公开(公告)号：JP6194774B2

公开(公告)日：2017-09-13

申请号：JP2013236336

申请日：2013-11-14

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 山中 一広 ,  須田 健資 ,  魚山 大樹

IPC: C08G73/10 ,  B01D71/64

CPC classification number: B01D71/64 ,  B01D53/228 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/105 ,  C08G73/1067 ,  C08G73/1071 ,  C08L79/08 ,  B01D63/023 ,  B01D65/108 ,  B01D67/0016 ,  B01D67/0018 ,  B01D71/027

公开(公告)号：JP5929679B2

公开(公告)日：2016-06-08

申请号：JP2012222769

申请日：2012-10-05

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 小川 毅 ,  中辻 惇也 ,  山中 一広

IPC: G03F7/075 ,  H01L21/027 ,  C08L83/12 ,  C08K5/42 ,  C08G77/06 ,  C08L83/04

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C08L83/04 ,  C08L83/12 ,  C09D183/04 ,  C09D183/06 ,  C09D183/08 ,  C09D5/00 ,  G03F7/168 ,  H01L21/02126 ,  C08G77/46 ,  C08G77/80 ,  C08K5/5419

公开(公告)号：JP5768320B2

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：JP2010033260

申请日：2010-02-18

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 磯野 芳美 ,  成塚 智 ,  七井 秀寿 ,  山中 一広

IPC: C08G73/22 ,  C08G63/682 ,  C08G69/42

CPC classification number: C07C59/64 ,  C07C69/65 ,  C07C69/734 ,  C08G63/6826 ,  C08G69/42 ,  C08G73/06 ,  C08G73/1039 ,  C08G73/22

公开(公告)号：JP2015129908A

公开(公告)日：2015-07-16

申请号：JP2014145650

申请日：2014-07-16

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 情野 真 ,  山中 一広 ,  小田 雅文 ,  中辻 惇也

IPC: G03F7/039 ,  G03F7/023 ,  H01L21/027 ,  C08G77/24 ,  G03F7/075

CPC classification number: G03F7/0757 ,  C09D183/04 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/0233 ,  G03F7/168 ,  G03F7/20 ,  G03F7/322 ,  G03F7/40

Abstract: 【課題】高い耐熱性と耐熱透明性を有する膜およびその原料であるポジ型感光性樹脂組成物を提供する。さらに、前記膜を有する電子部品を提供する。 【解決手段】(A)一般式(1):[(R X ) b R 1 m SiO n/2 ](1)[式中、R X は (Xはそれぞれ独立に、水素原子または酸不安定性基であり、aは1〜5の整数である。)であり、bは1〜3、mは0〜2、nは1〜3の整数であり、b+m+n=4である。]で表される構造単位を少なくとも含むポリシロキサン化合物、(B)光酸発生剤もしくはキノンジアジド化合物および(C)溶剤を少なくとも含むポジ型感光性樹脂組成物。 【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供：具有高耐热性和高耐热透明性的膜和作为膜的成分的正性感光性树脂组合物; 和包含该膜的电子部件。解决方案：正型感光性树脂组合物至少含有（A）至少含有由[（R）RSiO]定义的通式（1）表示的结构单元的聚硅氧烷化合物，其中R表示基团 如图所示，每个X独立地表示氢原子或酸不稳定基团，表示1-5的整数，b表示1-3的整数，m表示0-2的整数，n表示整数 如果满足b + m + n = 4，则为1-3。 （B）光酸产生剂或醌二叠氮化合物; 和（C）溶剂。

公开(公告)号：JPWO2020090746A1

公开(公告)日：2021-10-14

申请号：JP2019042183

申请日：2019-10-28

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 杉田 豊 ,  片村 友大 ,  中辻 惇也 ,  山中 一広 ,  増渕 毅

IPC: C08G77/24 ,  G03F7/023 ,  G03F7/075 ,  G03F7/039 ,  G03F7/20 ,  C08L83/08

Abstract: 式(1)で表される構成単位と、式(2)および式(3)の少なくとも一方の構成単位と、を含むポリシロキサン化合物と、溶剤と、を含むポリシロキサン組成物。 [(R x ) b R 1 m SiO n/2 ] (1) [(R y ) c R 2 p SiO q/2 ] (2) [SiO 4/2 ] (3) ここで、R x は、式(1a) で表される一価の基(Xは水素原子または酸不安定性基、aは1〜5の整数、破線は結合手を表す)であり、R y は、エポキシ基、オキセタン基、アクリロイル基、メタクリロイル基のいずれかを含む炭素数1〜30の一価の有機基である。 【選択図】なし

公开(公告)号：JPWO2019167771A1

公开(公告)日：2021-03-18

申请号：JP2019006430

申请日：2019-02-21

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 中辻 惇也 ,  山中 一広

IPC: G03F7/26 ,  C08G77/24 ,  G03F7/20 ,  G03F7/11

Abstract: 多層レジスト法における露光時の反射防止機能を有し、ドライエッチング時にフッ素系ガスのプラズマに対してはエッチング速度が速く、酸素系ガスのプラズマに対しては遅い珪素含有層を形成するための珪素含有層形成組成物を提供する。式(1)で表される構造単位を含むポリシロキサン化合物(A)と、溶剤(B)を含む、珪素含有層形成組成物。 [(R 1 ) b R 2 m SiO n/2n/2 ] (1) [式中、R 1 は下式で表される基である。 【化21】 (aは1〜5の整数である。波線は交差する線分が結合手であることを示す。) R 2 はそれぞれ独立に、水素原子、炭素数1以上、3以下のアルキル基、フェニル基、ヒドロキシ基、炭素数1以上、3以下のアルコキシ基または炭素数1以上3以下のフルオロアルキル基であり、bは1〜3の整数、mは0〜2の整数、nは1〜3の整数であり、b+m+n=4である。]

公开(公告)号：JP2020094197A

公开(公告)日：2020-06-18

申请号：JP2019214828

申请日：2019-11-28

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 萩原 祐樹 ,  河合 亘 ,  関矢 雄貴 ,  山中 一広 ,  松永 佳

IPC: C08J7/02 ,  C08J5/18

Abstract: 【課題】 シルクフィブロイン成形体において、αヘリックス構造とβシート構造の割合を制御可能なシルクフィブロイン成形体の製造方法を提供する。また、αヘリックス構造に比べβシート構造を多く含むシルクフィブロインフィルムおよびその製造方法を提供する。 【解決手段】 含フッ素溶剤を含むシルクフィブロイン溶液を基体上に展開する第1の工程と、温度および相対湿度を制御しつつ、前記シルクフィブロイン溶液を基体上で乾燥する第2の工程を含む、シルクフィブロイン成形体の製造方法。前記第2の工程において、温度10℃以上、120℃以下、且つ相対湿度5%以上、95%以下とすることが好ましい。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6213257B2

公开(公告)日：2017-10-18

申请号：JP2014008423

申请日：2014-01-21

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 秋山 勝宏 ,  中辻 惇也 ,  松野 佑 ,  河合 亘 ,  江口 弘 ,  小川 毅 ,  山中 一広

IPC: C08L83/05 ,  C09K3/10 ,  C08L83/07

CPC classification number: C08G77/12 ,  C08G77/08 ,  C08K5/56 ,  C08L83/00 ,  C08L83/04 ,  C08L83/06 ,  C09D183/14 ,  C09K3/1018 ,  H01L23/296 ,  C08G77/16 ,  C08G77/20 ,  H01L2924/0002 ,  H01L33/56

公开(公告)号：JPWO2019167770A1

公开(公告)日：2021-02-25

申请号：JP2019006429

申请日：2019-02-21

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 中辻 惇也 ,  片村 友大 ,  杉田 豊 ,  山中 一広

IPC: C07F7/18 ,  B01J27/125 ,  C07F7/12

Abstract: ヘキサフルオロプロパノール基(−C(CF 3 ) 2 OH、HFIP基)含有芳香族アルキコシシラン(4)を、安価な出発原料から、高い反応変換率と選択率で製造する方法を提供する。該製造方法は、下記の通り、芳香族ハロシラン(1)をルイス酸の存在下ヘキサフルオロアセトンと反応させ、HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)を得る第1工程と、該HFIP基含有芳香族ハロシラン(2)をアルコールと反応させ、HFIP基含有芳香族アルキコシシラン(4)を得る第2工程と、を含む。 【化68】

公开(公告)号：JP2018114491A

公开(公告)日：2018-07-26

申请号：JP2017234224

申请日：2017-12-06

Applicant: セントラル硝子株式会社

Inventor： 江口 弘 ,  山中 一広

IPC: B01D53/22 ,  C08G73/10 ,  B01D71/64

Abstract: 【課題】分離温度35℃以上、70℃以下温域で優れたCO 2 とメタンの気体分離性能を有する気体分離膜、それを用いた気体の分離方法及び気体分離装置の提供。 【解決手段】式(1)で表される繰り返し単位を有するポリイミドを含む、気体分離膜。前記ポリイミドの重量平均分子量Mwが2万〜50万である気体分離膜。50〜400℃で加熱したポリイミドを用いる気体分離膜。50℃、150kPa下のCO 2 の透過係数P CO2 が10Barrer以上であり、CO 2 とメタンとの透過係数(P CO2 /P CH4 )が40以上である、気体分離膜。特に天然ガス中のCO 2 の除去するに好適である気体分離膜。 【選択図】なし