公开(公告)号：JP2015032457A

公开(公告)日：2015-02-16

申请号：JP2013161235

申请日：2013-08-02

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  Hitachi High-Technologies Corp

Inventor： NAKAYAMA YOSHINORI ,  HAYATA YASUNARI ,  HATANO MICHIO ,  WANG JIKANG ,  FUKAYA RITSUO

IPC: H01J37/20 ,  G01N1/00 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

Abstract: 【課題】荷電粒子ビーム装置の分解能や焦点などのビーム調整を高精度かつ安定に行うことを可能にする校正用標準部材および校正方法並びに荷電粒子ビーム装置を提供する。【解決手段】電粒子ビーム装置の荷電粒子ビームを校正する校正用標準部材を、第1の基板と、この第1の基板上に重金属材料よりなる層と軽元素材料よりなる層とを交互に積層して形成した校正パターン層と、この校正パターン層を挟んで第1の基板と反対の側から校正パターン層をカバーする第2の基板と、第1の基板と校正パターンと第2の基板とが同一の面内で平坦に加工された面を覆うようにして形成された導電性材料の薄膜とを備えて構成し、これを用いて荷電粒子ビーム装置の電子光学系を調整するようにした。【選択図】図1

Abstract translation: 要解决的问题：提供：用于校准的参考构件，可以高度精确和稳定地执行带电粒子束装置中的分辨率，焦点等的波束调整; 校准方法; 和带电粒子束装置。解决方案：校准用于校准带电粒子束装置的带电粒子束的校准用基准部件，包括：第一基板; 在第一基板上交替地层叠由重金属材料制成的层和由轻质材料构成的层而形成的校准图案层; 第二基板，其从夹着所述校准图案层的与所述第一基板相反的一侧覆盖所述校准图案层; 以及形成为覆盖第一基板的表面，校准图案和第二基板的导电材料薄膜，所述面在同一平面内被平滑地处理。 使用参考构件调整带电粒子束装置的电子光学系统。

公开(公告)号：JP2013206641A

公开(公告)日：2013-10-07

申请号：JP2012072710

申请日：2012-03-28

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： YOKOSUKA TOSHIYUKI ,  RI AKIRA ,  KAZUMI HIDEYUKI ,  MAKINO HIROSHI ,  MIZUHARA YUZURU ,  IZAWA MIKI ,  HATANO MICHIO ,  MOMOI YOSHINORI

IPC: H01J37/28 ,  G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  H01J37/05 ,  H01J37/244 ,  H01L21/66

CPC classification number: H01J37/28 ,  G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  H01J2237/0492 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/281 ,  H01J2237/2815 ,  H01J2237/2817

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning electron microscope forming an electric field that pulls up electrons discharged from the bottom of a hole or the like with high efficiency even when a sample surface is made of a conductive material.SOLUTION: A scanning electron microscope includes: a deflector for deflecting a scanning position of an electron beam; a sample stage for mounting a sample thereon; and a controller for controlling the deflector or the sample stage so that an underlying lower layer pattern of a pattern to be measured irradiates underlying other patterns with the electron beam before the pattern to be measured is irradiated with the electron beam.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种形成电场的扫描电子显微镜，即使当样品表面由导电材料制成时，也可以高效率地拉出从孔底等排出的电子。溶解度：扫描电子显微镜 包括：偏转器，用于偏转电子束的扫描位置; 用于在其上安装样品的样品台; 以及控制器，用于控制偏转器或样品台，使得要被测量的图案的下面的下层图案用电子束照射待测量图案之前用电子束照射下面的其他图案。

公开(公告)号：JP2014143072A

公开(公告)日：2014-08-07

申请号：JP2013010732

申请日：2013-01-24

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： HATANO MICHIO ,  MIYAHARA YUKIYOSHI ,  WANG JIKANG

IPC: H01J37/20

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a specimen holder for highly accurately forming a slowdown electric field which is formed by retarding, in a charged particle beam device such as a scanning electron microscope, and the charged particle beam device.SOLUTION: A specimen holder and a charged particle beam device are proposed. The specimen holder includes a plurality of first grooves for holding a plurality of specimens to be irradiated with beams from the charged particle beam device. The specimen holder further includes second grooves which are formed for each of the first grooves and in which the first grooves are formed, and pressing members which are provided for each of the first grooves and which presses the specimens towards the first grooves. The pressing members are disposed within the second groove. Further, in the case where one groove is included, the specimen holder is disposed in the groove in such a manner that the specimen and the pressing member are accommodated in the groove.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种用于高精度地形成通过在诸如扫描电子显微镜的带电粒子束装置和带电粒子束装置中延迟而形成的减速电场的样本保持器。解决方案： 提出了带电粒子束装置。 样品架包括多个第一凹槽，用于保持多个待照射来自带电粒子束装置的光束的样品。 样品架还包括为每个第一凹槽形成的第一凹槽和形成有第一凹槽的第二凹槽，以及为每个第一凹槽提供的压紧构件，并将试样朝向第一凹槽挤压。 按压构件设置在第二槽内。 此外，在包括一个凹槽的情况下，样本保持器以使得样本和按压构件容纳在凹槽中的方式设置在凹槽中。

公开(公告)号：JP2013242216A

公开(公告)日：2013-12-05

申请号：JP2012115295

申请日：2012-05-21

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： MOMOI YOSHINORI ,  HAMADA KOICHI ,  TAKAGI YUJI ,  HATANO MICHIO ,  KAZUMI HIDEYUKI

IPC: G01B15/04

CPC classification number: H04N7/18 ,  G06T7/0006 ,  G06T2207/10016 ,  G06T2207/10061 ,  G06T2207/30148

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a technology capable of appropriately selecting and measuring a pattern contour of a measuring object even in a case where contours of patterns approximate with each other, in a sample including a plurality of patterns on the substantially same surface.SOLUTION: A pattern measurement apparatus scans a sample with electric charge particles, creates a detection image by detecting secondary electric charge particles or reflection electric charge particles generated from the sample, and measures a pattern imaged in the detection image. The pattern measurement apparatus includes: an image acquisition unit for acquiring a plurality of detection images that are in the substantially same place of the sample and whose imaging conditions are different from each other; a contour extraction unit for extracting a plurality of pattern contours from the detection images; a contour reconstruction unit for reconstructing a contour of a measuring object by combining the pattern contours; and a contour measurement unit for performing measurement with the reconstructed contour of the measuring object.

Abstract translation: 要解决的问题：即使在图案的轮廓彼此近似的情况下，提供能够适当地选择和测量测量对象的图案轮廓的技术，在包括在基本相同的表面上的多个图案的样本中。 ：图案测量装置用电荷粒子扫描样品，通过检测从样品产生的二次电荷粒子或反射电荷粒子产生检测图像，并测量在检测图像中成像的图案。 图案测量装置包括：图像获取单元，用于获取与样本基本相同的位置并且其成像条件彼此不同的多个检测图像; 轮廓提取单元，用于从检测图像中提取多个图案轮廓; 轮廓重建单元，用于通过组合图案轮廓来重建测量对象的轮廓; 以及轮廓测量单元，用于使用测量对象的重建轮廓进行测量。

公开(公告)号：JP2013058314A

公开(公告)日：2013-03-28

申请号：JP2011194563

申请日：2011-09-07

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： MORISHITA HIDERO ,  OSHIMA TAKU ,  HATANO MICHIO ,  ITO SUKEHIRO

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: H01J37/28 ,  H01J37/04 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/2443 ,  H01J2237/2444 ,  H01J2237/24475 ,  H01J2237/2448 ,  H01J2237/2804 ,  H01J2237/2806

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a low speed scanning electron microscope which can detect a reflection electron and a secondary electron even of a low probe current while discriminating.SOLUTION: The scanning electron microscope comprises an electron gun 29, an aperture 26, a sample table 3, an electron optics system 4-1 for focusing an electron beam 31 onto a sample 2, deflection means 10, a secondary electron detector 8, a reflection electron detector 9, and cylindrical electron transport means 5 interposed between the electron gun 29 and the sample 2. The reflection electron detector 9 is disposed in the electron transport means 5 on the side remoter from the electron gun 29 than the secondary electron detector 8 and the deflection means 10, and the sensitive surface 9-1 of the reflection electron detector 9 is wired electrically so as to have the same potential as that of the electron transport means 5.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种低分辨率的能够检测反射电子和二次电子的低速扫描电子显微镜。 解决方案：扫描电子显微镜包括电子枪29，孔26，样品台3，用于将电子束31聚焦到样品2上的电子光学系统4-1，偏转装置10，二次电子检测器 8，反射电子检测器9以及置于电子枪29与样品2之间的圆筒形电子传输装置5.反射电子检测器9设置在电子枪29侧的远端的电子传输装置5中， 电子检测器8和偏转装置10，并且反射电子检测器9的敏感表面9-1被电连接以具有与电子传输装置5相同的电位。版权所有（C）2013 ，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2011138648A

公开(公告)日：2011-07-14

申请号：JP2009296666

申请日：2009-12-28

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： KOTAKE KO ,  HATANO MICHIO ,  ITO MASUHIRO ,  TOMITA SHINICHI

IPC: H01J37/244

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To further improve response speed by shortening a drift hour of ions, to raise efficiency in gas amplification caused by an electron avalanche, to improve the efficiency of ion detection, and to improve the image quality of a low-vaccum secondary electron image.
SOLUTION: A charged particle beam device which is equipped with a sample board to hold a sample, a sample chamber to store the sample board, an irradiating optical system to irradiate the charged particle beams in the sample chamber, an objective lens to converge the charged particle beams on the sample, has a detector in a space between the objective lens and the sample to detect the secondary charged particles released from the sample by the irradiation of the charged particle beam in which the detector is constituted of a first electrode applied with a positive voltage and at least two sheets of second electrodes which are applied with lower voltages than the positive voltage and sandwich the first electrode. The electric current flowing in either or all of the electrodes is detected as a signal current.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：为了通过缩短离子漂移时间来进一步提高响应速度，提高由电子雪崩引起的气体放大效率，提高离子检测的效率，并提高低质量的图像质量 -vaccum二次电子图像。 解决方案：装有样品板以保持样品的带电粒子束装置，用于存储样品板的样品室，用于照射样品室中的带电粒子束的照射光学系统，物镜， 将带电粒子束收集在样品上，在物镜和样品之间的空间中具有检测器，以通过照射带电粒子束来检测从样品释放的二次带电粒子，其中检测器由第一电极 施加正电压和至少两片第二电极，其施加的电压低于正电压并夹着第一电极。 在任一个或所有电极中流动的电流被检测为信号电流。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2015018720A

公开(公告)日：2015-01-29

申请号：JP2013145960

申请日：2013-07-12

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  Hitachi High-Technologies Corp

Inventor： HATANO MICHIO ,  WANG JIKANG

IPC: H01J37/244 ,  H01J37/22

Abstract: 【課題】本発明は、画素ごとの信号電子の数を正確に計数することが可能な荷電粒子線装置の提供を目的とする。【解決手段】上記目的を達成するための一態様として、以下に荷電粒子源から放出された荷電粒子ビームの試料への照射によって得られる荷電粒子を検出する検出器と、前記試料に対する前記荷電粒子ビームの照射を遮断するブランカを備えた荷電粒子線装置であって、前記検出器の出力に基づいて、サンプリング時間単位の荷電粒子の検出の有無を決定する処理部を備え、当該処理部は、前記ブランカによって前記試料に対する荷電粒子ビームの照射が遮断されているときの前記検出器の出力に基づいて、前記荷電粒子の検出の有無を決定するための参照情報を算出し、当該参照情報に基づいて、前記試料に荷電粒子ビームが照射されているときの荷電粒子の検出の有無を決定し、計数して画素毎に計数した数に対応した輝度を出力する荷電粒子線装置を提案する。【選択図】図4

Abstract translation: 要解决的问题：提供能够精确地计数每个像素的信号电子数的带电粒子束装置。解决方案：带电粒子束装置包括：检测器，用于检测通过用带电粒子束照射样品获得的带电粒子 从带电粒子源发射; 以及用于将带电粒子束照射到样品的消除器。 带电粒子束装置还包括处理单元，用于基于检测器的输出来确定每个采样时间是否检测到带电粒子。 所述处理单元基于所述检测器的输出来判断所述带电粒子是否被检测到的参考信息，所述检测器的所述带电粒子束对所述样品的照射被所述消隐器切断时，判定当所述带电粒子是否被检测到时， 基于参考信息用带电粒子束照射样品，对带电粒子的数量进行计数，并输出与每个像素的计数数相对应的亮度。

公开(公告)号：JP2015008078A

公开(公告)日：2015-01-15

申请号：JP2013132789

申请日：2013-06-25

Applicant: 株式会社日立ハイテクノロジーズ ,  Hitachi High-Technologies Corp

Inventor： KURODA KOICHI ,  HATANO MICHIO

IPC: H01J37/141

Abstract: 【課題】励磁コイルを流れる励磁電流が変化しても電子レンズの磁路の温度を変えることなく、磁路の変形を防いで、画像ボケや視野位置のドリフトの影響が少ない電子レンズ及び荷電粒子線装置を提供する。【解決手段】電子レンズ40の、励磁コイル41と磁路42との間に介在して励磁コイル41覆う非磁性体金属覆い48に加熱部としての温媒循環パイプ51ou、51do、51ui、51idを設け、試料観察の開始当初は、使用頻度が高い励磁電流を励磁コイル41に流した場合に磁路42が熱平衡状態となる温度以上で、電子レンズ40の各構成部の耐熱温度よりも低い温度からなる目標設定温度Tsetで、非磁性体金属覆い48を加熱し、磁路42の温度を予め設定された試料観察条件の励磁電流で磁路42が熱平衡状態となる温度以上の目標温度にする。【選択図】図2

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种电子透镜和带电粒子束装置，即使当通过磁性励磁线圈的磁激励电流是不变化时，也可以防止电磁透镜的磁路的变形， 改变，并且不太可能受图像模糊的影响和视场位置的漂移。解决方案：电子透镜40包括：磁激励线圈41; 磁路42; 介于磁激励线圈41和磁路42之间并覆盖磁激励线圈41的非磁性金属盖48; 以及加热部，其包括用于加热非磁性金属盖48的热介质循环管道51ou，51do，51ui和51id。在样品观察开始的开始，加热部分在目标设定温度Tset下加热非磁性金属盖48 由等于或高于磁路42处于热平衡状态的温度的温度组成，并且在强制频繁使用的磁激励电流通过的情况下低于电子透镜40的组成部分的耐热温度 磁激励线圈41，使磁路42的温度为目标温度以上，使其为磁路42进入热平衡状态时的温度，该温度通过使用预先设定的样品观察条件的磁激励电流 。

公开(公告)号：JP2013030277A

公开(公告)日：2013-02-07

申请号：JP2011163522

申请日：2011-07-26

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： MAKINO HIROSHI ,  KAZUMI HIDEYUKI ,  HATANO MICHIO

IPC: H01J37/22 ,  G01B15/00 ,  G01B15/04 ,  H01J37/147 ,  H01J37/244 ,  H01J37/28

CPC classification number: G01B15/04 ,  G01B2210/56 ,  H01J37/28 ,  H01J2237/221 ,  H01J2237/244 ,  H01J2237/2446 ,  H01J2237/24495 ,  H01J2237/2814 ,  H01J2237/2815 ,  H01J2237/2817

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a charged particle beam apparatus and a measuring method that enable the dimensions of a pattern bottom to be measured at high accuracy even with a high-aspect ratio structure.SOLUTION: In a method for measuring the dimensions of a pattern bottom of a sample on which a pattern with a high aspect ratio is formed, a comparison is made between a first scanned image and a second scanned image that are based on signal charged particles that are generated when a charged particle beam is scanned onto the same region of the sample in a first direction and in a second direction inverse to the first direction, the scanned image having a lower signal intensity is taken to be the true value, the scanned image is reconstructed, and the reconstructed scanned image is used to measure the dimensions of the pattern bottom formed on the sample. Also provided is a charged particle beam apparatus for implementing this method.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种带电粒子束装置和测量方法，其能够即使在高纵横比结构下也可以以高精度测量图案底部的尺寸。 解决方案：在用于测量其上形成有高纵横比的图案的样品的图案底部的尺寸的方法中，基于信号的第一扫描图像和第二扫描图像进行比较 当带电粒子束沿着第一方向扫描到样品的相同区域并且在与第一方向相反的第二方向上产生的带电粒子时，具有较低信号强度的扫描图像被认为是真实值， 扫描的图像被重建，并且重建的扫描图像用于测量形成在样品上的图案底部的尺寸。 还提供了一种用于实现该方法的带电粒子束装置。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP2008243485A

公开(公告)日：2008-10-09

申请号：JP2007080166

申请日：2007-03-26

Applicant: Hitachi High-Technologies Corp ,  株式会社日立ハイテクノロジーズ

Inventor： HATANO MICHIO ,  OSHIMA TAKU ,  SATO MITSUGI

IPC: H01J37/28 ,  H01J37/05 ,  H01J37/09 ,  H01J37/244 ,  H01J49/44

CPC classification number: G01N23/225 ,  H01J37/244 ,  H01J2237/2446 ,  H01J2237/24485 ,  H01J2237/28

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a scanning electron microscope which subjects secondary particles to bandpass discrimination in a desired energy region, and detects them at a high yield.
SOLUTION: A lens 23 is arranged on an electron source side relative to an object lens 18 and, even when a primary electron beam forms any optical system on an electron gun side by the lens, the primary electron beam is operated to be converged on a convergence point 24 being a specific position. An ExB 16 for a detection part supplying a field acting on tracks of secondary particles generated from a sample 2, is arranged at the convergence point 24 of the primary electron beam, and only the secondary particles in a specific energy range is guided to a detection part 13. Since the position to which the field acting on the tracks of the secondary particles is supplied, is the convergence point of the primary electron beam 19, only the secondary particles having desired energy is guided to the detection part without increasing the aberration of the primary electron beam 19, the bandpass discrimination of energy is effectively carried out, and signal electrons in accordance with an observation objective are discriminated and detected.
COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种扫描电子显微镜，其使二次粒子在期望的能量区域中进行带通辨别，并以高产率检测它们。 解决方案：透镜23相对于物镜18布置在电子源侧，并且即使当一次电子束由透镜在电子枪侧形成任何光学系统时，一次电子束被操作为 会聚在作为特定位置的会聚点24上。 用于提供作用于从样品2产生的二次粒子的轨道上的场的检测部分的ExB 16布置在一次电子束的会聚点24处，并且仅将特定能量范围内的二次粒子引导到检测 由于作用在次级粒子的轨道上的场的位置是一次电子束19的会聚点，所以只有具有期望能量的二次粒子被引导到检测部分而不增加像素 一次电子束19有效地进行能量的带通鉴别，并且鉴别和检测根据观察目标的信号电子。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT