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公开(公告)号：JP5880553B2
公开(公告)日：2016-03-09
申请号：JP2013521510
申请日：2012-05-30
申请人： コニカミノルタ株式会社
CPC分类号： B65H18/103 , B65H2301/5143 , B65H2515/805 , B65H2801/61
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公开(公告)号：JP6052173B2
公开(公告)日：2016-12-27
申请号：JP2013519446
申请日：2012-05-29
申请人： コニカミノルタ株式会社
IPC分类号： B65H23/038
CPC分类号： B65G49/064 , B65H18/103 , B65H23/02 , B65H23/038 , B65H2404/15212 , B65H2553/412 , B65H2557/264
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公开(公告)号：JP2017002334A
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：JP2015114138
申请日：2015-06-04
申请人： コニカミノルタ株式会社
摘要： 【課題】成膜ムラの発生を防止することのできる保持基板およびこれを用いた成膜方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る保持基板1は、ガラス製または樹脂製の基板2の一方の面に、前記成膜を行う可撓性基板4を剥離可能に固定する粘着剤層3を備えており、この粘着剤層3は、前記可撓性基板4において成膜が予定されている領域に対応した形状で形成された粘着性を有さない非粘着領域31と、前記非粘着領域31以外の粘着性を有する粘着領域32と、を有してなり、且つ、前記粘着領域32は、前記粘着剤層3に前記可撓性基板4を固定したときに前記非粘着領域31と前記粘着剤層3の側面とを連通させる凹部33を有している。本発明に係る成膜方法は、前記保持基板1を用いた成膜方法であって、前記粘着剤層3と前記可撓性基板4の一方の面42を固定した後、前記可撓性基板4の他方の面41にマスク5を配置し、減圧乃至真空条件下で成膜を行う。 【選択図】図1
摘要翻译： 为了提供一个夹持基片，并使用能够防止在成膜不均匀的发生的相同的膜形成方法。 根据本发明提供有压敏粘合剂层3以可释放的保持基板1，在由树脂制成2的玻璃或衬底的一个表面上，固定柔性基板4的沉积 笼，粘接剂层3，非粘着性区域31不具有膜对应于预计形成的形状粘性在柔性基板4的面积，比所述非粘接区域31之外 具有粘接性的粘接区32，它有一个，和粘合剂区32，所述非粘合区31与柔性基板4固定到压敏粘合剂层3时，粘合剂 它有一个凹部33，与层3的侧面连通。 根据本发明的成膜方法，提供了一种薄膜用夹持基片1的形成方法，该一个面42固定柔性基板4和粘接剂层3中，挠性基板的后 掩模5在真空中设置的4层进行成膜的另一表面41上，以真空条件。 点域1
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5.发明专利長尺基材搬送装置、これを備える有機エレクトロルミネッセンス素子の製造装置、および、長尺基材位置調整方法、これを含む有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法。 有权细长基体材料输送装置，制造装置的有机电致发光装置，其包括相同的，并且，长衬底位置调整方法，包含其的有机电致发光器件的制造方法。
公开(公告)号：JP5987585B2
公开(公告)日：2016-09-07
申请号：JP2012205207
申请日：2012-09-19
申请人： コニカミノルタ株式会社
IPC分类号： H05B33/10 , H01L51/50 , B65H23/038 , B65H23/022 , B65H23/14
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公开(公告)号：JP5821853B2
公开(公告)日：2015-11-24
申请号：JP2012530629
申请日：2011-08-16
申请人： コニカミノルタ株式会社
CPC分类号： H01L51/0097 , H01L51/0029 , H05B33/10 , H01L2251/5338 , H01L51/56 , Y02E10/549 , Y02P70/521
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