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    合成石英ガラスキャビティ、合成石英ガラスキャビティリッド、光学素子パッケージ及びこれらの製造方法
    2.
    发明专利
    合成石英ガラスキャビティ、合成石英ガラスキャビティリッド、光学素子パッケージ及びこれらの製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2020021937A

    公开(公告)日：2020-02-06

    申请号：JP2019135101

    申请日：2019-07-23

    Applicant: 信越化学工業株式会社

    Inventor： 松井 晴信 ,  原田 大実 ,  岡藤 大雄 ,  山崎 裕之 ,  竹内 正樹

    IPC: H01L33/48 ,  H01L23/08 ,  H01L23/02

    Abstract: 【課題】 短波長、特に300nm以下の波長領域の光学素子が、中空構造を必要とするデバイスに対してその機能を長期的に安定して発揮させることができる合成石英ガラスキャビティ、合成石英ガラスキャビティリッド、及び光学素子パッケージ、並びに合成石英ガラスキャビティ及びキャビティリッドを寸法精度よく製造でき、異種材料接着時の応力の問題の解決が可能な合成石英ガラスキャビティ、合成石英ガラスキャビティリッド及び光学素子パッケージの製造方法を提供すること。 【解決手段】 発光素子又は受光素子が設置される基板に対し、前記素子を覆って前記基板に接着させる、合成石英ガラスキャビティであって、前記合成石英ガラスキャビティの内側表面のうち、前記素子の発光面又は受光面に対向する面が鏡面であり、それ以外の面は粗面である合成石英ガラスキャビティ。 【選択図】 なし

    インプリントモールド用基板の製造方法
    3.
    发明专利
    インプリントモールド用基板の製造方法 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019197769A

    公开(公告)日：2019-11-14

    申请号：JP2018089870

    申请日：2018-05-08

    Applicant: 信越化学工業株式会社

    Inventor： 山崎 裕之 ,  岡藤 大雄 ,  竹内 正樹

    IPC: B29C59/02 ,  B29C33/38 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】 余分な工程や、コストをかけずに、パターン形成部への加工応力を大幅に低減できるインプリントモールド用基板の製造方法を提供すること。 【解決手段】 基板加工用台座3を用いてパターン形成部2および非パターン形成部5を有するインプリントモールド用基板1の外形加工を行う際に、凹部を有する基板加工用台座3を用い、この凹部に、インプリントモールド用基板1のパターン形成部2を収容し、パターン形成部2と基板加工用台座3との間に空間領域7を設けてパターン形成部2と基板加工用台座3とが直接接触しない状態で非パターン形成部5と基板加工用台座3とを貼り付けてインプリントモールド用基板1を基板加工用台座3に固定した後、当該基板1の少なくとも一部に対して外形加工を行う外形加工処理されたインプリントモールド用基板の製造方法。 【選択図】 図3

    インプリント・リソグラフィ用角形基板及びその製造方法
    4.
    发明专利
    インプリント・リソグラフィ用角形基板及びその製造方法 有权
    用于印刷图形的矩形基板及其制造方法

    公开(公告)号：JP2016043692A

    公开(公告)日：2016-04-04

    申请号：JP2015150738

    申请日：2015-07-30

    Applicant: 信越化学工業株式会社

    Inventor： 岡藤 大雄 ,  山崎 裕之 ,  安藤 雅郎 ,  竹内 正樹

    IPC: B29C33/38 ,  H01L21/027 ,  B29C59/02

    CPC classification number: B29C59/026 ,  B24B9/065 ,  B29C33/3842 ,  G03F7/0002 ,  B29K2909/08

    Abstract: 【解決手段】基板側面が研削により加工されたインプリント・リソグラフィ用角形基板16の側面に対して、垂直方向に一定圧力で回転研磨パッド21を押し当てながら回転研磨パッド21と角型基板16とを相対的に前記側面に対して平行移動させて、角型基板16の側面を研磨するインプリント・リソグラフィ用角形基板16の製造方法。 【効果】角形基板16の前記製造方法によれば、インプリント・リソグラフィの際に高精度に押圧及びパターン形状を制御することができ、高精細で複雑なパターンの転写が可能になる。 【選択図】図7

    Abstract translation: 解决方案：提供一种用于生产用于压印光刻的矩形基板16的方法，其通过相对于侧面平行移动旋转抛光垫21和矩形基板16同时按压旋转抛光来抛光矩形基板16的侧表面 衬垫21垂直于矩形衬底16的侧表面，用于压印光刻，其中通过在恒定压力下抛光来处理衬底侧表面。解决方案：矩形衬底16的制造方法可以精确地控制按压力和图案形状 并在压印光刻过程中转移高精度和复杂的图案。选择图：图7

    インプリントモールド用合成石英ガラス基板
    7.
    发明专利
    インプリントモールド用合成石英ガラス基板 审中-公开

    公开(公告)号：JP2019197768A

    公开(公告)日：2019-11-14

    申请号：JP2018089845

    申请日：2018-05-08

    Applicant: 信越化学工業株式会社

    Inventor： 山崎 裕之 ,  安藤 雅郎 ,  岡藤 大雄 ,  竹内 正樹

    IPC: B29C33/38 ,  H01L21/027

    Abstract: 【課題】 インプリントモールドに必要な形状の策定と、これに基づいたインプリントモールド用合成石英ガラス基板を提供すること。 【解決手段】 縦の長さL1、横の長さL2(但し、L1≧L2)を有するインプリントモールド用合成石英ガラス基板1であって、モールドパターンが形成される表面に対向する裏面における基板中心Oから半径R(但し、L2−2R≧10mm)の円で囲まれる円領域2について、Zernike多項式における第1項〜第8項で近似解析を行った場合の第4項の係数が、−(2R/100,000×1)μm以上であるインプリントモールド用合成石英ガラス基板1。 【選択図】 図1

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