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    Scanning electron microscope
    5.
    发明专利
    Scanning electron microscope 有权
    扫描电子显微镜

    公开(公告)号：JP2006294301A

    公开(公告)日：2006-10-26

    申请号：JP2005110082

    申请日：2005-04-06

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： KITSUKI HIROHIKO ,  AOKI KAZUO ,  SATO MITSUGI

    IPC: H01J37/10 ,  H01J37/28

    CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/263 ,  H01J2237/21 ,  H01J2237/2487 ,  H01J2237/2809

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning electron microscope digitally processing image signals obtaining the deepest depth of focus and the best resolution in accordance with observation magnification.
    SOLUTION: The scanning electron microscope is provided with a means of changing optical angles of aperture by changing a plurality of converging lenses and aperture hole diameters, and changes electron beam angles of aperture in accordance with a visual field range equivalent to one pixel, a so-called pixel size.
    COPYRIGHT: (C)2007,JPO&INPIT

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种扫描电子显微镜，以根据观察倍率数字处理获得最深的深度和最佳分辨率的图像信号。 解决方案：扫描电子显微镜设置有通过改变多个会聚透镜和孔径直径来改变光学角度的装置，并且根据相当于一个像素的视场范围改变光圈的电子束角度 ，所谓的像素大小。 版权所有（C）2007，JPO＆INPIT

    Scanning electron microscope
    6.
    发明专利
    Scanning electron microscope 有权
    扫描电子显微镜

    公开(公告)号：JP2006236700A

    公开(公告)日：2006-09-07

    申请号：JP2005047724

    申请日：2005-02-23

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： MAEDA TATSUYA

    IPC: H01J37/28 ,  H01J37/22 ,  H01L21/66

    CPC classification number: H04N5/76 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/2487 ,  H01J2237/2817 ,  H04N5/772 ,  H04N5/775 ,  H04N5/781 ,  H04N5/907 ,  H04N9/8205

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning electron microscope capable of performing a basic analysis of a problem generated in execution of automatic observation process saving the time and labor of conducting a reappearance test, facilitate a confirmation of a process of leading to an error. SOLUTION: When an abnormality is detected, a scanning electron microscope 100 extracts a sample image stored in a recording device 43 with successive over-writing, namely, a sample image Im(t2) traced back by a prescribed image quantity (for example, total recording time t2) pre-registered by an input/output device 42, from a sample image Im (te) stored in accordance with the timing te of the generation of the error, and stores it in a recording device 44. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题：为了提供能够对执行自动观察处理中产生的问题进行基本分析的扫描电子显微镜，从而节省了进行再现测试的时间和劳动，便于确认导致 一个错误。 解决方案：当检测到异常时，扫描电子显微镜100以连续的写入方式提取存储在记录装置43中的样本图像，即以规定图像量追溯的样本图像Im（t2）（用于 例如，由输入/输出设备42预先登记的总记录时间t2），从根据错误生成的定时t存储的样本图像Im（te）中将其存储在记录设备44中。 P>版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

    Scanning electron microscope and its photographing method
    7.
    发明专利
    Scanning electron microscope and its photographing method 有权
    扫描电子显微镜及其摄影方法

    公开(公告)号：JP2006196281A

    公开(公告)日：2006-07-27

    申请号：JP2005005882

    申请日：2005-01-13

    Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

    Inventor： HONDA TOSHIFUMI ,  MAKINO HIROSHI

    IPC: H01J37/28 ,  G01N23/203 ,  G01N23/225 ,  H01J37/09 ,  H01J37/22 ,  H01L21/66

    CPC classification number: G01N23/2251 ,  H01J37/1471 ,  H01J37/153 ,  H01J37/21 ,  H01J37/243 ,  H01J37/265 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/1501 ,  H01J2237/1532 ,  H01J2237/216 ,  H01J2237/2487 ,  H01J2237/2817 ,  H01J2237/2826

    Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To make reduction in time for photographing images and high image quality photographing compatible in a scanning electron microscope for measurement, inspection, and defect review or the like of semiconductor wafers.
    SOLUTION: By photographing a low magnification image using a large beam current, and by photographing a high magnification image using a small beam current, control amount for correcting brightness changes, focal deviations, alignment deviations, and view field deviations of photographing caused due to the changes in the beam currents are stored in advance in a memory in the whole control system 118, and by correcting the beam currents whenever these are switched, photographing of the images is enabled without adjustment work after having switched the beam currents. Furthermore, the time for switching the currents is shortened by installing an aperture 801 in the irradiation route of the electron beam.
    COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

    Abstract translation: 要解决的问题：为了减少在扫描电子显微镜中拍摄图像和高图像质量拍摄的时间，用于半导体晶片的测量，检查和缺陷检查等。 解决方案：通过使用大光束电流拍摄低倍率图像，并且通过使用小束电流拍摄高倍率图像，用于校正亮度变化，焦点偏差，对准偏差和视场视场偏差的控制量导致 由于波束电流的变化被预先存储在整个控制系统118中的存储器中，并且通过每当切换光束电流时校正光束电流，在切换光束电流之后，能够进行图像的拍摄而不进行调整工作。 此外，通过在电子束的照射路径中安装孔801来缩短切换电流的时间。 版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

    描画装置、描画方法、及び物品の製造方法
    9.
    发明专利
    描画装置、描画方法、及び物品の製造方法 审中-公开
    绘图装置，绘图方法和制品制造方法

    公开(公告)号：JP2015109310A

    公开(公告)日：2015-06-11

    申请号：JP2013250402

    申请日：2013-12-03

    Applicant: キヤノン株式会社

    Inventor： 加藤 健郎

    IPC: G03F7/20 ,  H01J37/305 ,  H01L21/027

    CPC classification number: H01J37/304 ,  H01J37/3177 ,  H01J2237/202 ,  H01J2237/2025 ,  H01J2237/2487

    Abstract: 【課題】クロック信号の周波数を変更することなく、ステージの加減速中にパターンを描画することが可能な描画装置を提供する。 【解決手段】描画装置は、基板10上の各単位領域109に照射するビームの照射量を示す、描画データを作成するデータ作成部21と、基板10を保持して駆動するステージ11の加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において、クロック信号に基づいてビームを制御するビーム制御部104とを有する。データ作成部21は、駆動データと、加速と減速の少なくとも一の区間及び定速区間において共通のクロック信号とに基づいて描画データを作成し、制御部104は描画データに基づいて基板10上にパターンを描画する。 【選択図】図2

    Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够在阶段的加速/减速期间绘制图案而不改变时钟信号的频率的绘图装置。解决方案：绘图装置包括：数据创建单元21，其创建指示 用于照射基板10上的单位区域109的光束的照射量; 以及光束控制单元104，其基于加速和减速区域中的至少一个以及由保持在其上的基板10驱动的载物台11的恒定速度区域中的时钟信号来控制波束。 数据创建单元21基于以下方式创建绘图数据：驾驶数据; 以及对加速和减速区域和恒定速度区域中的至少一个共同的时钟信号。 控制单元104基于绘图数据在基板10上绘制图案。

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