二酸化チタン微粒子の有機溶剤分散体及びその製造方法、並びにその用途

    公开(公告)号:JPWO2021106747A1

    公开(公告)日:2021-12-09

    申请号:JP2020043249

    申请日:2020-11-19

    摘要: 二酸化チタン微粒子を有機溶剤に高度に分散させた分散体及びその製造方法を提供する。 二酸化チタン微粒子と、有機溶剤と、シランカップリング剤と、塩基性吸着基を有する分散剤とを少なくとも含み、前記シランカップリング剤に対する前記分散剤の質量比が15質量%〜75質量%である。また、前記シランカップリング剤と前記分散剤との総量の質量比が二酸化チタン微粒子に対して10質量%〜40質量%が好ましい。二酸化チタン微粒子と、上記所定量のシランカップリング剤と塩基性吸着基を有する分散剤とを、有機溶剤に分散させて製造する。

    アンプル容器、およびアンプル容器の製造方法

    公开(公告)号:JP2021120279A

    公开(公告)日:2021-08-19

    申请号:JP2020013790

    申请日:2020-01-30

    IPC分类号: A61J1/06 B65D39/00 B65D1/09

    摘要: 【課題】密栓部分での液漏れを抑制することができるアンプル容器を実現する。 【解決手段】本発明のアンプル容器(10)は、先端に開口(1d)を有する頭部(1a)と、胴部(1c)と、頭部(1a)と胴部(1c)を連結し、頭部(1a)および胴部(1c)よりも細い括れ部(1b)と、を有する、プラスチック製の容器本体(1)と、開口(1d)を閉塞する、前記頭部(1a)に溶着されたプラスチック製の蓋部(2)と、を備えた構成である。 【選択図】図1

    砥粒及び化学機械研磨用組成物
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2021027223A

    公开(公告)日:2021-02-22

    申请号:JP2019145156

    申请日:2019-08-07

    摘要: 【課題】人体への毒性が強い四酸化ルテニウムの発生を抑制するとともに安定性にも優れ、半導体基板(特にルテニウム膜及びシリコン酸化膜含有基板)を高速研磨できる化学機械研磨用組成物、及びこれに用いるための砥粒を提供すること。 【解決手段】本発明に係る砥粒は、ルテニウムを含む基板を研磨するために用いられる、酸化アルミニウム及び酸化ケイ素によって酸化チタン粒子を修飾してなる砥粒であり、前記砥粒中の、酸化チタンのモル数をM Ti 、酸化アルミニウムのモル数をM Al 、酸化ケイ素のモル数をM Si としたときに、M Al /M Ti の値が0.004以上2.35以下であり、かつ、M Si /M Ti の値が0.007以上8.00以下である。 【選択図】なし

    二酸化チタン水性分散体及びその製造方法

    公开(公告)号:JPWO2019146783A1

    公开(公告)日:2021-01-07

    申请号:JP2019002744

    申请日:2019-01-28

    摘要: 高い分散性を有し、凝集や粗粒の少ない二酸化チタン水性分散体及びその製造方法を提供する。 高級脂肪酸又はその塩等の疎水性化合物を表面に有する二酸化チタン粒子と、水性分散媒と、HLB値が10以上の非イオン性界面活性剤と、アルカノールアミン等の塩基性化合物とを含み、pHが8.5〜13の範囲である。疎水性化合物を表面に有する二酸化チタン粒子と、水性分散媒と、HLB値が10以上の非イオン性界面活性剤と、塩基性化合物とを混合して、前記水性分散体のpHを8.5〜13の範囲とする工程を有する。

    除草組成物
    9.
    发明专利
    除草組成物 审中-公开

    公开(公告)号:JP2020122026A

    公开(公告)日:2020-08-13

    申请号:JP2020090252

    申请日:2020-05-25

    摘要: 【課題】 現在、数多くの除草組成物が開発され使用されているが、防除の対象となる雑草を初めとする望ましくない植物を防除するには必ずしも十分でない場合があり、高活性な除草組成物の出現が望まれている。 【解決手段】(A)メトブロムロン又はその塩と(B)S−メトラクロール、プロメトリン、ペンディメタリン及びトリフルラリンからなる群より選ばれる少なくとも1種の除草性化合物、又はその塩とを含有する除草組成物並びにそれを用いた除草方法。 【選択図】なし