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公开(公告)号:KR102235441B1
公开(公告)日:2021-04-02
申请号:KR1020200089900A
申请日:2020-07-20
申请人: 주식회사 엘앤에스플랜트
发明人: 손윤배
CPC分类号: F26B17/10 , B01F5/0057 , B01J19/1806 , B01J8/1818 , B01J8/24 , F26B25/008 , F26B2200/08
摘要: 본 발명은 유동층 공정장치용 분산용타공판 및 이를 갖는 유동층 공정장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 유동층 형성을 위해 유동공간부의 하단부에 위치되는 분산용타공판몸체, 일정 길이를 갖고, 상기 분산용타공판몸체의 중심부를 기준으로 원주방향으로 배열되어 공급되는 기체를 상기 유동공간부로 공급시키기 위한 복수의 가이드공, 및 각 상기 가이드공을 통해 공급되는 기체를 일측으로 가이드하도록 형성되는 가이드날개,를 포함하고, 각 상기 가이드날개에 의해 기체가 일측 상향으로 공급됨에 따라, 유동공간부에 와류를 형성시킨다.
상기와 같은 본 발명에 의하면, 기체를 공급하되, 와류를 형성함에 따라 원료에 대한 유동층을 효율적으로 진행시킴은 물론, 원료가 유동공간부의 상단부까지 상승되지 않도록하여 기체필터와 닿는 것을 방지할 수 있어 종래 주기적으로 세척하는 과정을 절감시킬 수 있음에 따라, 수명을 연장시켜 생산성을 향상시킬 수 있다.-
公开(公告)号:KR102233330B1
公开(公告)日:2021-03-26
申请号:KR1020140069471A
申请日:2014-06-09
申请人: 악상스
发明人: 꼬즈 장-프랑수아 르 , 다니엘 페레 , 시릴 꼴라도
IPC分类号: B01J8/44
CPC分类号: B01J8/1818 , B01D3/007 , B01J8/00 , B01J8/008 , B01J8/0278 , B01J8/0492 , B01J8/18 , B01J8/1827 , B01J8/1872 , B01J8/24 , C10G11/18 , C10G47/30 , C10G49/16 , B01J2208/0092 , B01J2208/00929 , B01J2208/00938 , Y10T137/85938
摘要: 본 발명은, 유체 분배 디바이스 (1) 로서,
- 개구들 (7) 을 포함하고 제 1 및 제 2 단부 (3, 4) 를 갖는 적어도 하나의 입구 튜브 (2); 및
- 주된 보디 (6) 를 포함하는 캡 (5) 으로서, 상기 주된 보디 (6) 는 렌즈 형상을 갖고 또한 입구 튜브 (2) 의 제 1 단부 (3) 를 향해 제 2 단부 (4) 의 방향으로 연장되는 스커트 (8) 에 의해 세장되는 원형 섹션을 갖고, 상기 캡 (5) 은 외측 표면 및 내측 표면을 갖고, 상기 캡은 상기 내측 표면을 통해 상기 튜브의 상기 제 2 단부 (4) 와 일체이고, 상기 주된 보디 (6) 에는 복수의 구멍들 (10) 을 제공되는, 상기 캡 (5)
을 포함하고,
상기 캡 (5) 은, 그의 외측 표면에 배치되어 상기 캡 (5) 의 주변부를 향해 또는 상기 주변부에서 유체를 배향시키거나 또는 유지시키도록 구성된 적어도 하나의 편향 수단 (14) 을 포함하는, 유체 분배 디바이스에 관한 것이다.-
公开(公告)号:JP2018507265A
公开(公告)日:2018-03-15
申请号:JP2017529698
申请日:2015-12-01
CPC分类号: B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/24 , B01J2208/00902 , C10B55/10 , C10G9/005 , F23C10/22 , F23D11/102 , F23D11/38 , F23G5/0276 , F23G5/30 , F23G5/446 , F23G7/05 , F23G2201/40
摘要: ノズルによって形成される噴霧パターンの表面:体積の比を向上させるために、循環流動床反応器用の原料インジェクタに、円形で径方向に切り込みが入れられた吐出オリフィスを有する吐出ノズルが取り付けられている。原料インジェクタは、流動床の構成要素と注入される流体との間の良好な接触が求められる種々な種類の循環流動床反応器に流体を注入するのに有用である。この原料インジェクタは、流動コーキング反応器に特に有用である。
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公开(公告)号:JP2017524769A
公开(公告)日:2017-08-31
申请号:JP2016575116
申请日:2015-06-23
发明人: ダイス アンドレアス , ダイス アンドレアス , バイアー ローベアト , バイアー ローベアト , シュリヴァ ルドルフ , シュリヴァ ルドルフ , フライベルク ユルゲン , フライベルク ユルゲン , イェー. ポッセミールス カール , イェー. ポッセミールス カール , クリューガー マルコ , クリューガー マルコ
IPC分类号: C08F2/01
CPC分类号: B01J19/06 , B01J4/004 , B01J8/1818 , B01J19/24 , B01J2208/00371 , B01J2208/0092 , B01J2208/00938 , B01J2219/24 , C08F20/18
摘要: 本発明は、ポリ(メタ)アクリレートを製造するためのモノマー溶液の液滴を液滴重合用の反応器(1)中に導入するための、少なくとも1つのチャネル(25)又は滴下ヘッドを含んでなる装置であって、ここで、チャネル(25)又は滴下ヘッドは、その下側が滴下プレート(26)で閉ざされており、ここで、滴下プレート(26)は、モノマー溶液が反応器(1)中に導入されるときに通過する穿孔を有し、かつ滴下プレート(26)は、軸対称の滴下プレート(26)又は環状に若しくは環状セグメントとして構成された滴下プレートの場合には滴下プレート(26)の中心線上にはない又は円形の滴下プレートの場合には滴下プレートの中心上にはない穿孔(35)が、モノマー溶液が穿孔(35)を通って垂直線に対するある角度で反応器(1)中に導入されるように位置合わせされて構成されており、ここで、軸対称の滴下プレート(26)が半径方向に位置合わせされている場合には、穿孔(35)は、モノマー溶液が反応器(1)中に導入される角度が反応器(1)の軸方向に向かって減少するように位置合わせされており、かつ滴下プレート(26)が互いに平行に配置されている場合又は滴下プレートが同心円状に配置されている場合には、該穿孔は、それぞれ中心線と平行な線上に又は中心の周りに同心円状に延びる線上に、モノマー溶液が反応器(1)中に導入される角度が一定となるように位置合わせされている前記装置に関する。
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公开(公告)号:JPWO2014034739A1
公开(公告)日:2016-08-08
申请号:JP2014533055
申请日:2013-08-28
申请人: 国立大学法人 東京大学 , 国立大学法人 東京大学 , 日立化成株式会社
CPC分类号: C23C16/46 , B01J8/0025 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/1836 , B01J19/02 , B01J2208/00061 , B01J2208/00194 , B01J2208/00203 , B01J2208/00415 , B01J2208/0053 , B01J2208/00548 , B01J2208/00884 , B01J2208/00991 , B01J2219/0254 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C23C16/455 , C23C16/458
摘要: 均熱性が高く、熱損失の少ない熱交換型反応管を提供する。原料ガスが流入されて原料ガスが下降する第一流路4を形成する第一管部2と、第一流路4に連通されて原料ガスが上昇する第二流路5を形成し、粒子状の触媒担持支持体が充填される第二管部3と、第一管部2及び第二管部3を加熱する加熱装置と、を有する。そして、第一流路4と第二流路5とが隔壁を隔てて隣接されており、第二流路5に、触媒担持支持体を保持して原料ガスを通過させる分散板8が設けられている。
摘要翻译: 高的热均匀性,提供一种热交换器型反应管更小的热损失。 原料气体流入到第一管状部分2,其原料气体以形成第一通道4下降,其与第一通道4,以形成第二流动路径5的源气体的增加,微粒 具有与所述催化剂支撑载体,一个第二管状部分3填充,加热装置用于加热第一管部2和第二管状部3,。 然后,第一通道4和第二流动路径5是相邻的分隔壁,所述第二流动通道5,以及用于使进料气体以保持催化剂载体支撑扩散板8被设置 那里。
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公开(公告)号:JP5863870B2
公开(公告)日:2016-02-17
申请号:JP2014083352
申请日:2014-04-15
发明人: コンラート・マウトナー , ヨッヘン・グロス , ティル・ビュステンフェルト
CPC分类号: B65G53/16 , B01J8/003 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/1872 , B01J8/28 , C07F7/16
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公开(公告)号:JP2015120160A
公开(公告)日:2015-07-02
申请号:JP2015021536
申请日:2015-02-05
发明人: ミリンド・エス・クルカーニ , プネート・グプタ , バラジ・デブラパリ , ジャミール・イブラヒム , ビタル・レバンカル , クワシ・フォリ
IPC分类号: C01B33/027 , B01J8/24
CPC分类号: B01J8/1818 , B01J8/44 , C01B33/027 , B01J2219/00252
摘要: 【課題】 反応炉壁に形成された析出量を制限若しくは減少させる多結晶シリコンを製造するための反応炉システムを提供する。 【解決手段】 本プロセスは、第1ガスを第1ガスプレナムへ供給し外周開口部を介して反応チャンバーに導入し、分配開口部のチャンネル部及びスロットル部に第1ガスを通過させる工程と、 第2ガスを第2ガスプレナム及び中央開口部を介して反応チャンバーに導入し、分配開口部のチャンネル部及びスロットル部に第2ガスを通過させる工程と、を有する。 【選択図】図2
摘要翻译: 要解决的问题:提供用于制造多晶硅的反应器系统,其限制或减少在反应器壁上形成的沉积物的量。解决方案:本方法具有以下步骤:将第一气体供给到第一气室,以将其引入外围 开口进入反应室,并使第一气体通过分配开口的通道部分和节流部分; 并将第二气体通过第二气室和中心孔引入反应室,并使第二气体通过分配开口的通道部分和节流部分。
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公开(公告)号:JP5549941B2
公开(公告)日:2014-07-16
申请号:JP2011105267
申请日:2011-05-10
申请人: 株式会社日本製鋼所 , 国立大学法人北見工業大学
CPC分类号: B01J8/24 , B01J8/0045 , B01J8/0055 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/26 , B01J2208/00504 , B01J2208/00752 , B01J2208/00893 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C01B3/44 , C01B32/15 , C01B32/16 , C01B32/18 , C01B2203/0261 , C01B2203/0405 , C01B2203/0415 , C01B2203/043 , C01B2203/0475 , C01B2203/1047 , C01B2203/1058 , C01B2203/1241 , C01B2203/1247 , C01B2203/142 , D01F9/127 , D01F9/133
摘要: A lower hydrocarbon and oxygen are supplied to a fluid catalyst (1) to form a fluidized bed, and nanocarbon and hydrogen are produced by a decomposition reaction of the lower hydrocarbon that accompanies self-combustion of the lower hydrocarbon and oxygen using a nanocarbon manufacturing device having a fluidized bed reactor (2) housing a fluid catalyst (1) and supplied with a lower hydrocarbon and oxygen such that the lower hydrocarbon and oxygen can self-combust, a gas feed part (5) that is connected to the fluidized bed reactor (2) and supplies lower hydrocarbon and oxygen into the fluidized bed reactor (2), a waste gas channel (8) that is connected to the fluidized bed reactor (2) and discharges the waste gas in the fluidized bed reactor (2) to the outside, and a supply part (2a) that is connected to the fluidized bed reactor (2) and supplies the fluid catalyst (1) into the fluidized bed reactor (2).
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公开(公告)号:JP5485238B2
公开(公告)日:2014-05-07
申请号:JP2011194149
申请日:2011-09-06
发明人: ヘックル ヴァルター , ヘッセ カール , ヘーボルト ヴィルヘルム , ヴォルフ ラインハルト
IPC分类号: C01B33/035
CPC分类号: C01B33/02 , B01J8/18 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , C01B33/027 , C01B33/035
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公开(公告)号:JP5459932B2
公开(公告)日:2014-04-02
申请号:JP2006341996
申请日:2006-12-20
发明人: ロス ジョセフ , ゴーティエ ティエリー , アンドリュー レジス
IPC分类号: B01J8/28 , C07B61/00 , C07C1/20 , C07C11/04 , C07C11/06 , C07C11/08 , C07C11/09 , C10G3/00 , C10G11/18
CPC分类号: B01J8/1845 , B01J8/003 , B01J8/0055 , B01J8/0065 , B01J8/1809 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/1836 , B01J8/1854 , B01J8/1863 , B01J8/28 , B01J8/34 , B01J8/386 , B01J8/388 , B01J2208/00141 , B01J2208/00362 , B01J2208/00371 , B01J2208/00557 , B01J2208/00584 , B01J2208/0084 , B01J2208/00849 , B01J2219/00166 , B01J2219/00247 , C10G1/08 , C10G3/49 , C10G3/57 , C10G3/62 , C10G11/18 , C10G2300/1011 , C10G2300/1037 , C10G2300/708 , C10G2400/20 , Y02P30/40 , Y02P30/42 , Y02P30/446
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