直鎖状トリシロキサン化合物の製造方法
    6.
    发明专利
    直鎖状トリシロキサン化合物の製造方法 有权
    制备直链三硅氧烷化合物的方法

    公开(公告)号:JP2016150906A

    公开(公告)日:2016-08-22

    申请号:JP2015027799

    申请日:2015-02-16

    Abstract: 【課題】 入手容易な環状トリシロキサンを原料として、分子鎖両末端の一方に水酸基、他方に水酸基又はアルコキシ基を有する直鎖状トリシロキサンを、高収率かつ単工程で製造する方法を提供することを課題とする。 【解決手段】 水素ガス及び/又は水素発生剤、並びに遷移金属触媒の存在下、種々の環状トリシロキサンを水又はアルコールと反応させることにより、所望のトリシロキサン化合物を製造出来る。 【選択図】なし

    Abstract translation: 要解决的问题:提供一种在另一端制造分子链和羟基或烷氧基的两端具有羟基的直链三硅氧烷的方法,以高产率和简单的方法使用容易 可得到的环状三硅氧烷作为原料。溶液:所需的三硅氧烷化合物可通过允许各种环状三硅氧烷在氢气和/或氢气发生剂和过渡金属催化剂存在下与水或醇反应制备。选择图:无

    遊離砥粒、遊離砥粒研磨用研磨剤及びその製造方法
    10.
    发明专利
    遊離砥粒、遊離砥粒研磨用研磨剤及びその製造方法 审中-公开
    免费磨砂颗粒,用于抛光磨砂颗粒的磨料及其制造方法

    公开(公告)号:JP2015140402A

    公开(公告)日:2015-08-03

    申请号:JP2014014485

    申请日:2014-01-29

    Abstract: 【課題】 ガラスに対して高い研磨速度を持ち、研磨速度が安定であり、研磨することによる傷も発生せず、表面粗さに優れた安価な遊離砥粒を提供すること。 【解決手段】 Mn 2 O 3 及びCeO 2 を含んでなる遊離砥粒研磨用研磨剤であって、研磨剤中のCe含有量がMnとCeの原子数の合計を100atom%としたとき、10〜40atom%であり、Mn 2 O 3 及びCeO 2 からなる多結晶体を含むことを特徴とする遊離砥粒。 【選択図】 なし

    Abstract translation: 要解决的问题:为了提供对玻璃具有高抛光速度的廉价的免费磨粒,抛光速度稳定,抛光时几乎不产生刮痕,表面粗糙度优异。本发明提供了一种抛光剂,用于抛光含有MnO和CeO的磨粒,并具有 由MnO和CeO 3组成的多晶材料和抛光剂中的Ce含量为10〜40原子%,其中Mn和Ce的总原子数为100原子%。

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