感放射線性組成物、重合体及びパターン形成方法

    公开(公告)号:JP2020201389A

    公开(公告)日:2020-12-17

    申请号:JP2019108261

    申请日:2019-06-10

    Abstract: 【課題】高膜厚の隔壁等を形成可能な新たなパターン形成方法、並びにこのようなパターン形成方法に好ましく使用できる感放射性組成物及び重合体を提供する。 【解決手段】本発明は、下記式(1)で表される構造単位とフッ素原子を含む基を有する構造単位とを含む重合体、酸発生剤、及び溶剤を含有する感放射線性組成物である。式(1)中、Xは、単結合、−COO−、又は−CONH−である。R 1 は、単結合又は炭素数1から6のアルカンジイル基である。R 2 は、炭素数1から4のアルキル基である。R 3 は、水素原子又はメチル基である。nは、1から4の整数である。nが2以上の場合、複数のR 2 は、それぞれ独立して上記定義を満たす。 【選択図】図1A

    赤外線吸収組成物
    3.
    发明专利

    公开(公告)号:JP2019159120A

    公开(公告)日:2019-09-19

    申请号:JP2018045897

    申请日:2018-03-13

    Abstract: 【課題】凝集異物の発生が抑制されており、また、得られる赤外線吸収膜を誘電体多層膜と組み合わせて用いることで、固体撮像素子の赤外線遮蔽フィルタとして良好な赤外線吸収能を発揮することができる赤外線吸収組成物を提供する。 【解決手段】本発明は、波長650nm以上900nm以下の範囲に最大吸収波長を有する2種以上の有機色素、波長900nm以上2000nm以下の範囲に極大吸収波長を有する無機化合物、バインダー樹脂、及び溶媒を含有し、下記式(I)を満たす赤外線吸収組成物である。X>Y≧0.80Z ・・・ (I)式(I)中、X、Y及びZは、順に波長700nm以上800nm以下の範囲、波長800nm以上900nm以下の範囲、及び波長900nm以上1200nm以下の範囲における上記赤外線吸収組成物の吸光度の平均値である。 【選択図】図1

    赤外線吸収組成物の精製方法及び赤外線吸収組成物の製造方法

    公开(公告)号:JP2018180176A

    公开(公告)日:2018-11-15

    申请号:JP2017077429

    申请日:2017-04-10

    Abstract: 【課題】十分に異物を取り除くことができ、精製された赤外線吸収組成物からは良好な可視光透過性、赤外線遮蔽性及びコントラスト特性を兼ね備える赤外線遮断フィルターを得ることができる赤外線吸収組成物の精製方法及び赤外線吸収組成物の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明は、波長800nm以上2000nm以下の範囲に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する赤外線吸収組成物の精製方法において、濾材(I)、及び上記濾材(I)の下流側に配置される濾材(II)を有する濾過装置により上記赤外線吸収組成物を濾過する工程を備え、上記濾材(I)の臨界表面張力が、上記濾材(II)の臨界表面張力より大きい赤外線吸収組成物の精製方法である。 【選択図】図1

    光電変換装置
    7.
    发明专利
    光電変換装置 审中-公开

    公开(公告)号:JPWO2019026848A1

    公开(公告)日:2020-08-13

    申请号:JP2018028467

    申请日:2018-07-30

    Abstract: 光電変換装置(116)は、半導体基板(112)に設けられた光電変換素子(113)と、光電変換素子(113)上に設けられた光学フィルタ(103)と、を有し、光学フィルタ(103)は、熱分解開始温度が150℃以上の色素を含有する樹脂層(102)と、光電変換素子を保護する層(101)と、を含み、光学フィルタ(103)の樹脂層(102)のダイナミック硬度は、10mN/μm 2 以上150mN/μm 2 以下である。

    パターン形成方法および感放射線性組成物

    公开(公告)号:JP2020076825A

    公开(公告)日:2020-05-21

    申请号:JP2018208887

    申请日:2018-11-06

    Abstract: 【課題】 本発明は、高厚膜の隔壁等を形成するための新たな方法を提供することを目的とし、さらにはその方法に好ましく使用される感放射性組成物を提供することを目的する。 【解決手段】 本発明の目的は、少なくとも、(1)感放射線性組成物を基板上に塗布し塗膜を形成する工程、(2)前記塗膜に放射線を照射し硬化することで塗膜1を形成する工程、(3)前記塗膜1に(2)工程とは異なる波長の放射線を照射し、塗膜1の所定部分に凹部を形成する工程、(4)前記凹部に、硬化性組成物を塗布し塗膜2を形成する工程、(5)前記塗膜1の前記所定部分以外の残部を除去する工程、を備えるパターン形成方法、によって達成された。 【選択図】図1

    半導体表面処理用組成物および半導体表面処理方法

    公开(公告)号:JP2019156990A

    公开(公告)日:2019-09-19

    申请号:JP2018046479

    申请日:2018-03-14

    Abstract: 【課題】半導体の表面から汚染を効果的に低減又は除去でき、且つ金属配線等の金属を腐食させにくい半導体表面処理用組成物およびこれを用いた方法。 【解決手段】(A)下記式(1)で表される繰り返し単位を有するポリマー鎖を有する重合体と、(B)分子量が500以下のキレート剤とを含有する、半導体表面処理用組成物。 〔式(1)において、R 1 は、水素原子又はメチル基を示し、Zは、有機アンモニウム塩を形成する基、−NR 5 R 6 (但し、R 5 及びR 6 は、相互に独立に、水素原子、又は置換若しくは非置換の炭化水素基を示す。)、又は置換若しくは非置換の含窒素複素環基を示し、Xは、単結合又は2価の連結基を示す。〕 【選択図】なし

    赤外線吸収組成物の精製方法及び赤外線吸収組成物の製造方法

    公开(公告)号:JP2018177916A

    公开(公告)日:2018-11-15

    申请号:JP2017077428

    申请日:2017-04-10

    Abstract: 【課題】十分に異物が取り除かれ、経時安定性も高い精製組成物を得ることができ、この精製組成物からは良好な赤外線遮蔽性及びコントラスト特性を兼ね備える赤外線遮断フィルターを得ることができる赤外線吸収組成物の精製方法及び赤外線吸収組成物の製造方法を提供する。 【解決手段】本発明は、波長800nm以上2000nm以下の範囲に極大吸収波長を有する金属酸化物を含有する赤外線吸収組成物の精製方法において、濾材(I)、及び上記濾材(I)の下流側に配置される濾材(II)を有する濾過装置により上記赤外線吸収組成物を濾過する工程を備え、上記濾材(I)の臨界表面張力が、上記濾材(II)の臨界表面張力より小さい赤外線吸収組成物の精製方法である。 【選択図】図1

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