公开(公告)号：JP6318157B2

公开(公告)日：2018-04-25

申请号：JP2015533878

申请日：2013-08-30

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 玉置 央和 ,  原田 研

IPC: H01J37/145 ,  H01J37/26 ,  H01J37/12 ,  H01J37/153 ,  H01J37/147 ,  H01J37/15 ,  H01J37/22 ,  H01J37/21

CPC classification number: H01J37/21 ,  H01J2237/12 ,  H01J2237/15

公开(公告)号：JP2020136155A

公开(公告)日：2020-08-31

申请号：JP2019030348

申请日：2019-02-22

Applicant: 株式会社日立製作所 ,  国立研究開発法人理化学研究所

Inventor： 谷垣 俊明 ,  明石 哲也 ,  原田 研

IPC: H01J37/295

Abstract: 【課題】干渉電子顕微鏡における照射電流密度を高くでき、結晶を用いることによる課題がなく、試料面での物体波と参照波の距離を自由にコントロールすることができる干渉電子顕微鏡を提供する。 【解決手段】電子源1と照射レンズ系との間に電子源から放出された電子線を回折して第1の電子波と第2の電子波を作成する人工格子13を設置し、照射レンズ系に第1の電子波と第2の電子波を偏向し、第1の電子波を試料を通過させて物体波7とし第2の電子波を参照波8とする照射系の電子線バイプリズム14を設置し、結像レンズ系に電子線バイプリズム10を設置して物体波7と参照波8を偏向し観察面において物体波7と参照波8を重畳して像を得る。 【選択図】図2

公开(公告)号：JP5771695B2

公开(公告)日：2015-09-02

申请号：JP2013535628

申请日：2011-09-28

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 原田 研 ,  孝橋 照生

IPC: G21K1/00 ,  G02B5/18 ,  G21K1/06

CPC classification number: G02B5/1876 ,  G21K1/06

公开(公告)号：JP5970648B2

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：JP2012101654

申请日：2012-04-26

Applicant: 国立研究開発法人物質・材料研究機構 ,  株式会社日立製作所

Inventor： 竹口 雅樹 ,  三石 和貴 ,  原田 研

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/244 ,  H01J37/20 ,  H01J37/22 ,  H01J37/295

公开(公告)号：JP5934965B2

公开(公告)日：2016-06-15

申请号：JP2012100545

申请日：2012-04-26

Applicant: 国立研究開発法人理化学研究所 ,  株式会社日立製作所

Inventor： 谷垣 俊明 ,  会沢 真二 ,  松田 強 ,  原田 研 ,  高橋 由夫

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/295

CPC classification number: H01J37/22 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/2614

公开(公告)号：JP6244381B2

公开(公告)日：2017-12-06

申请号：JP2015561086

申请日：2014-02-05

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 原田 研 ,  孝橋 照生 ,  岩根 智広

IPC: G21K5/04 ,  G02B5/18 ,  G21K1/06

CPC classification number: G21K1/06 ,  G02B5/1842 ,  G02B5/1866 ,  H01J37/04 ,  H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  G02B2005/1804 ,  G21K2201/064 ,  G21K2201/067

公开(公告)号：JP6051596B2

公开(公告)日：2016-12-27

申请号：JP2012118162

申请日：2012-05-24

Applicant: 国立研究開発法人理化学研究所 ,  株式会社日立製作所

Inventor： 谷垣 俊明 ,  会沢 真二 ,  松田 強 ,  原田 研 ,  高橋 由夫

IPC: H01J37/09 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295

CPC classification number: H01J37/261 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/026 ,  H01J2237/1514 ,  H01J2237/2614

公开(公告)号：JP5736461B2

公开(公告)日：2015-06-17

申请号：JP2013535641

申请日：2011-09-30

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 原田 研

IPC: H01J37/26 ,  H01J37/295

CPC classification number: H01J37/243 ,  H01J37/26 ,  H01J37/295 ,  H01J2237/2614

公开(公告)号：JP6487556B2

公开(公告)日：2019-03-20

申请号：JP2017532312

申请日：2015-08-05

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 原田 研 ,  浅利 裕介

IPC: H01J37/295

公开(公告)号：JPWO2017022093A1

公开(公告)日：2018-05-10

申请号：JP2017532312

申请日：2015-08-05

Applicant: 株式会社日立製作所

Inventor： 原田 研 ,  浅利 裕介

IPC: H01J37/295

CPC classification number: H01J37/295

Abstract: 電子線の可干渉距離を超えた電磁場等の干渉計測においては、参照波中への該電磁場の漏洩が観察結果に影響を与えるため、精度の高い電磁場測定にはこの影響の除去や軽減する手法が求められていた。本発明は電磁場の軸対称性に着目し、軸対称電磁場を観察対象として物体波領域とし、該電磁場の対称中心から相対する複数の領域を参照波領域とし、該物体波領域と各々の参照波領域を透過した電子線との干渉を各々ホログラムとして記録する。各々の再生位相分布像を求めた後、各々の該再生位相分布像を該電磁場の対称中心と方位が一致するように位置合わせを行った上で加算平均などの演算処理をする。これにより、該各々の参照波領域への該電磁場の影響が相殺され、観察対象電磁場の参照波中への影響が軽減された高精度な計測結果を実現できる。