公开(公告)号：JP2020120109A

公开(公告)日：2020-08-06

申请号：JP2020002723

申请日：2020-01-10

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  イ・ジュンウン ,  チャン・ピョンファ

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】シリコン酸化膜に対するエッチング速度を低くし、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。 【解決手段】シリコン基板エッチング溶液は、溶液中のシラン化合物(シリコン)の濃度を調節することにより、シラン化合物(シリコン)窒化膜をエッチングする際、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020004965A

公开(公告)日：2020-01-09

申请号：JP2019116521

申请日：2019-06-24

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  ムン・ヨンスン ,  イ・ジュンウン ,  チャン・ピョンファ

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/306

Abstract: 【課題】本発明は、シリコン添加剤を使用することにより、シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対する選択比を上げることができるシリコン基板エッチング溶液を提供することを目的とする。また、本発明は、高温安全性の高いシリコン添加剤を使用することで、高温でシリコン添加剤が分解されて変色することを防止できるシリコン基板エッチング溶液を提供することを目的とする。 【解決手段】リン酸及び所定の第1の化学式(明細書中の化1)及び所定の第2の化学式(明細書中の化2)で表される化合物のうち少なくとも一つを含むシリコン添加剤を含むシリコン基板エッチング溶液が提供される。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021027338A

公开(公告)日：2021-02-22

申请号：JP2020115817

申请日：2020-07-03

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  イ・ジュンウン

IPC: H01L21/306 ,  H01L27/115 ,  H01L27/11582 ,  H01L27/11556 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】エッチング液の保管安全性を向上するシリコン窒化膜エッチング溶液の保管安全性に優れるシリコン窒化膜エッチング溶液、及びこれを用いて行われる半導体素子の製造方法を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液を用いた半導体素子の製造方法において、化合物を用いたシリコン窒化膜エッチング溶液によるにエッチング条件で、積層構造体20上のシリコン酸化膜11に対しシリコン窒化膜12に対するエッチング選択比を向上させるとともに、水または酸の条件で、保管安全性を向上させる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2021015967A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2020115806

申请日：2020-07-03

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  イ・ジュンウン

IPC: H01L21/306 ,  H01L27/115 ,  H01L27/11582 ,  H01L27/11556 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】シリコン窒化膜エッチングでシリコン系パーティクルの発生を防止する技術を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液及びこれを用いた半導体素子の製造方法であって、同一体積を基準に、球状の第1のコロイダルシリカ粒子に対して、表面積の増加した第2のコロイダルシリカ粒子を含ませることによって、高温でもコロイダルシリカ粒子が凝集する現象を防ぎ、シリコン系パーティクルの発生を防ぎ、積層構造体20のエッチング条件で、シリコン酸化膜12に対しシリコン窒化膜11に対するエッチング選択比を向上させる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2020072274A

公开(公告)日：2020-05-07

申请号：JP2019198826

申请日：2019-10-31

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  ムン・ヨンスン ,  イ・ジュンウン ,  チャン・ピョンファ

IPC: H01L21/306 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】シリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させることができるシリコン基板エッチング溶液及びこれを用いて行われるエッチング工程を含む半導体素子の製造方法を提供する。 【解決手段】シリコン基板エッチング溶液において、シリコン基板エッチング溶液のうちシラン化合物(シリコン)の濃度を調節することにより、シリコン窒化膜のエッチング時にシリコン酸化膜対シリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2020013991A

公开(公告)日：2020-01-23

申请号：JP2019116322

申请日：2019-06-24

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  ムン・ヨンスン ,  イ・ジュンウン

IPC: H01L21/308 ,  H01L21/306

Abstract: 【課題】本発明は、シリコンエッチング溶液のうちシリコン系パーティクルが生成することを抑制できるシリコン基板エッチング溶液を提供することを目的とする。 【解決手段】無機酸水溶液、所定の第1の化学式(明細書中の化1)又は所定の第2の化学式(明細書中の化2)で表されるシリコン添加剤、及び所定の化学式(明細書中の化3)で表されるイミダゾリウムリン酸塩を含むシリコン基板エッチング溶液が提供される。無機酸水溶液は、硫酸、窒酸、リン酸、ケイ酸、フッ酸、ホウ酸、塩酸、過塩素酸、無水りん酸、ピロリン酸、及びポリリン酸から選択される少なくとも一つの無機酸を含む水溶液である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021072437A

公开(公告)日：2021-05-06

申请号：JP2020156728

申请日：2020-09-17

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  ヤン・ジュンホ ,  ユ・ヨンサグ ,  イ・ジュンウン ,  チャン・ピョンファ

IPC: H01L27/11556 ,  H01L27/11582 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L21/306

Abstract: 【課題】シリコン化合物が容易に分解されず、パーティクルの発生を防ぎ、シリコン酸化膜に対しシリコン窒化膜に対する選択比を増加させるシリコン窒化膜エッチング溶液を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液は、リン酸水溶液及び、下式で表される化合物を含む。下式において、R 1 及びR 2 は、それぞれ独立してC 1 −C 12 のアルキル基、アルキルアルコール基、アルキルアミン基、シクロアルキル基及びC 6 −C 30 のアリール基から選択され、Xは、水素、ハロゲン、ヒドロキシ基、アミン基及びアルコキシ基から選択され、nは、1〜3である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021015970A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2020115813

申请日：2020-07-03

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  イ・ジュンウン

IPC: H01L21/306 ,  H01L27/115 ,  H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L27/11582 ,  H01L27/11556 ,  H01L21/308

Abstract: 【課題】シリコン酸化膜に対しシリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させるシリコン窒化膜エッチング溶液及びこれを用いて行われる半導体素子の製造方法を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液を用いた半導体素子の製造方法において、コロイダルシリカ粒子らの間にアミノ酸系、チオエステル系(thioester)又はエステル系基を導入することによって、シリコン系パーティクルの発生を防ぎ、シリコン酸化膜に対しシリコン窒化膜に対するエッチング選択比を向上させる。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021015968A

公开(公告)日：2021-02-12

申请号：JP2020115809

申请日：2020-07-03

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  クォン・テスー ,  キム・ミョンヒョン ,  イ・ジュンウン

IPC: H01L21/306

Abstract: 【課題】シリコン酸化膜に対し選択比を向上できるシリコン窒化膜エッチング溶液を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液は、リン酸水溶液及び下式で表される化合物を含む。 X1〜X3は、C1−C20アルコキシ、ヒドロキシ基及びハロゲン、R1〜R3は、水素、C1−C20アルキル基、C6−C12シクロアルキル、少なくとも一つのヘテロ原子を含むC2−C10ヘテロアルキル、C2−C10アルケニル、C2−C10アルキニル、C1−C10ハロアルキル、C1−C10アミノアルキル、アリール、ヘテロアリール、アルアルキル、及びハロゲンから選択される。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2021072436A

公开(公告)日：2021-05-06

申请号：JP2020156587

申请日：2020-09-17

Applicant: オーシーアイ カンパニー リミテッド ,  OCI Company Ltd.

Inventor： ユ・ホソン ,  キム・ミョンヒョン ,  ヤン・ジュンホ ,  イ・ジュンウン ,  チャン・ピョンファ

IPC: H01L21/336 ,  H01L29/788 ,  H01L29/792 ,  H01L27/11553 ,  H01L27/11582 ,  H01L21/306

Abstract: 【課題】低温では容易に分解されず、高温のエッチング条件では、容易に分解されて、シリコン系パーティクルとしての成長を防ぎ、シリコン酸化膜に対しシリコン窒化膜に対する選択比を増加させることのできるシリコン窒化膜エッチング溶液を提供する。 【解決手段】シリコン窒化膜エッチング溶液は、リン酸水溶液及び下式で表される化合物のうち少なくとも一つを含む、。下式において、X 1 は、それぞれ独立して窒素、酸素及び硫黄から選択され、Y 1 は、それぞれ独立して水素、ハロゲン、アルコキシ基、アミン及びヒドロキシ基から選択され、aは、それぞれ独立して1〜4である。 【選択図】なし