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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2011514914A
公开(公告)日：2011-05-12
申请号：JP2010545935
申请日：2009-01-29
Applicant: 日東電工株式会社
Inventor： グ、タオ , フローレス、ドナルド , リン、ウェイピン , ワン、ペン , 道治 山本
CPC classification number: G03H1/02 , C08F220/34 , C08F220/36 , G02F1/3612 , G02F1/3617 , G03H2001/0264 , G03H2260/54 , G11B7/245
Abstract: An optical device comprising a photorefractive composition configured to be photorefractive upon irradiation by a blue laser. The photorefractive composition comprises a polymer comprising a repeating unit including at least a moiety selected from the group consisting of the formulas (Ia), (Ib) and (Ic), as defined herein.
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公开(公告)号：JP2013538260A
公开(公告)日：2013-10-10
申请号：JP2013523134
申请日：2010-08-05
Applicant: 日東電工株式会社
Inventor： グ、タオ , カサペルマル、モハナリンガム , ボグミラ、レイチュウォル , ティレマ、ジョシュア , シディッキ、オザイール , ワン、ペン , リン、ウェイピン , フローレス、ドナルド , チアン、ツォンチェン , チェン、シーチュン , 道治 山本
CPC classification number: G02F1/0063 , B82B1/008 , G02B1/04 , G02F1/293 , G02F2202/022 , G02F2202/13 , G03H1/02 , G03H2001/0264 , G03H2260/54 , Y10S977/734 , Y10S977/75 , C08L101/12
Abstract: Described herein are compositions that are photorefractive upon irradiation by multiple laser wavelengths across the visible light spectrum. Embodiments of the photorefractive composition comprise a polymer, a chromophore, and a sensitizer, wherein the polymer comprises a repeating unit including at least a moiety selected from the group consisting of the formulae (Ia), (Ib) and (Ic), as defined herein. The photorefractive composition can be used in optical devices.
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公开(公告)号：JP5774104B2
公开(公告)日：2015-09-02
申请号：JP2013523134
申请日：2010-08-05
Applicant: 日東電工株式会社
Inventor： グ、タオ , カサペルマル、モハナリンガム , ボグミラ、レイチュウォル , ティレマ、ジョシュア , シディッキ、オザイール , ワン、ペン , リン、ウェイピン , フローレス、ドナルド , チアン、ツォンチェン , チェン、シーチュン , 山本 道治
CPC classification number: G02F1/0063 , G02B1/04 , G02F1/293 , G03H1/02 , B82B1/008 , G02F2202/022 , G02F2202/13 , G03H2001/0264 , G03H2260/54 , Y10S977/734 , Y10S977/75
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4.发明专利
公开(公告)号：JP2012506068A
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：JP2011532118
申请日：2009-09-18
Applicant: 日東電工株式会社
Inventor： グー、タオ , フローレス、ドナルド , リン、ウェイピン , ワン、ペン , 道治 山本
CPC classification number: G11B7/24044 , G03H1/02 , G03H2260/12 , G03H2260/54 , G11B7/245
Abstract: 【課題】大きな外部バイアス電圧の印加を必要とすることなく、優れたフォトリフラクティブ特性を提供する材料を含む光学装置を提供すること。
【解決手段】光を変調する方法であって、増感剤とポリマーとを含むフォトリフラクティブ組成物を提供する工程であって、ここで、増感剤は、アントラキノン、２−ニトロ−９−フルオレノンおよび２，７−ジニトロ−９−フルオレノンからなる群から選択される少なくとも１つを含む工程、ならびにレーザーでフォトリフラクティブ組成物を照射する工程を含む、方法。 フォトリフラクティブ組成物は、外部バイアス電圧を使用することなく回折格子を提供する。
【選択図】 なし-
5.发明专利
公开(公告)号：JP2012506067A
公开(公告)日：2012-03-08
申请号：JP2011532117
申请日：2009-09-18
Applicant: 日東電工株式会社
Inventor： グー、タオ , フローレス、ドナルド , リン、ウェイピン , ワン、ペン , 道治 山本
CPC classification number: G11B7/245 , G03H1/02 , G03H2260/12 , G03H2260/54 , G11B7/244
Abstract: 【課題】大きな外部バイアス電圧の印加を必要とすることなく、優れたフォトリフラクティブ特性を提供する材料を含む光学装置を提供すること。
【解決手段】フォトリフラクティブ層と少なくとも２つの不活性層とを含み、フォトリフラクティブ層が２つの不活性層の間に挟まれる光学装置が、本明細書に記述される。 フォトリフラクティブ層は、レーザービーム照射によりフォトリフラクティブであるフォトリフラクティブ組成物を含むことが可能である。 いくつかの実施形態では、フォトリフラクティブ組成物中に照射される回折格子が、外部のバイアス電圧を印加することなくフォトリフラクティブ組成物から読み出すことができるようにフォトリフラクティブ組成物は処方される。 さらに、組成物中に書き込まれる回折格子は、熱処理を用いて制御することが可能である。
【選択図】 図１Ｂ
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