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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JPWO2012001862A1
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：JP2012522431
申请日：2011-05-13
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G06T7/00
CPC classification number: G06K9/00 , G06K9/6202 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148
Abstract: 本発明は、高いコントラストを持つテンプレート画像に基づくパターンマッチングを行うパターンマッチング用テンプレートのテンプレート作成方法、及び画像処理装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために、設計データの一部を部分的に抽出し、当該抽出された部分領域に基づいて、テンプレートマッチング用のテンプレートを作成するテンプレート作成方法、及びそれを実現する装置において、前記テンプレートマッチングの被サーチ領域に相当する設計データ内の所定領域について、当該所定領域に属するエッジの密度を求める方法、及び装置を提案する。
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公开(公告)号：JP5592414B2
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：JP2012000526
申请日：2012-01-05
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G01B15/04
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公开(公告)号：JPWO2015198926A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016529390
申请日：2015-06-17
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
CPC classification number: G01B15/04 , G01B2210/56 , G03F7/20 , G03F7/70625 , G03F7/70641 , H01J37/28 , H01J2237/2817 , H01L21/027
Abstract: 本発明は、適正な露光条件を見出すための測定条件を適正に設定するパターン測定条件設定装置の提供を目的とする。上記目的を達成するために、パターンの測定を実行するときのパターン測定条件を設定するパターン測定条件設定装置であって、縮小投影露光装置の露光条件を変化させたときに得られる露光条件ごとのパターン情報、或いは光学シミュレーションによる前記露光条件を変化させたときに得られる露光条件ごとのパターン情報から、所定の条件を持つパターンを選択する演算装置を備え、当該演算装置は、前記露光条件の変化に対する前記パターンの寸法、或いは形状の変化が所定の条件を満たすパターンであり、且つ同一の形状のパターンの数が所定の条件を満たすパターンを、測定対象、或いは測定対象候補として選択するパターン測定条件設定装置を提案する。
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公开(公告)号：JP5639797B2
公开(公告)日：2014-12-10
申请号：JP2010150711
申请日：2010-07-01
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G06T7/00 , G01B11/00 , G01N23/225 , G06T1/00 , H01J37/22
CPC classification number: G06K9/6201 , G01B15/00 , G06K9/3241 , G06K9/6223 , G06K9/74 , G06T7/001 , G06T7/337 , G06T2207/10061 , G06T2207/20036 , G06T2207/30148 , H01J37/28 , H01J2237/221 , H01J2237/2817
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公开(公告)号：JP5529965B2
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：JP2012522431
申请日：2011-05-13
Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC: G06T7/00
CPC classification number: G06K9/00 , G06K9/6202 , G06T7/001 , G06T2207/10056 , G06T2207/10061 , G06T2207/30148
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