公开(公告)号：JP5002395B2

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：JP2007252966

申请日：2007-09-28

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 達哉 前田 ,  利彦 小野塚 ,  広和 沖中 ,  正明 菊池

IPC: H01J37/28 ,  H01L21/66

公开(公告)号：JP4357410B2

公开(公告)日：2009-11-04

申请号：JP2004367015

申请日：2004-12-20

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 達哉 前田 ,  和弘 植田

IPC: G01B15/00 ,  H01J37/28

公开(公告)号：JP4616120B2

公开(公告)日：2011-01-19

申请号：JP2005229800

申请日：2005-08-08

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 達哉 前田 ,  光二 池田 ,  二大 笹嶋 ,  修 那須

IPC: G06T1/00 ,  G01N21/956 ,  G06T7/00 ,  H01L21/66

CPC classification number: G06T7/001 ,  G01N21/95607 ,  G06T2207/30148

公开(公告)号：JP4231798B2

公开(公告)日：2009-03-04

申请号：JP2004015049

申请日：2004-01-23

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 淳 ▲高▼根 ,  貢 佐藤 ,  達哉 前田 ,  成人 砂子沢 ,  博実 稲田 ,  孝 飯泉

IPC: G21K5/00 ,  H01J37/28 ,  G03F7/20 ,  G21K5/04 ,  H01J37/08 ,  H01J37/22 ,  H01J37/256 ,  H01L21/027 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J2237/2826

公开(公告)号：JP5117080B2

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：JP2007057552

申请日：2007-03-07

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 和弘 植田 ,  達哉 前田

IPC: G01N23/225 ,  G01B15/04 ,  H01J37/22

CPC classification number: G01N23/2251 ,  H01J2237/0041 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/248 ,  H01J2237/28

Abstract: A method and apparatus for setting a sample observation condition and a method and apparatus for sample observation which allow sample observation by speedily and simply finding an optimum condition while suppressing damage to the sample are provided. The setting of a sample observation condition according to the present invention is realized by an electron beam apparatus acquiring a profile at a predetermined evaluation location of a sample under a reference observation condition, by a processing section judging whether or not the above described acquired profile is located within a predetermined setting range and setting an optimum observation condition to be used for sample observation based on this judgment result. More specifically, locations where the condition can be examined are registered beforehand first and then a jump is made to the corresponding location which is irradiated with an electron beam (hereinafter referred to as predosing) at a low magnification, the surface of the sample is charged, enlarged to an observation magnification and secondary electron information on the target location is obtained. After that, secondary electron information is obtained at any time while performing predosing, it is successively judged from the information whether the pattern bottom part can be observed/measured or whether or not the sample is destroyed and an optimum observation condition is thereby found.

公开(公告)号：JP4579712B2

公开(公告)日：2010-11-10

申请号：JP2005047724

申请日：2005-02-23

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 達哉 前田

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  H01L21/66

CPC classification number: H04N5/76 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2487 ,  H01J2237/2817 ,  H04N5/772 ,  H04N5/775 ,  H04N5/781 ,  H04N5/907 ,  H04N9/8205

公开(公告)号：JP4286657B2

公开(公告)日：2009-07-01

申请号：JP2003435519

申请日：2003-12-26

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 淳 ▲高▼根 ,  達哉 前田 ,  孝 飯泉

IPC: G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  G06K9/36 ,  G06K9/48 ,  H01L21/66

CPC classification number: G01B15/04 ,  G03F7/70625 ,  H01J37/222 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/24578 ,  H01J2237/2817

公开(公告)号：JP5241353B2

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：JP2008178577

申请日：2008-07-09

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 純一 角田 ,  浩之 齊藤 ,  勝弘 笹田 ,  和弘 植田 ,  達哉 前田

IPC: H01J37/04 ,  H01J37/153

CPC classification number: G01N23/225 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/153 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/1532

公开(公告)号：JP5043741B2

公开(公告)日：2012-10-10

申请号：JP2008100676

申请日：2008-04-08

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 美紀 伊澤 ,  達哉 前田 ,  雄樹 小嶋

IPC: H01L21/66 ,  G01B15/04

公开(公告)号：JP4812318B2

公开(公告)日：2011-11-09

申请号：JP2005096703

申请日：2005-03-30

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： 達哉 前田 ,  真由香 大▲崎▼ ,  千絵 宍戸 ,  洋揮 川田

IPC: G01B15/04 ,  H01J37/22 ,  H01J37/28 ,  H01L21/66