ナノワイヤの製造方法
    1.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021195265A

    公开(公告)日:2021-12-27

    申请号:JP2020100137

    申请日:2020-06-09

    IPC分类号: B82Y40/00 C01G9/02

    摘要: 【課題】基材上に直接ナノワイヤを成長させるナノワイヤの製造方法を提供する。 【解決手段】ナノワイヤの製造方法は、樹脂からなる基材10を用意する工程と、基材の表面をプラズマ処理して活性化する工程と、基材を水熱合成溶液に浸漬させて、金属酸化物からなるナノワイヤを、活性化した基材の表面に直接成長させる工程とを含む。 【選択図】図4

    圧着ヘッド、これを用いた実装装置および実装方法

    公开(公告)号:JP2021163774A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2020060779

    申请日:2020-03-30

    IPC分类号: H01L21/60 H05K3/34 H01L21/603

    摘要: 【課題】 半導体チップ等の電子部品を熱硬化性接着剤を介して基板に積層状態で仮固定してから熱圧着を行うのに際して、基板の材質が異なっても、夫々の条件で接合品質に優れた実装が行える圧着ヘッド、これを用いた実装装置および実装方法提供すること。 【解決手段】 電子部品を基板に実装する圧着ヘッドであって、ヒータを内蔵するヘッド本体と、前記ヘッド本体の下部に装着された電子部品を押圧する押圧部材と、前記ヘッド本体と前記押圧部材との間に介在する弾性部材とをを有するアタッチメントを備え、前記押圧部材の前記電子部品と対向する面に、前記押圧部材とは異なる材料の積層体を設けた圧着ヘッド、これを用いた実装装置および実装方を提供する。 【選択図】 図1

    設計支援装置および設計支援方法

    公开(公告)号:JP2021162978A

    公开(公告)日:2021-10-11

    申请号:JP2020061886

    申请日:2020-03-31

    摘要: 【課題】樹脂成形品のそり変形の対策案を算出することができる設計支援装置および設計支援方法を提供する。 【解決手段】 形状モデルM1を生成するモデル生成部11と、形状モデルM1を複数の微小要素Eに分割した分割モデルM2を生成する分割モデル生成部12と、離散化解析方法によって分割モデルM2のそり変形に対する少なくとも一部の微小要素Eのそり感度Sを算出するそり変形解析部13と、そり感度Sに基づいて分割モデルM2におけるリブLの生成起点の候補とリブLの延伸方向Deを算出するリブ位置算出部14と、を有する。リブ位置算出部14は、分割モデルM2における任意の範囲において、そり感度Sが最大値である位置を前記リブLの生成起点に算出し、リブLの生成起点における任意の方向である第1方向、第2方向及び第3方向のうち、変曲値が最も大きい方向を前記リブLの延伸方向Deに設定する。 【選択図】図2

    ガスセンサ
    6.
    发明专利
    ガスセンサ 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021156740A

    公开(公告)日:2021-10-07

    申请号:JP2020057519

    申请日:2020-03-27

    IPC分类号: G01N27/409 G01N27/41

    摘要: 【課題】 細管形状の固体電解質を片持ち状態で保持してなるガスセンサであっても、固体電解質に加わる機械的負荷を抑えた状態で電極温度が測定でき、安定して濃度測定を可能とする。 【解決手段】 被測定ガス中の少なくとも1つの成分濃度を測定するためのガスセンサであって、先端が閉塞した細管状に形成されたイオン電導性の固体電解質からなるセンサ管と、前記センサ管の先端側の外側に形成され、被測定ガスに接する測定電極と、前記センサ管の内側に形成され、基準ガスに接する基準電極と、前記センサ管を加熱するヒータと、前記測定電極近傍の温度を測定する温度センサとを備え、前記温度センサを、前記センサ管ではなく前記ヒータに設けていることを特徴とするガスセンサを提供する。 【選択図】 図4

    チップ転写装置
    8.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021141181A

    公开(公告)日:2021-09-16

    申请号:JP2020037338

    申请日:2020-03-05

    摘要: 【課題】 レーザーリフトオフ法により転写基板に搭載された複数のチップ部品を転写先基板に転写するるチップ転写において、転写基板の交換に要する時間が短く、生産性に優れたチップ転写装置を提供すること。 【解決手段】 転写先基板を保持する基板ステージと、複数のチップ部品が配置された前記転写基板の周縁部を把持して前記転写基板を保持し、前記チップ部品を前記転写先基板と対向配置させる、転写基板保持手段と、前記転写基板越しに前記チップ部品に向けてレーザー光を照射するレーザー光学系と、前記転写基板保持手段への転写基板脱着を行う転写基板脱着部とを備え、前記転写基板保持手段を複数有し、一つの転写基板保持手段が前記基板ステージ上に位置するとき、他の少なくとも一つの転写基板保持手段が転写基板脱着部に位置するチップ転写装置を提供する。 【選択図】 図2

    平行度確認用治具および平行調節方法

    公开(公告)号:JP2021134069A

    公开(公告)日:2021-09-13

    申请号:JP2020032983

    申请日:2020-02-28

    发明人: 恩地 卓也

    摘要: 【課題】1組のロールの各軸芯が互いに平行となるようにロールの傾きを容易に調節することを可能とする平行度確認用治具およびこの治具を用いた平行度調節方法を提供する。 【解決手段】第1のロール3aと第2のロール3bである1組のロール間において、1組のロールのそれぞれの軸芯Rが互いに平行となるようにロールの傾きを調節するために用いる平行度確認用治具100であって、光線を照射する照射部と照射部により照射された光線が通過するアパーチャーを含むアパーチャープレート12とを有する光線照射装置1と、照射部により照射された光線を反射する平坦な反射面を含む反射部を有する光線反射ユニットとを備えており、光線照射装置は、照射部により照射される光線が第1のロールの軸芯の方向と垂直になるように第1のロール上に配置され、光線反射ユニットは、反射部の反射面が第2のロールの軸芯と平行になるように第2のロール上に配置される。 【選択図】図1

    基材吸着装置
    10.
    发明专利
    基材吸着装置 审中-公开

    公开(公告)号:JP2021134026A

    公开(公告)日:2021-09-13

    申请号:JP2020029823

    申请日:2020-02-25

    IPC分类号: B65H23/02 B65H20/02

    摘要: 【課題】ロールツーロールで連続搬送される基材をシワなく吸着固定することが可能な基材吸着装置を提供する。 【解決手段】部分剥離部材15を有し、部分剥離部材15の基材Wと接触する面は、基材Wの幅方向における基材Wと接触する部分の間に底部15aを備え底部15aから基材Wの端部との接触位置に近づくほど位置が高くなる形状を有し、部分剥離部材15が部分剥離位置まで上昇したとき底部15aは吸着面111より位置が高く、部分剥離部材15は、一度吸着面111の全面が基材Wを吸着した後、部分剥離位置まで上昇し、その後基材Wと離間するまで下降する。 【選択図】図4