感器42测量透镜孔18和样品30附近的敏感区域中的外部磁干扰场，以调整和补偿每个补偿线圈41的磁场。（C） 2013年，JPO＆INPIT

    Particle optical device with magnetic means
    48.
    发明专利
    Particle optical device with magnetic means 有权
    具有磁性的颗粒光学装置

    公开(公告)号：JP2010153382A

    公开(公告)日：2010-07-08

    申请号：JP2009291218

    申请日：2009-12-22

    Applicant: Carl Zeiss Nts Gmbh ,  カール・ツァイス・エヌティーエス・ゲーエムベーハーCarl Zeiss NTS GmbH

    Inventor： PREIKSZAS DIRK ,  STEIGERWALD MICHAEL ,  TOBIAS DANIEL ,  EISELE ANDREAS ,  MOMMSEN MOMME ,  DOENITZ DIETMAR ,  HENDRICH CHRISTIAN

    IPC: H01J37/147 ,  H01J37/05

    CPC classification number: H01J37/05 ,  H01J37/147 ,  H01J37/1475 ,  H01J2237/1523 ,  H01J2237/26

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a particle optical device with magnetic means, which overcomes a fault of a well-known device, reduces and/or stabilizes heat generation in a coil and reduces heat transfer from the coil to a polar plate. SOLUTION: In the particle optical device which is magnetic means having a particle source for generating at least one charged particle beam and two polar plates, the polar plates are disposed mutually spaced apart so that a charged particle passes through the polar plates at the time of operation, a groove is provided on the polar plates and a coil wire is arranged in the groove. When viewed from a cross section relative to an extending direction of the groove, the groove has a width in a surface area of the polar plate narrower than that in an area spaced apart from the surface. COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供具有克服公知装置的故障的磁性装置的粒子光学装置，减少和/或稳定线圈中的发热并且减少从线圈到极板的热传递 。 解决方案：在具有用于产生至少一个带电粒子束和两个极板的粒子源的磁性装置的粒子光学装置中，极板彼此间隔开设置，使得带电粒子通过极板 操作时间，在极板上设置槽，在槽内设置线圈线。 当从相对于槽的延伸方向的横截面观察时，所述槽的极板的表面积中的宽度比在与表面间隔开的区域中的宽度窄。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

    Charged particle beam microscopic method, and charged particle beam device
    49.
    发明专利
    Charged particle beam microscopic method, and charged particle beam device 有权
    充电粒子束微观方法和充电颗粒光束装置

    公开(公告)号：JP2008014850A

    公开(公告)日：2008-01-24

    申请号：JP2006187385

    申请日：2006-07-07

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： TOKIDA RURIKO ,  TAKAGUCHI MASANARI ,  INADA HIROMI

    IPC: G01B15/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/153 ,  H01J37/22 ,  H01J37/26 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66

    CPC classification number: H01J37/1475 ,  G06T5/006 ,  H01J37/153 ,  H01J37/222 ,  H01J37/263 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1526 ,  H01J2237/1536 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/28 ,  H01J2237/2802 ,  H01J2237/2818 ,  H01J2237/2826 ,  H01J2237/3045

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To measure and to correct with high accurately the geometric strain in an optional magnification, in a charged particle beam microscopic device. SOLUTION: A geometric strain in the first magnification is measured as an absolute strain, based on a standard sample having a periodic structure. A fine structure sample is photographed in the first magnification, with which the geometric strain is measured and in a second magnification with which the geometric strain is not measured. An expanded/contracted image, determined by expanding/contracting in an isotropic way the image in the first magnification up to the image in the second magnification is generated. Geometric strain in the second magnification is measured as relative strain, based on the expanded/contracted image. An absolute strain in the second magnification is determined, from the absolute strain in the first magnification and the relative strain in the second magnification. Thereafter, relative strain measurement is repeated, by replacing the second magnification with the first magnification, to thereby measure and correct the geometric strains at an arbitrary magnification. COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：在带电粒子束显微镜装置中，以可选择的倍率精确地测量和校正几何应变。 解决方案：基于具有周期性结构的标准样品，测量第一倍率中的几何应变为绝对应变。 在第一放大倍数拍摄精细结构样品，测量几何应变，并在未测量几何应变的第二倍率下拍摄。 通过以各向同性的方式进行扩展/收缩来确定扩展/缩小的图像，生成第一放大倍数中的图像直到第二放大率中的图像。 基于扩展/收缩图像，第二放大倍数中的几何应变被测量为相对应变。 从第一倍率的绝对应变和第二倍率的相对应变来确定第二倍率的绝对应变。 此后，通过用第一倍率代替第二倍率来重复相对应变测量，从而测量和校正任意放大倍率下的几何应变。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

    Analysis electromagnet
    50.
    发明专利
    Analysis electromagnet 有权
    分析电子

    公开(公告)号：JP2007329078A

    公开(公告)日：2007-12-20

    申请号：JP2006160991

    申请日：2006-06-09

    Applicant: Nissin Ion Equipment Co Ltd ,  日新イオン機器株式会社

    Inventor： DOI SHOJIRO

    IPC: H01J49/30 ,  H01J37/317

    CPC classification number: H01J49/30 ,  H01J37/1475 ,  H01J2237/055 ,  H01J2237/057 ,  H01J2237/152 ,  H01J2237/153 ,  H01J2237/31701

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an analysis electromagnet which has a relatively simple structure and can reduce deformation in a ribbon-like ion beam.
    SOLUTION: This analysis electromagnet 40 divides a magnetic pole 80 with a curved plane surface into three partial magnetic poles 81 to 83 along a travelling direction of an ion beam 2. In addition, it extends the gaps of the first and third partial magnetic poles 81, 83 from the entrance of the ion beam 2 toward the outside of the curve and extends the gap of the second partial magnetic pole 82 toward the inside of the curve.
    COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种分析电磁体，其具有相对简单的结构并且可以减少带状离子束的变形。 解决方案：该分析电磁铁40沿着离子束2的行进方向将具有弯曲平面的磁极80分成三个部分磁极81至83.另外，它延伸第一和第三部分的间隙 磁极81,83从离子束2的入口朝向曲线的外侧，并且使第二部分磁极82的间隙朝向曲线的内部延伸。 版权所有（C）2008，JPO＆INPIT

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