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公开(公告)号：JP4756565B2
公开(公告)日：2011-08-24
申请号：JP2010511076
申请日：2009-05-07
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D213/75 , A61K31/44 , A61P43/00
CPC分类号： C07D213/75 , C07C311/07 , C07C2601/14
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公开(公告)号：JP3983546B2
公开(公告)日：2007-09-26
申请号：JP2001576800
申请日：2001-04-16
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D409/12 , A61K31/405 , A61P29/00 , A61P43/00 , C07B61/00
CPC分类号： C07D409/12 , A61K31/405
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公开(公告)号：JP5234856B2
公开(公告)日：2013-07-10
申请号：JP2011084062
申请日：2011-04-05
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D213/75
CPC分类号： C07D213/75 , C07C311/07 , C07C2601/14
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公开(公告)号：JP4535366B2
公开(公告)日：2010-09-01
申请号：JP2003404067
申请日：2003-12-03
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D501/08 , C07D519/06 , C07D501/16 , C07D501/46 , C07D501/56
CPC分类号： Y02P20/55
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公开(公告)号：JPWO2004026882A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：JP2004537578
申请日：2003-09-17
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D519/06 , A61P31/04 , C07D501/00 , C07D501/16 , C07D519/00
CPC分类号： C07D501/00 , Y02P20/55
摘要： 本発明は、式:(式中、R1およびR2はそれぞれ独立して置換されていてもよい低級アルキル;R3はアミノ保護基;Rは陰イオン、水素又はカルボキシ保護基)で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物を脱保護することを特徴とする、式:(式中、R1およびR2は前記と同意義)で示される化合物もしくはその製薬上許容される塩又はそれらの溶媒和物の製法、および化合物(II)の結晶を提供する。
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公开(公告)号：JPWO2009136617A1
公开(公告)日：2011-09-08
申请号：JP2010511076
申请日：2009-05-07
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D213/75 , A61K31/44 , A61P43/00
CPC分类号： C07D213/75 , C07C311/07 , C07C2601/14
摘要： NPYY5受容体拮抗作用を有する化合物の製造方法および有用な結晶を提供する。式(II):(式中、R1は置換もしくは非置換のアルキルであり、nは1または2であり、Xは脱離基である。)で示される化合物等と、式(III):(式中、R2は置換もしくは非置換のアルキルである。)で示される化合物等を反応させ、式(IV):(式中、R1及びR2は前記と同意義である。)で示される化合物等を製造する。
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公开(公告)号：JPWO2004033411A1
公开(公告)日：2006-02-09
申请号：JP2004542836
申请日：2003-10-07
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07C67/317 , C07C67/313 , C07C67/327 , C07C69/738 , C07C69/757 , C07C69/94 , C07D261/04
CPC分类号： C07D261/04 , C07C67/327 , C07C69/738 , C07C69/94
摘要： 本発明は以下に示される、エノンエステルの工業的に有利な製法を提供する。
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公开(公告)号：JP3507138B2
公开(公告)日：2004-03-15
申请号：JP16427694
申请日：1994-07-15
申请人： 塩野義製薬株式会社
IPC分类号： C07D275/02 , A61K31/425 , A61P29/00 , B01J31/02 , C07B61/00 , C07D275/03
CPC分类号： Y02P20/52
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