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公开(公告)号:JP2015172765A
公开(公告)日:2015-10-01
申请号:JP2015093489
申请日:2015-04-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/20 , C08F220/18 , G03F7/039
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 【課題】良好なパターン形状を得ることができ、MEEF性能に優れ、ブリッジ等の欠陥を生じ難い感放射線性樹脂組成物、その感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体、及びその感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】[A]特定の酸解離性基を有する構造単位(I)と、側鎖にフッ素原子を含む特定のアクリレート系構造単位(II−2)と、(II−3)の2種を有し、フッ素原子含有量が5質量%以上である重合体、[B]酸解離性基を有し、フッ素原子含有量が5質量%未満である重合体、及び[C]感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题:为了提供提供良好图案形状的辐射敏感性树脂组合物,具有优异的MEEF性能并抑制缺陷的发生,例如, 并且提供适用于辐射敏感性树脂组合物的聚合物和使用该辐射敏感性树脂组合物的图案形成方法。溶解性:辐射敏感性树脂组合物包含:[A]具有结构单元(I )具有特定的酸解离基团,丙烯酸酯结构单元(II-2)和(II-3)在侧链中含有氟原子,氟原子的含量为5质量%以上; [B]具有氟原子含量低于5质量%的酸解离基的聚合物; 和[C]辐射敏感酸产生剂。
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公开(公告)号:JP6168212B2
公开(公告)日:2017-07-26
申请号:JP2016152356
申请日:2016-08-02
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , G03F7/20 , C08F220/26 , C08F212/14 , G03F7/023
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公开(公告)号:JP5758301B2
公开(公告)日:2015-08-05
申请号:JP2011541929
申请日:2010-11-16
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/22 , H01L21/027 , G03F7/039
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
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公开(公告)号:JP6020532B2
公开(公告)日:2016-11-02
申请号:JP2014219245
申请日:2014-10-28
Applicant: JSR株式会社
IPC: B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
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公开(公告)号:JP2015207023A
公开(公告)日:2015-11-19
申请号:JP2015156838
申请日:2015-08-07
Applicant: JSR株式会社
Abstract: 【課題】半導体プロセスにおけるレジストパターンの形成段階でレジストパターンの線幅微細化に使用されるレジストパターン微細化組成物を提供すること。 【解決手段】感放射線性樹脂組成物を用いて形成したレジストパターン上に、レジストパターン微細化組成物を塗布し、ベーク後、洗浄してレジストパターンを微細化する工程、を含むレジストパターン形成方法で用いられる、酸性低分子化合物と、レジストパターンを溶解しない溶媒と、を含有し、樹脂を含有しないレジストパターン微細化組成物を提供する。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题:提供一种用于最小化抗蚀剂图案的组合物,其用于在半导体工艺中形成抗蚀剂图案的阶段中减小抗蚀剂图案的线宽度。解决方案:用于使抗蚀剂图案最小化的组合物 用于形成抗蚀剂图案的方法,包括以下步骤:将通过使用辐射敏感性树脂组合物形成的抗蚀剂图案上的抗蚀剂图案应用于最小化组合物,烘烤该组合物,然后清洁以使抗蚀剂图案最小化的步骤; 并且该组合物包含酸性低分子量化合物和不溶解抗蚀剂图案的溶剂,并且不含树脂。
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公开(公告)号:JP2015200895A
公开(公告)日:2015-11-12
申请号:JP2015093488
申请日:2015-04-30
Applicant: JSR株式会社
IPC: G03F7/039 , C08F220/18 , G03F7/20 , G03F7/004
CPC classification number: C08F220/22 , C08F220/24 , C08F228/00 , C08L33/14 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041
Abstract: 【課題】良好なパターン形状を得ることができ、MEEF性能に優れ、ブリッジ等の欠陥を生じ難い感放射線性樹脂組成物、その感放射線性樹脂組成物に好適に用いられる重合体、及びその感放射線性樹脂組成物を用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】[A]5員環又は6員環脂環式構造の酸解離性基を有する(メタ)アクリル酸エステル単位(I)と、末端エステル構造とフッ素原子又はフッ素化炭化水素基を含む連結基を有する(メタ)アクリル酸エステル単位構造単位(II)とを有し、フッ素原子含有量が5質量%以上である重合体、[B]酸解離性基を有し、フッ素原子含有量が5質量%未満である重合体、及び[C]感放射線性酸発生剤を含有する感放射線性樹脂組成物であり、[B]重合体100質量部に対する[A]重合体の含有量が、0.1質量部以上20質量部以下であることが好ましい感放射線性樹脂組成物。 【選択図】なし
Abstract translation: 要解决的问题:提供:提供良好的图案轮廓的辐射敏感性树脂组合物,MEEF(掩模误差增强因子)性能优异,并且不太可能导致诸如桥的缺陷; 适合用于辐射敏感性树脂组合物的聚合物; 以及使用该辐射敏感性树脂组合物形成图案的方法。解决方案:辐射敏感性树脂组合物包含:[A]具有酸性离解性基团的(甲基)丙烯酸酯单元(I)的聚合物,其具有五 或六元环脂环结构,和具有末端酯结构的(甲基)丙烯酸酯单元结构(II)和含有氟原子或氟代烃基的连接基团,其中氟原子的含量为5 质量%以上; [B]具有酸解离性基团并且具有小于5质量%的氟原子含量的聚合物; 和[C]辐射敏感酸产生剂。 相对于100质量份的[B]聚合物,[A]聚合物的含量优选为0.1质量份以上且20质量份以下。
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公开(公告)号:JP5761892B2
公开(公告)日:2015-08-12
申请号:JP2008509732
申请日:2007-03-23
Applicant: JSR株式会社
IPC: C08F220/18 , C08F220/22 , G03F7/039 , H01L21/027 , G03F7/004
CPC classification number: G03F7/039 , C08F220/18 , C08F220/24 , C08F220/28 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
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