公开(公告)号：JP6960267B2

公开(公告)日：2021-11-05

申请号：JP2017143111

申请日：2017-07-24

Applicant: 朝日化学工業株式会社 ,  日本製鉄株式会社

Inventor： 上恐 敏史 ,  宇野 祐一 ,  坂根 真 ,  木村 夏樹 ,  佐藤 一宏

IPC: C23G1/26 ,  C23G1/18 ,  C23G1/19 ,  C23F11/12 ,  C22C38/58 ,  C22C38/00 ,  C23F11/14

公开(公告)号：JP6924690B2

公开(公告)日：2021-08-25

申请号：JP2017245375

申请日：2017-12-21

Applicant: 花王株式会社

Inventor： 高田 真吾

IPC: G03F7/42 ,  G03F7/40 ,  B08B3/08 ,  C23G1/18 ,  H01L21/027 ,  H05K3/06 ,  C11D7/32

公开(公告)号：JP5841883B2

公开(公告)日：2016-01-13

申请号：JP2012084894

申请日：2012-04-03

Applicant: 第一工業製薬株式会社

Inventor： 鍋島 敏一 ,  堀江 拓也

IPC: C23G1/18 ,  C23G1/26 ,  C11D1/04 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D3/30 ,  C23G1/06

公开(公告)号：JP5097640B2

公开(公告)日：2012-12-12

申请号：JP2008203642

申请日：2008-08-06

Applicant: アドバンスド テクノロジー マテリアルズ,インコーポレイテッド

Inventor： ナグシネー シャーリアー ,  バーンズ ジェフ ,  ビー． オルダック エワ

IPC: C11D17/08 ,  C11D1/62 ,  C11D3/00 ,  C11D3/20 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D11/00 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  G03F7/42 ,  H01L21/02 ,  H01L21/304 ,  H01L21/3105 ,  H01L21/311 ,  H01L21/316 ,  H01L21/321

CPC classification number: H01L21/02074 ,  C11D1/62 ,  C11D3/0073 ,  C11D3/28 ,  C11D3/30 ,  C11D7/261 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3245 ,  C11D7/3254 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/20 ,  G03F7/425 ,  H01L21/02063

Abstract: A cleaning solution for cleaning microelectronic substrates, particularly for post-CMP or via formation cleaning. The cleaning solution comprises a quaternary ammonium hydroxide, an organic amine, a corrosion inhibitor, optionally an organic acid, and water. A preferred cleaning solution comprises tetramethylammonium hydroxide, monoethylanolamine, gallic acid ascorbic acid, and water with the alkalinity of the cleaning solution greater then 0.073 milliequivalents base per gram of solution.

公开(公告)号：JP2010526212A

公开(公告)日：2010-07-29

申请号：JP2010506702

申请日：2008-05-02

Applicant: イーコラブ インコーポレイティド

Inventor： アール． スミス，キム ,  ジェイ． バーテルメ，マイケル ,  イー． ベッセ，マイケル ,  エム． ローレンス，ミシェル

IPC: C23F1/08 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/24 ,  C23G1/18

CPC classification number: C11D3/046 ,  C02F5/02 ,  C02F5/06 ,  C02F2303/14 ,  C02F2303/22 ,  C11D7/10 ,  C11D11/0023 ,  C23F11/08 ,  C23F11/124 ,  C23F11/18 ,  C23G1/20 ,  C23G1/22

Abstract: 本発明は、クリーニングの間に腐食有益な効果を有する水溶性マグネシウム塩、水溶性カルシウム塩、およびグルコン酸塩を含む組成物に関する。 本組成物は、ガラス、アルミニウム、またはスチールの腐食を減少させることができる。 本発明はまた、これらの組成物を用いる方法に関する。

公开(公告)号：JP2003221598A

公开(公告)日：2003-08-08

申请号：JP2002135632

申请日：2002-05-10

Applicant: KAO CORP

Inventor： FUKUSHIMA MITSUHIRO ,  MATSUDA HIROYUKI

IPC: B08B3/08 ,  C11D1/72 ,  C11D1/722 ,  C11D7/60 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an alkaline cleaning composition for metal that shows both of high detergency and excellent rust prevention of a metal plate, e.g. a copper plate or the like. SOLUTION: The alkaline cleaning composition comprises an alkali agent, a rust-preventive agent and 0.01-0.5 wt.% of a chelate compound wherein the concentration of the alkali agent (a) in wt.% and the concentration of the rust- preventive (b) in wt.% satisfy the following formula (1):-0.95≤0.333a-25b-0.2≤0.09. COPYRIGHT: (C)2003,JPO

公开(公告)号：JP2001026890A

公开(公告)日：2001-01-30

申请号：JP19647299

申请日：1999-07-09

Applicant: ASAHI KAGAKU KOGYO CO LTD ,  SUMITOMO CHEMICAL CO

Inventor： OTA KOJI ,  TAKASHIMA MASAYUKI

IPC: B08B3/08 ,  C11D7/04 ,  C11D7/32 ,  C11D7/34 ,  C11D7/54 ,  C11D17/08 ,  C23F11/00 ,  C23G1/06 ,  C23G1/18 ,  H01L21/304

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To obtain a corrosion preventive agent for a washing liquid which does not have corrosion resistance to tungsten and is optimum for metal washing by including >=1 kind of the compounds selected from triazoles, polyethylene imine and polyamine sulfone into this agent. SOLUTION: This corrosion preventive agent for metals includes the compounds selected from the triazoles containing one amino group or thiol group, the polyethylene imine and the polyamine sulfone expressed by the formula (in the formula, R1, R2 are H, CH3, C2H5 or CH2C6H5, X- is an anionic group and n is 30 to 200). More preferably, the triazoles are 3-aminotriazole; the polyethylene imine is of 300 to 10,000 in molecular weight. The polyamine sulfone is of hydrogen in R1 and R2. The washing liquid composition not having the corrosion resistance to the metals and more particularly the tungsten may be provided by mixing this preventive agent with the washing liquid.

公开(公告)号：JP3003684B1

公开(公告)日：2000-01-31

申请号：JP25266198

申请日：1998-09-07

IPC: H01L21/304 ,  C11D7/06 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D11/00 ,  C23G1/06 ,  C23G1/10 ,  C23G1/12 ,  C23G1/18 ,  C23G1/20 ,  C23G1/22 ,  H01L21/02 ,  H01L21/306 ,  H01L21/321

公开(公告)号：JP2939222B1

公开(公告)日：1999-08-25

申请号：JP4774698

申请日：1998-02-27

IPC: B08B3/08 ,  B65D90/00 ,  C23G1/18 ,  C23G1/19 ,  C23G3/04 ,  C23G5/032

公开(公告)号：JPH0570978A

公开(公告)日：1993-03-23

申请号：JP23285191

申请日：1991-09-12

Applicant: TOSHIBA CORP

Inventor： OKADA HIRONOBU ,  HATTORI TAKAO

IPC: C23G1/18 ,  C23G1/19 ,  F04B39/00

Abstract: PURPOSE:To provide the ferrous sliding parts stuck with rust preventive films which are free from stains and have excellent rust preventive power while the films are uniform and thin even if the thickness of the rust preventive films is not controlled by solvent washing. CONSTITUTION:The above-mentioned ferrous sliding parts are subjected to the primary washing by an aq. soln. contg. an inorg. alkali and the secondary washing by an aq. soln. contg. an org. alkali. 0.1 to 0.8wt.% aliphat. amine, 0.2 to 1.2wt.% boron amine and 0.2 to 1.2wt.% glycol ether are incorporated into the above-mentioned aq. soln. contg. the org. alkali to stick the respective components of the aq. soln. contg. the org. alkali to the surfaces.