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发明专利
マルチレベルの自動的制限のエッチング方法审中-公开
Title translation: 多级自动限制的蚀刻方法

公开(公告)号：JP2014225638A

公开(公告)日：2014-12-04

申请号：JP2014032611

申请日：2014-02-24

Applicant: コミッサリアアレネルジーアトミークエオゼネルジザルタナテイヴ , Commissariat A L'energie Atomique Et Aux Energies Alternatives , コミッサリアアレネルジーアトミークエオゼネルジザルタナテイヴ , サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) , Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) , サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.)

Inventor： OLIVIER DESPLATS , CHEVOLLEAU THIERRY , MAXIME DARNON , CECILE GOURGON

IPC: H01L21/3065

CPC classification number: H01L21/3065 , H01L21/30621 , H01L21/76232 , H01L31/02167 , H01L31/022425 , H01L31/02363 , H01L31/02366 , H01L31/182 , Y02E10/50

Abstract: 【課題】材料の表面上で、特に傾斜側面を有するパターンの製造方法を提供する。【解決手段】Si基板の面の少なくとも二つのマスクされた領域を覆い、且つ少なくとも中間領域を画定するSiO2からなる保護マスク232を形成する段階と、各マスクされた領域から少なくとも一つの傾斜側面110を、少なくとも一つの中間領域の上に、プラズマ形成によってエッチングする段階と、を含み、エッチングする段階では、エッチングガスであるCl2とO2ガスに、傾斜側面が互いに合わされるときに、エッチングの自動的制限を引き起こす傾斜側面の上の連続的な不動態化層が形成されるように、SiCl4ガスを追加してエッチングする。【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种在材料表面上制造特别是具有倾斜侧面的图案的方法。解决方案：多级自动限制的蚀刻方法包括以下步骤：形成保护掩模232，其形成为在Si衬底的表面上至少覆盖两个掩模区域并限定至少一个中间区域; 并且通过等离子体形成在至少一个中间区域上蚀刻来自每个掩蔽区域的至少一个倾斜侧面110。在蚀刻步骤中，当倾斜侧面朝向蚀刻气体即Clgas和Ogas时，通过添加SiCl气体进行蚀刻，使得在倾斜侧面上形成连续钝化层，引起自动限制蚀刻。

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发明专利
イソシアネートの連続的オリゴマー化の方法有权
Title translation: 连续低聚异氰酸酯的方法

公开(公告)号：JP2014205854A

公开(公告)日：2014-10-30

申请号：JP2014142501

申请日：2014-07-10

Applicant: サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) , Centre National De La Recherche Scientifique (Cnrs) , サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) , インスティトゥート・ナスィオナル・ポリテクニク・ド・トゥールーズInstitut National Polytechnique De Toulouse , Institut National Polytechnique De Toulouse , インスティトゥート・ナスィオナル・ポリテクニク・ド・トゥールーズInstitut National Polytechnique De Toulouse , ベンコレックス・フランスVencorex France , Vencorex France , ベンコレックス・フランスVencorex France

Inventor： HOCINE KABIR , JOHANNES SCHWARZ , CHRISTOPHE GOURDON , SEBASTIEN ELGUE

IPC: C08G18/02 , C08G18/18

CPC classification number: C08G18/1875 , C07D251/34 , C08G18/022 , C08G18/092

Abstract: 【課題】触媒として、非常に強力な反応性をもつ触媒、とりわけコリンなどの4級アンモニウムヒドロオキサイドを用いて、前記使用触媒の非常に強力な反応性にも関わらず容易に用いることができる、ポリイソシアネートを調製するための新規な方法を提供すること。【解決手段】イソシアネートのオリゴマー化の方法であって、触媒存在下でイソシアネートモノマーを、カルバメート基及び/又はアロファネート基を有するポリイソシアネートへ連続的に転化する工程を含み、特定の熱交換係数が約200kW/m3/℃以上、及び好ましくは約500kW/m3/℃〜約4000kW/m3/℃である反応器中で前記転化工程が行われる、該方法。【選択図】なし

Abstract translation: 要解决的问题：为了提供一种通过使用具有非常强反应性的催化剂，特别是季铵氢氧化物如胆碱来制备多异氰酸酯的新方法，即使使用的催化剂具有非常强的反应性，易于应用。解决方案：异氰酸酯低聚的方法包括在催化剂存在下将异氰酸酯单体连续转化成含有氨基甲酸酯和/或脲基甲酸酯基团的多异氰酸酯的步骤。转化步骤在具有大于或等于约200kW / m /℃，优选约500kW / m 3℃至约4,000kW / m 2℃的比热交换系数的反应器中进行。

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发明专利
自立支持型動的高分子膜、その製造方法及びその使用有权
Title translation: 自支持的动态聚合物膜，它们的制备和它们的用途

公开(公告)号：JP5612072B2

公开(公告)日：2014-10-22

申请号：JP2012502737

申请日：2010-03-11

Applicant: サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク , サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク

Inventor： ギハネ・ナスル , ミハイル−ドゥミトル・バルボワ , クリストフ・シャルメット , ジョゼ・グレゴリオ・サンチェス・マルカノ

IPC: B01D71/72 , B01D53/22 , B01D71/52 , B01D71/58 , B01D71/62 , B01D71/82 , C08G73/00

CPC classification number: B01D69/14 , B01D71/52 , Y02C10/04 , Y02C10/10

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发明专利
ピクセル細胞回路および移植片审中-公开

公开(公告)号：JP2018512256A

公开(公告)日：2018-05-17

申请号：JP2018505528

申请日：2016-04-06

Applicant: ピクシウム・ヴィジョン , ユニヴェルシテ・ピエール・エ・マリ・キュリ・(パリ・6) , サントルナスィオナルドラルシェルシュスィアンティフィク(セ.エン.エル.エス.) , アンセルム(アンスティチュート・ナシオナル・ドゥ・ラ・サンテ・エ・ドゥ・ラ・ルシェルシュ・メディカル)

Inventor： ダニエル・マトリン , クリストフ・ポッシュ , ベンジャマン・リャド・ベノスマン

IPC: A61N1/36 , A61F2/14

CPC classification number: H04N5/14 , A61N1/0543 , A61N1/36046 , H04N9/81

Abstract: ピクセル細胞回路は、電極と、光刺激に応答して刺激信号を電極に出力するために電極に電気的に結合される1つまたは複数の主感光性素子と、シャント配置であって、1つまたは複数の感光性素子にわたって並列に電気的に結合されるシャントスイッチ、およびシャントスイッチに動作可能に結合され、ピクセル細胞において受け取られる入射光に応答してシャントスイッチを開状態に置き、もし入射光が、ピクセル細胞において受け取られないならば、シャントスイッチを閉状態に置くために構成される制御配置を備える、シャント配置とを備える。