公开(公告)号：JP5774104B2

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：JP2013523134

申请日：2010-08-05

Applicant: 日東電工株式会社

Inventor： グ、タオ ,  カサペルマル、モハナリンガム ,  ボグミラ、レイチュウォル ,  ティレマ、ジョシュア ,  シディッキ、オザイール ,  ワン、ペン ,  リン、ウェイピン ,  フローレス、ドナルド ,  チアン、ツォンチェン ,  チェン、シーチュン ,  山本 道治

IPC: G02F1/061 ,  C08F20/34 ,  C08K5/00 ,  C08L33/14

CPC classification number: G02F1/0063 ,  G02B1/04 ,  G02F1/293 ,  G03H1/02 ,  B82B1/008 ,  G02F2202/022 ,  G02F2202/13 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2260/54 ,  Y10S977/734 ,  Y10S977/75

公开(公告)号：JP2013538260A

公开(公告)日：2013-10-10

申请号：JP2013523134

申请日：2010-08-05

Applicant: 日東電工株式会社

Inventor： グ、タオ ,  カサペルマル、モハナリンガム ,  ボグミラ、レイチュウォル ,  ティレマ、ジョシュア ,  シディッキ、オザイール ,  ワン、ペン ,  リン、ウェイピン ,  フローレス、ドナルド ,  チアン、ツォンチェン ,  チェン、シーチュン ,  道治 山本

IPC: C08L33/14 ,  C08F20/34 ,  C08K5/00 ,  G02F1/061

CPC classification number: G02F1/0063 ,  B82B1/008 ,  G02B1/04 ,  G02F1/293 ,  G02F2202/022 ,  G02F2202/13 ,  G03H1/02 ,  G03H2001/0264 ,  G03H2260/54 ,  Y10S977/734 ,  Y10S977/75 ,  C08L101/12

Abstract: Described herein are compositions that are photorefractive upon irradiation by multiple laser wavelengths across the visible light spectrum. Embodiments of the photorefractive composition comprise a polymer, a chromophore, and a sensitizer, wherein the polymer comprises a repeating unit including at least a moiety selected from the group consisting of the formulae (Ia), (Ib) and (Ic), as defined herein. The photorefractive composition can be used in optical devices.