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发明专利
荷電粒子ビーム描画装置及び荷電粒子ビーム描画方法有权

公开(公告)号：JP6863259B2

公开(公告)日：2021-04-21

申请号：JP2017239397

申请日：2017-12-14

Applicant: 株式会社ニューフレアテクノロジー

Inventor： 上村拓也 , 中村崇志 , 松井秀樹 , 小笠原宗博 , 西村理恵子 , 室伏達也 , 服部芳明

IPC: G03F7/20 , H01J37/305 , H01J37/21 , H01J37/147 , H01L21/027

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