3D印刷用のプリンタヘッド

    公开(公告)号:JP2018503592A

    公开(公告)日:2018-02-08

    申请号:JP2017535768

    申请日:2015-12-18

    Abstract: 本発明は、3Dガラス印刷用のプリンタヘッド(1)に関し、当該プリンタヘッドは、耐熱金属から成る加熱体(8)、加熱体(8)を介してガラスを供給するための加熱体の中央部に配設されるスルーホール(20)、スルーホール(20)のアウトレットにおいて加熱体(8)に配設されるノズル(5)及び誘導コイルであって、高周波電圧が該誘導コイルに印加される場合電磁誘導により前記加熱体を加熱するように前記加熱体の周りに配設される誘導コイルを有する。誘導コイルにより加熱される加熱体のスルーホールを介してガラスフィラメントを供給することにより、フィラメントは溶融し、ガラスリボンとして溶けたままプリンタヘッドを出る。ガラスリボンは、プリンタテーブル上に又は該プリンタテーブル上に置かれた印刷層上に印刷されて間もなく固まる。

    熱可塑性樹脂材のレーザ溶着方法、熱可塑性樹脂材のレーザ溶着装置
    4.
    发明专利
    熱可塑性樹脂材のレーザ溶着方法、熱可塑性樹脂材のレーザ溶着装置 有权
    激光焊接方法和热塑性树脂材料的装置

    公开(公告)号:JP2016083853A

    公开(公告)日:2016-05-19

    申请号:JP2014218456

    申请日:2014-10-27

    Inventor: 渡辺 公彦

    Abstract: 【課題】熱可塑性樹脂材のレーザ光照射領域の表面の熱損傷の発生を抑制するとともに、熱可塑性樹脂材同士を安定的に溶着する。 【解決手段】2以上の熱可塑性樹脂材を互いに接触配置して、一方の熱可塑性樹脂材の表面にレーザ光を照射して、2以上の熱可塑性樹脂材を発熱、溶融させて溶着する熱可塑性樹脂材のレーザ溶着方法において、レーザ光を照射した一方の熱可塑性樹脂材のレーザ光照射領域の表面温度を測定し、測定したレーザ光照射領域の表面温度に基づきレーザ出力を制御して、レーザ光照射領域の表面温度が2以上の熱可塑性樹脂材の軟化温度の内最も高い温度と同じか、近傍で高くなるように、且つ、レーザ光照射領域に隣接するレーザ光照射周囲領域の温度が2以上の熱可塑性樹脂材の軟化温度の内最も低い温度より低くなるようにして、2以上の熱可塑性樹脂材を発熱、溶融させて溶着するように構成した。 【選択図】図1

    Abstract translation: 要解决的问题:为了抑制热塑性树脂材料的激光照射区域的表面的热损伤的产生,并且将热塑性树脂材料彼此稳定地焊接。解决方案:在热塑性树脂材料的激光焊接方法中,两个或更多个 将热塑性树脂材料彼此接触并且激光照射到一种热塑性树脂材料的表面,以加热和熔化两种或更多种热塑性树脂材料以便被焊接在一起。 通过测量激光照射的热塑性树脂材料之一的激光照射区域的表面温度,并且基于测量的表面控制激光输出,将两种或更多种热塑性树脂材料加热,熔化并焊接在一起 激光照射区域的温度使得激光照射区域的表面温度等于两种或多种热塑性树脂材料的软化温度中的最高温度或其近似温度以及激光照射周围区域的温度 与两个以上的热塑性树脂材料的软化温度以下的最低温度相邻的激光照射区域。选择图1:

    Nanoimprinting master template and method for manufacturing the same
    5.
    发明专利
    Nanoimprinting master template and method for manufacturing the same 审中-公开
    纳米压印模具及其制造方法

    公开(公告)号:JP2014067479A

    公开(公告)日:2014-04-17

    申请号:JP2013197881

    申请日:2013-09-25

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a nanoimprinting master template and a method for manufacturing the template.SOLUTION: A method for manufacturing a nanoimprinting master template uses a metallic etching stop layer for two etching steps. A layer of silicon dioxide is deposited on the etching stop layer, and a first resist pattern of either concentric rings or radial spokes is formed on the silicon dioxide layer. The exposed silicon dioxide layer is etched down to the etching stop layer and the resist is removed to expose a pattern of silicon dioxide rings or spokes on the etching stop layer. A second resist pattern of rings (if spokes were the first pattern) or spokes (if rings were the first pattern) is formed over the silicon dioxide rings or spokes and the etching stop layer. The exposed silicon dioxide is etched down to the etching stop layer and the resist is removed to expose a pattern of silicon dioxide pillars on the etching stop layer.

    Abstract translation: 要解决的问题:提供纳米压印母模板和制造模板的方法。解决方案:制造纳米压印母模板的方法使用金属蚀刻停止层进行两个蚀刻步骤。 在蚀刻停止层上沉积二氧化硅层,并且在二氧化硅层上形成同心环或径向辐条的第一抗蚀剂图案。 暴露的二氧化硅层被蚀刻到蚀刻停止层,并且去除抗蚀剂以暴露蚀刻停止层上的二氧化硅环或辐条的图案。 在二氧化硅环或轮辐和蚀刻停止层上形成环(如果辐条是第一图案)或辐条(如果环是第一图案)的第二抗蚀剂图案。 暴露的二氧化硅被蚀刻到蚀刻停止层,并去除抗蚀剂以暴露蚀刻停止层上的二氧化硅柱的图案。

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