硬化性組成物、電子部品、電子部品の製造方法

    公开(公告)号:JP2019191303A

    公开(公告)日:2019-10-31

    申请号:JP2018081776

    申请日:2018-04-20

    IPC分类号: G03F7/027 C08G59/40 G03F7/004

    摘要: 【課題】耐熱性が改善されて変色が防止され、スクラッチ性が優れ、かつ柔軟性及び現像性も良好な硬化膜を形成しうる硬化性組成物を提供することを目的とする。 【解決手段】 カルボキシ基含有樹脂と、光重合性モノマー及び光重合性プレポリマーからなる群から選択される一種以上の化合物を含有する光重合性化合物と、環状エーテル骨格を有する化合物と、フェノール骨格とアミド結合とを有する分子量200〜600の化合物(X)と、光重合開始剤と、酸化チタンとを含む硬化性組成物。 【選択図】なし

    レジスト光硬化性組成物、プリント配線板及び電子部品の製造方法
    5.
    发明专利
    レジスト光硬化性組成物、プリント配線板及び電子部品の製造方法 审中-公开
    抗蚀剂光固化组合物,印刷电路板和一种制造电子部件的方法

    公开(公告)号:JP2017002294A

    公开(公告)日:2017-01-05

    申请号:JP2016112895

    申请日:2016-06-06

    摘要: 【課題】酸化チタンが使用されていることにより、光の反射率が高いレジスト膜を得ることができ、更にレジスト膜の耐湿性及び密着性と、光硬化性組成物の保存安定性とを両立することができるレジスト光硬化性組成物を提供する。 【解決手段】本発明に係るレジスト光硬化性組成物は、光硬化性化合物と、硫黄原子含有化合物と、塩素法ルチル型酸化チタンと、光重合開始剤とを含み、エポキシ化合物を含まないか、又は、エポキシ化合物を10重量%未満で含む。 【選択図】図1

    摘要翻译: 由氧化钛A用于既可以是光反射率得到高的抗蚀剂膜的耐湿性和粘附性的抗蚀剂膜,并且所述光固化性组合物的储存稳定性 提供一种抗蚀剂光固化组合物,其可以是。 甲根据本发明的抗蚀剂光固化组合物包含光固化性化合物,和含硫原子的化合物,氯法金红石型氧化钛,和光引发剂,不含有环氧化合物 或包括具有少于10%(重量)的环氧化合物。 点域1

    光硬化性組成物及び電子部品の製造方法

    公开(公告)号:JP2017119863A

    公开(公告)日:2017-07-06

    申请号:JP2016251474

    申请日:2016-12-26

    IPC分类号: H05K3/28 C08F290/06

    摘要: 【課題】鉛筆硬度及び光の反射率に優れている硬化物膜を得ることができる光硬化性組成物を提供する。 【解決手段】本発明に係る光硬化性組成物は、カルボキシル基を有さないエポキシ(メタ)アクリレートと、(メタ)アクリロイル基を3個以上有する(メタ)アクリレート化合物と、(メタ)アクリロイル基を1個有する(メタ)アクリレート化合物と、白色顔料と、光重合開始剤とを含み、前記白色顔料の含有量が30重量%以上であり、前記カルボキシル基を有さないエポキシ(メタ)アクリレート100重量部に対して、2種類の前記(メタ)アクリレート化合物の合計の含有量が100重量部以上、1000重量部以下である。 【選択図】図1

    半導体素子保護用材料及び半導体装置
    9.
    发明专利
    半導体素子保護用材料及び半導体装置 审中-公开
    半导体元件保护材料和半导体器件

    公开(公告)号:JP2017039801A

    公开(公告)日:2017-02-23

    申请号:JP2015160675

    申请日:2015-08-17

    摘要: 【課題】塗布性に優れ、放熱性に優れた硬化物を得ることができ、半導体素子を良好に保護することができる半導体素子保護用材料を提供する。 【解決手段】本発明に係る半導体素子保護用材料は、熱硬化性化合物と、硬化剤又は硬化触媒と、熱伝導率が10W/m・K以上である無機フィラーとを含み、前記無機フィラーの体積基準での粒度分布において、2以上のピークが存在する。 【選択図】図1

    摘要翻译: 优异的涂层性质,所以能够得到具有优异的热辐射的固化物,是提供一种能够令人满意地保护半导体元件的半导体元件保护材料。 根据本发明的半导体元件保护材料可以包括热固性化合物,固化剂或固化催化剂,和无机填料是10瓦/米·热导率K以上,无机填料的 在体积基准的粒度分布中,超过一个峰存在。 1点域

    硬化物膜の製造方法
    10.
    发明专利
    硬化物膜の製造方法 审中-公开
    用于制备固化产物薄膜的方法

    公开(公告)号:JP2017035687A

    公开(公告)日:2017-02-16

    申请号:JP2016157703

    申请日:2016-08-10

    摘要: 【課題】L*a*b*表色系におけるb*値が高くなり難く、光の反射率が高い硬化物膜を形成することができ、更に硬度が高い硬化物膜を形成することができる硬化物膜の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明に係る硬化物膜の製造方法は、光硬化性化合物と、光重合開始剤と、白色顔料とを含む光硬化性組成物に光を照射し、硬化物膜を形成する光照射工程を備え、前記光照射工程において、254nmの受光器で測定した積算光量が1800mJ/cm 2 以下、365nmの受光器で測定した積算光量が750mJ/cm 2 以上かつ4000mJ/cm 2 以下、かつ254nmの受光器で測定した積算光量が、365nmの受光器で測定した積算光量よりも小さくなるように、光を照射する。 【選択図】図1

    摘要翻译: 甲的L * a * b *表中的颜色系统难以的b *值的增加,它是光的反射率,以形成一个高的固化膜可以进一步硬度,以形成一个高的固化膜 提供一种制造固化物层的方法。 根据本发明的生产的固化物膜的方法,包括:光固化性化合物,和光聚合引发剂,其包括白色颜料的光固化组合物的光照射,以形成固化物薄膜 包括光照射步骤中,在光照射工序中,通过波长254nm的光接收器测得的累计光为1800毫焦耳/厘米2或更小,光在光接收器750毫焦耳/厘米2或更多,4000毫焦/厘米2或更小的365nm的测量的累积量,和254nm的 由光接收器测量的光的累积量是如此之比在光接收器的测量为365nm的光的积分量小,则照射光。 点域1