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公开(公告)号：JP6974116B2
公开(公告)日：2021-12-01
申请号：JP2017208327
申请日：2017-10-27
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , H01L21/683
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公开(公告)号：JP2021122895A
公开(公告)日：2021-08-30
申请号：JP2020018043
申请日：2020-02-05
Applicant: 株式会社荏原製作所
Inventor： 柏木 誠
IPC: B24B21/00 , H01L21/304 , B24B41/047
Abstract: 【課題】均一な力で研磨具を基板に押し付けることができる研磨ヘッドを提供する。 【解決手段】研磨ヘッド10は、研磨具3を基板Wに対して押し付けるための環状の弾性部材40と、弾性部材40を介して研磨具3を基板Wに対して押し付ける押圧面44を有する押圧具本体43とを備え、押圧面44は、弾性部材40の第1部位41が嵌合する第1嵌合溝45を有し、第1部位41は、押圧面44から突出しており、弾性部材40は弾性変形した状態で押圧具本体43に掛けられており、研磨ヘッド10は、第1部位41により研磨具3を基板Wに押し付けるように構成されている。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP2021079488A
公开(公告)日：2021-05-27
申请号：JP2019208865
申请日：2019-11-19
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , H01L21/683 , B24B37/30
Abstract: 【課題】基板を均一に研磨パッドに押圧することができるトップリングを提供する。 【解決手段】基板WFを保持するためのトップリング302は、トップリングシャフト18に連結されたベース部材301と、ベース部材301に取り付けられ、ベース部材301との間に基板WFを加圧するための加圧室322を形成する弾性膜320と、基板WFを吸着するための基板吸着面334aおよび減圧手段31と連通する減圧部334bを有する多孔質部材334を含み、弾性膜320に保持される基板吸着部材330と、を含む。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP2019034379A
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：JP2017157599
申请日：2017-08-17
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B41/06 , B24B55/02 , H01L21/304 , B24B21/00
Abstract: 【課題】基板の裏面が下を向いた状態で、効率的に基板の裏面の最外部を含む裏面全体を研磨することができる方法および装置を提供する。また、基板の裏面が下を向いた状態で、効率的に基板の裏面の最外部を含む裏面全体を処理する方法を提供する。 【解決手段】本方法は、基板Wの裏面が下向きの状態で複数のローラー11を基板Wの周縁部に接触させながら、複数のローラー11をそれぞれの軸心を中心に回転させることで、基板Wを回転させ、基板Wの裏面に液体を供給しながら、かつ基板Wの下側に配置された研磨テープ31を基板Wの裏面に接触させながら、研磨テープ31を基板Wに対して相対運動をさせて基板Wの裏面全体を研磨する。 【選択図】図1
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2016201535A
公开(公告)日：2016-12-01
申请号：JP2016034548
申请日：2016-02-25
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683 , B24B49/12 , B24B49/02 , H01L21/304 , H01L21/68
Abstract: 【課題】ウェハなどの基板の中心を基板ステージの軸心に高精度に合わせることができる基板処理装置を提供する。 【解決手段】基板処理装置は、基板Wの中心のセンタリングステージ10の軸心C1からの偏心量および偏心方向を取得する偏心検出部60と、センタリングステージ10上の基板Wの中心がプロセスステージ20の軸心C2上に位置するまでセンタリングステージ10を移動および回転させるセンタリング動作を実行するアライナー36,41,75とを備える。アライナー36,41,75は、プロセスステージ20の軸心に対するセンタリングステージ10の軸心の初期相対位置と、基板Wの中心の偏心量および偏心方向に基づいて、センタリングステージ10を移動させる距離およびセンタリングステージ10を回転させる角度を算出する。 【選択図】図1
Abstract translation: 提供一种基板处理装置的基板的中心可以以高精度被调整到基板台，的轴线，如晶片。 一种基板处理装置，用于获取所述衬底W的中心的定中心级10的轴线C1偏心和偏心方向偏心检测器单元60，在定心台上的基板W的中心10个处理级20 和对准器36,41,75以执行移动和旋转中心台10，直到定位在轴心C2的定心动作。 对准器36,41,75，的距离和定心的定心级10的轴线的初始相对位置相对于所述处理阶段20的轴向中心，偏心率和衬底W的中心，偏心方向的基础上，以移动定心级10 它可以计算用于旋转台10的角度。 点域1
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公开(公告)号：JP2020168675A
公开(公告)日：2020-10-15
申请号：JP2019070612
申请日：2019-04-02
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/683 , H01L21/304 , B24B37/12 , B24B37/30
Abstract: 【課題】複雑な形状の金型を使用せずに複数の圧力室を備える基板処理装置の基板保持部に使用する弾性部材を提供する。 【解決手段】基板処理装置の基板保持部に使用される男性部材は、積層メンブレンであって、該積層メンブレンは、第1シート材料320aと、前記第1シート材料320aの上に配置されている第2シート材料320bと、を有し、前記第1シート材料320aの一部は前記第2シート材料320bの一部に接着剤により固定されている。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2020044626A
公开(公告)日：2020-03-26
申请号：JP2018176354
申请日：2018-09-20
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: H01L21/304 , B24B37/30
Abstract: 【課題】基板の角部および辺部の中央の付近の押圧力を局所的に調整できる研磨ヘッドを提供する。 【解決手段】研磨テーブルに取り付けられた研磨パッドによって角形の基板121を研磨するための研磨装置の研磨ヘッド120であって、ヘッド本体部200と、ヘッド本体部200の、研磨テーブルに対向すべき面に設けられた複数の弾性バッグ210と、基板121を保持するための基板保持プレート230であって、弾性バッグ210によってヘッド本体部200から離れる方向に押圧される、基板保持プレート230と、を備え、ヘッド本体部200には、弾性バッグ210のそれぞれと連通するバッグ用流路201が設けられており、研磨ヘッド120はさらに、弾性バッグ210と基板保持プレート230との間に設けられた、少なくとも2つのサポートプレート220を備え、弾性バッグ210は、サポートプレート220を介して基板保持プレート230を押圧する。 【選択図】図2A
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公开(公告)号：JP2019155519A
公开(公告)日：2019-09-19
申请号：JP2018044197
申请日：2018-03-12
Applicant: 株式会社荏原製作所
IPC: B24B21/20 , B24B9/00 , H01L21/304 , B24B21/00
Abstract: 【課題】基板のエッジ部の研磨中に、研磨テープが押圧部材に対してずれてしまうことを防止することができる研磨装置を提供する。 【解決手段】研磨装置は、基板を保持して回転させる基板保持部と、研磨テープ7の研磨面を基板のエッジ部に対して押し付ける押圧部材11と、研磨テープ7の研磨面をエッジ部に対して押し付ける荷重を押圧部材11に伝達する荷重伝達部材27と、研磨テープ7の研磨面側に配置される押圧ローラ機構50と、を備える。押圧ローラ機構50は、研磨テープ7の研磨面に接触する押圧ローラ52を有する少なくとも1つの押圧ローラユニット51と、研磨テープ7の研磨面とは反対側の面を押圧部材11に押し付ける付勢力を押圧ローラ52に付与する付勢手段54と、付勢手段54の付勢力を調整する付勢力調整機構53と、を備える。 【選択図】図5
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