KR20210024736A - Microscope System by Using Continuous Wavelength Tunable Laser

    公开(公告)号:KR20210024736A

    公开(公告)日:2021-03-08

    申请号:KR1020190104231A

    申请日:2019-08-26

    发明人: 엄태중

    摘要: 연속 파장 레이저 파장 변조를 이용한 현미경 시스템을 개시한다.
    본 실시예의 일 측면에 의하면, 기 설정된 파장대역 내에서 하나의 파장을 갖는 레이저를 조사하는 광원부와 상기 광원부로부터 조사된 레이저를 인가받아 서로 다른 위상값을 갖는 패턴을 생성하고, 생성된 패턴을 파장에 따라 이격시켜 샘플로 조사하는 광학계와 상기 광학계를 거쳐 샘플로부터 반사된 광을 수광하는 수광부와 상기 광원부, 광학계 및 수광부의 동작을 제어하며, 상기 수광부가 수광한 광의 간섭 패턴을 분석하여 샘플의 성질을 분석하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템을 제공한다.

    KR20210024734A - Microscope System by Using Wavelength Tunable Laser

    公开(公告)号:KR20210024734A

    公开(公告)日:2021-03-08

    申请号:KR1020190104224A

    申请日:2019-08-26

    发明人: 엄태중

    摘要: 다파장 레이저 파장 변조를 이용한 현미경 시스템을 개시한다.
    본 실시예의 일 측면에 의하면, 복수의 파장의 레이저를 조사하는 광원부와 상기 광원부로부터 조사된 레이저를 인가받아 서로 다른 위상값을 갖는 패턴을 생성하고, 생성된 패턴을 파장에 따라 이격시켜 샘플로 조사하는 광학계와 상기 광학계를 거쳐 샘플로부터 반사된 광을 수광하는 수광부와 상기 광원부, 광학계 및 수광부의 동작을 제어하며, 상기 수광부가 수광한 광의 간섭 패턴을 분석하여 샘플의 성질을 분석하는 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 현미경 시스템을 제공한다.

    KR102238472B1 - Method for correcting error and sensor system

    公开(公告)号:KR102238472B1

    公开(公告)日:2021-04-09

    申请号:KR1020190044508A

    申请日:2019-04-16

    IPC分类号: G06N3/08 G06N3/04

    CPC分类号: G06N3/08 G06N3/04

    摘要: 오차 보정 방법이 개시된다. 본 발명의 실시 예에 따른 오차 보정 방법은, 공간 센서가 공간 내 오브젝트의 포즈를 측정한 제1 측정값을 획득하는 단계, 정밀 센서가 상기 공간 내 상기 오브젝트의 포즈를 측정한 제2 측정값을 획득하는 단계, 및, 상기 공간 센서의 포즈의 측정 값, 상기 제1 측정값 및 상기 제1 측정값에 대응하는 제2 측정값을 이용하여 인공 신경망을 트레이닝 하는 단계를 포함한다.