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公开(公告)号:JP2021102799A
公开(公告)日:2021-07-15
申请号:JP2019234302
申请日:2019-12-25
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: C21D1/76 , C21D1/06 , C21D1/18 , C21D8/12 , C21D6/00 , C23C8/26 , H01F1/147 , H01F1/16 , H02K1/02 , C22C38/00
Abstract: 【課題】純鉄よりも飽和磁束密度が高い鉄−窒素系の軟磁性鋼板、該軟磁性鋼板の製造方法、該軟磁性鋼板を用いた鉄心および回転電機を提供する。 【解決手段】本発明に係る軟磁性鋼板は、CおよびNを含み、残部がFeおよび不可避不純物からなり、α相、α’相、α”相およびγ相から構成され、前記α相が主相であり、前記α”相の体積率が10%以上であり、前記γ相の体積率が5%以下であることを特徴とする。また、本発明に係る鉄心は、当該軟磁性鋼板の積層体からなることを特徴とする。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2016119257A
公开(公告)日:2016-06-30
申请号:JP2014259293
申请日:2014-12-22
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01M10/0562 , H01M4/62 , H01B13/00 , H01B1/06
CPC classification number: H01M10/0562 , H01M10/0525 , H01M10/0585 , H01M2300/0071
Abstract: 【課題】リチウムイオンの拡散障壁が低く、リチウムイオン伝導性が良好なラムスデライト型結晶構造を有する固体電解質の提供。 【解決手段】ラムスデライト型の結晶構造100を有し、式Li 4x−2a−3b−c−2d Sn 4−x−c—d M(II) a M(III) b M(V) c M(VI) d O 8 [M(II)は二価のカチオン;M(III)は三価のカチオン;M(V)は五価のカチオン;M(VI)は六価のカチオン;0≦x≦1.33]で表され、前記式において、0
【選択図】図1-
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公开(公告)号:JP5830540B2
公开(公告)日:2015-12-09
申请号:JP2013532403
申请日:2012-05-28
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01M4/58
CPC classification number: H01M4/5825
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公开(公告)号:JP6487556B2
公开(公告)日:2019-03-20
申请号:JP2017532312
申请日:2015-08-05
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01J37/295
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公开(公告)号:JP6343096B2
公开(公告)日:2018-06-13
申请号:JP2017508921
申请日:2015-03-31
Applicant: 株式会社日立製作所
Inventor: 浅利 裕介
IPC: C01G37/00 , C01G51/00 , C01G25/00 , H01M4/525 , H01M10/0566 , H01M10/0562 , H01M10/0525 , H01M4/485
CPC classification number: H01M4/131 , C01G25/00 , C01G25/02 , C01G37/14 , C01G51/42 , C01P2002/30 , C01P2002/32 , C01P2002/72 , C01P2006/40 , H01M4/485 , H01M4/525 , H01M10/0525 , H01M2004/027 , H01M2004/028
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公开(公告)号:JPWO2017022093A1
公开(公告)日:2018-05-10
申请号:JP2017532312
申请日:2015-08-05
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01J37/295
CPC classification number: H01J37/295
Abstract: 電子線の可干渉距離を超えた電磁場等の干渉計測においては、参照波中への該電磁場の漏洩が観察結果に影響を与えるため、精度の高い電磁場測定にはこの影響の除去や軽減する手法が求められていた。本発明は電磁場の軸対称性に着目し、軸対称電磁場を観察対象として物体波領域とし、該電磁場の対称中心から相対する複数の領域を参照波領域とし、該物体波領域と各々の参照波領域を透過した電子線との干渉を各々ホログラムとして記録する。各々の再生位相分布像を求めた後、各々の該再生位相分布像を該電磁場の対称中心と方位が一致するように位置合わせを行った上で加算平均などの演算処理をする。これにより、該各々の参照波領域への該電磁場の影響が相殺され、観察対象電磁場の参照波中への影響が軽減された高精度な計測結果を実現できる。
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公开(公告)号:JP2018125121A
公开(公告)日:2018-08-09
申请号:JP2017015295
申请日:2017-01-31
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: H01M10/052 , H01M4/62 , H01M4/13 , H01B1/06 , C01G19/00 , H01M10/0562
Abstract: 【課題】結晶欠陥によるリチウムイオン伝導性の低下を防止した、ラムスデライト型結晶構造を有する固体電解質を得る。 【解決手段】ラムスデライト型の結晶構造を有する固体電解質であって、化学式Li y A z Sn 4−x O 8 (式中、Aは二価のカチオンである。)で表され、錫サイトを占有するLiの数が、リチウムイオン伝導路を占有するAの数より多いものを用いる。 【選択図】図1
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公开(公告)号:JP2018010428A
公开(公告)日:2018-01-18
申请号:JP2016137833
申请日:2016-07-12
Applicant: 株式会社日立製作所
IPC: G06N3/12
Abstract: 【課題】 遺伝的アルゴリズムを使用して、無機化合物を対象として、目的とする材料機能を実現する新たな結晶構造を探索する材料創成装置を提供する。 【解決手段】 遺伝的アルゴリズムを使用して、無機材料の結晶構造の生成、結晶構造の突然変異操作、結晶構造の交叉操作、結晶構造の構造緩和計算、目的関数の予測値の計算、目的関数の予測値に基づく結晶構造の選択と淘汰、第一原理計算による結晶構造の目的関数値の観測、前記目的関数値の観測結果に基づく回帰モデルの更新、および材料創成処理の終了判定の各処理を制御する遺伝的アルゴリズム制御部を構成する。 【選択図】 図4
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公开(公告)号:JP6200067B2
公开(公告)日:2017-09-20
申请号:JP2016507149
申请日:2014-03-10
Applicant: 株式会社日立製作所
Inventor: 浅利 裕介
CPC classification number: H01M4/505 , C01G45/1228 , H01M10/0525 , C01P2002/77 , C01P2006/40 , H01M10/052 , H01M2004/028
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