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公开(公告)号:JP6357586B2
公开(公告)日:2018-07-11
申请号:JP2017522533
申请日:2015-10-20
申请人: ヴェロシーズ テクノロジーズ リミテッド
发明人: レヴィネス スティーヴン クロード , ハリス ロジャー アレン , スタインバーグ アンドレ ピーター , グリーガー イヴァン フィリップ , ラムラル ジャスメール ジャイチランド , ドラン ジョン , パーカー デニス
CPC分类号: C07C29/1512 , B01J8/001 , B01J19/0013 , B01J2208/00106 , B01J2208/00539 , B01J2208/00548 , B01J2208/00628 , B01J2208/00637 , B01J2219/0002 , B01J2219/00038 , B01J2219/0004 , B01J2219/00074 , B01J2219/00162 , B01J2219/00164 , B01J2219/00186 , C10G2/32 , C10G2/34 , Y02P20/582
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公开(公告)号:JP6263256B2
公开(公告)日:2018-01-17
申请号:JP2016515322
申请日:2013-11-15
申请人: ファン,ハング シン
发明人: ファン,ハング シン
IPC分类号: C01B3/48 , B01J23/63 , H01M8/12 , H01M8/10 , H01M8/0612 , H01M8/00 , F02C3/28 , F02C3/20 , F02C3/22 , F02C7/22 , C01B3/40
CPC分类号: C01B3/382 , B01J8/001 , B01J19/0033 , B01J2208/00548 , B01J2208/00557 , B01J2208/00646 , B01J2219/00164 , B01J2219/00166 , C01B2203/0244 , C01B2203/06 , C01B2203/107 , C01B2203/141 , C01B2203/148 , C01B2203/1604 , C01B2203/1614 , C01B2203/1628 , C01B2203/1671 , C01B2203/1685 , C01B2203/169 , C01B2203/84 , F02C3/20 , Y02P20/52
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公开(公告)号:JP6193476B2
公开(公告)日:2017-09-06
申请号:JP2016510986
申请日:2014-04-15
发明人: ベックエッサー,ディルク , ヘルライン,ハラルト
CPC分类号: C01B33/03 , B01J8/1809 , B01J8/1827 , B01J8/1872 , C01B33/027 , B01J2208/00017 , B01J2208/00548 , B01J2208/00628 , B01J2208/00663 , B01J2208/00725 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00902 , B01J2208/065
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公开(公告)号:JP6153871B2
公开(公告)日:2017-06-28
申请号:JP2013540178
申请日:2011-11-25
申请人: オーウェン・ポッター
发明人: オーウェン・ポッター
CPC分类号: B65G53/66 , B01J8/0015 , B01J8/005 , B01J8/08 , B01J2208/00088 , B01J2208/00548 , B01J2208/0084 , B65G53/16 , F26B3/0923 , F26B17/10 , F26B17/101 , F26B17/104 , F26B21/003 , F28C3/12 , F28D19/02
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公开(公告)号:JP2016535906A
公开(公告)日:2016-11-17
申请号:JP2016539449
申请日:2014-08-06
发明人: スヴェンソン、ペータル
IPC分类号: G06F21/62 , G01R31/28 , G01R31/3185 , G06F11/22 , H01L21/822 , H01L27/04
CPC分类号: F16K25/04 , B01J8/0015 , B01J2208/00548 , B01J2208/00787 , F16K3/02 , F16K27/044 , G01R31/31719 , G01R31/318588
摘要: 本開示の発明は、テスト動作モード及びセキュアミッション動作モードを有する集積回路(300)のセキュアなデバッグを可能にする。当該集積回路は、処理ユニット(340)と、テスト動作モードを制御可能にするテストインタフェース(312)と、テスト動作モードにおいて及びセキュアミッション動作モードにおいてアクセス可能なオンチップメモリ(350)と、テスト動作モードにおいてアクセス不能な1つ以上の保護されるリソース(360、364、370)とを有する。処理ユニットは、テスト動作モードにおいて、テストインタフェースを通じて認証オブジェクト(401)を受信し(401)、受信される認証オブジェクトをオンチップメモリ内に記憶する(401)ように構成される。処理ユニットは、セキュアミッション動作モードへのリセット後に、ブート手続(362)を実行して、認証オブジェクトがオンチップメモリ内で利用可能であることを判定(501)し、認証オブジェクトを認証(502)し、成功裏の認証の後に、より多くの保護されるリソースを、集積回路の外部のデバッグホスト(310)にとってアクセス可能にする(503a、503b)ように、さらに構成される。【選択図】図5
摘要翻译: 本公开的发明允许安全调试具有测试操作模式和安全传输操作模式的集成电路(300)。 该集成电路包括一个处理单元(340),所述测试接口(312),其允许控制所述测试操作模式,并且可以在试运行模式和安全传输的操作模式(350),测试操作访问片上存储器 和资源(360364370)要保护的模式无法访问一个或多个。 处理单元,在试运行模式,接收通过测试接口(401)的认证对象(401),存储被作为配置的片外存储器(401)接收到的认证对象。 处理单元,所述安全传输操作模式的复位后,执行引导过程(362),确定(501)认证对象是可用的片上存储器,认证所述认证对象(502) 并且,在成功认证之后,那些更保护的资源,要对集成电路(310)(503A,503B),其进一步被配置的外部调试主机访问。 点域5
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公开(公告)号:JPWO2014034739A1
公开(公告)日:2016-08-08
申请号:JP2014533055
申请日:2013-08-28
申请人: 国立大学法人 東京大学 , 国立大学法人 東京大学 , 日立化成株式会社
CPC分类号: C23C16/46 , B01J8/0025 , B01J8/1818 , B01J8/1827 , B01J8/1836 , B01J19/02 , B01J2208/00061 , B01J2208/00194 , B01J2208/00203 , B01J2208/00415 , B01J2208/0053 , B01J2208/00548 , B01J2208/00884 , B01J2208/00991 , B01J2219/0254 , B82Y40/00 , C01B32/16 , C23C16/455 , C23C16/458
摘要: 均熱性が高く、熱損失の少ない熱交換型反応管を提供する。原料ガスが流入されて原料ガスが下降する第一流路4を形成する第一管部2と、第一流路4に連通されて原料ガスが上昇する第二流路5を形成し、粒子状の触媒担持支持体が充填される第二管部3と、第一管部2及び第二管部3を加熱する加熱装置と、を有する。そして、第一流路4と第二流路5とが隔壁を隔てて隣接されており、第二流路5に、触媒担持支持体を保持して原料ガスを通過させる分散板8が設けられている。
摘要翻译: 高的热均匀性,提供一种热交换器型反应管更小的热损失。 原料气体流入到第一管状部分2,其原料气体以形成第一通道4下降,其与第一通道4,以形成第二流动路径5的源气体的增加,微粒 具有与所述催化剂支撑载体,一个第二管状部分3填充,加热装置用于加热第一管部2和第二管状部3,。 然后,第一通道4和第二流动路径5是相邻的分隔壁,所述第二流动通道5,以及用于使进料气体以保持催化剂载体支撑扩散板8被设置 那里。
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公开(公告)号:JP2016522778A
公开(公告)日:2016-08-04
申请号:JP2016510986
申请日:2014-04-15
发明人: ベックエッサー,ディルク , ヘルライン,ハラルト
CPC分类号: C01B33/03 , B01J8/1809 , B01J8/1827 , B01J8/1872 , B01J2208/00017 , B01J2208/00548 , B01J2208/00628 , B01J2208/00663 , B01J2208/00725 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00902 , B01J2208/065 , C01B33/027
摘要: 本発明は、流動床内のガス流によりシリコン粒子を流動化する工程を有する流動床反応器内で粒状ポリシリコンを製造する方法であって、前記ガス流は加熱装置により850から1100℃の温度まで加熱される工程、少なくとも1つのノズルによりシリコン含有反応ガスを添加する工程、およびシリコン粒子上へシリコンを蒸着する工程を含む。本発明は、前記少なくとも1つのノズルのノズル開口の周りの軸対称領域の少なくとも56%において、反応ガス濃度が反応ガスの最大濃度の75%より高く(10から50モル%)、流動床の温度が前記軸対称領域の外側の流動床温度の95%より高く(850から1100℃)、固体濃度が流動床の縁の固体濃度の85%より高い(55から90体積%)ことを特徴とする。
摘要翻译: 本发明提供了一种用于生产粒状多晶硅的流化床反应器,其包括通过在流化床中,气体流850从1100℃通过加热装置温度的气体流流过的硅颗粒的步骤 过程中加热的方法,包括沉积硅的方法,以及在硅颗粒通过至少一个喷嘴加入到含硅反应气体。 本发明中,围绕喷嘴的喷嘴开口的轴向对称区的至少一个至少56%,反应气体的最大浓度的反应气体的浓度高于75%(10〜50摩尔%),则流化床的温度 特性值,但外流化床中的轴向对称区的(850从1100℃)的温度的大于95%,固体浓度为流化床的边缘的固体浓度高于85%(55〜90体积%),其 。
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公开(公告)号:JP2016128161A
公开(公告)日:2016-07-14
申请号:JP2015243055
申请日:2015-12-14
发明人: レニー・リー・アルビン , ジヨージ・ヤルリス , アルフレツド・フエルデイナンド・ジヨーダン
CPC分类号: C10G11/18 , B01J8/0015 , B01J8/0025 , B01J8/003 , B01J8/0035 , B01J8/004 , B01J8/006 , B01J8/06 , B01J8/18 , B01J8/24 , B01J2208/00548 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00769 , C10G2300/80
摘要: 【課題】流動接触分解(FCC)作業を実施するために使用される設備内に触媒及び/又は添加物を注入するための効率的なシステム及び方法の提供。 【解決手段】流動触媒分解ユニット内に触媒及び/又は添加物を装填するシステム10は、少なくも1種の触媒及び/又は添加物を貯蔵するためのビン37、並びに貯蔵ビン37及び流動触媒分解ユニットと選択的に連通する装填ユニット14を使用し、装填ユニットは、真空発生装置30を用い、触媒及び/又は添加物をビン37から吸引するように真空にすることができ、触媒及び/又は添加物が装填ユニット14から流動触媒分解ユニットに移送されるようにトランスファーポット18にて加圧される方法。 【選択図】図1
摘要翻译: 要解决的问题:提供一种将催化剂和/或添加剂注入用于进行流化催化裂化(FCC)操作的设备中的有效系统和方法。解决方案:提供了一种用于装载催化剂和/ 或添加剂流入催化裂化装置,其使用用于存储至少一种类型的催化剂和/或添加剂的瓶子37和与储存瓶37和流化催化裂化装置选择性连通的装载单元14,其中装载单元 可以使用真空发生装置30抽真空,使得催化剂和/或添加剂从瓶37吸入并由转移罐18加压,使得催化剂和/或添加剂从装载单元14转移到流体 催化裂化装置。图1
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公开(公告)号:JP5889851B2
公开(公告)日:2016-03-22
申请号:JP2013184980
申请日:2013-09-06
发明人: レニー・リー・アルビン , ジヨージ・ヤルリス , アルフレツド・フエルデイナンド・ジヨーダン
CPC分类号: C10G11/18 , B01J8/0015 , B01J8/0025 , B01J8/003 , B01J8/0035 , B01J8/004 , B01J8/006 , B01J8/06 , B01J8/18 , B01J8/24 , B01J2208/00548 , B01J2208/00752 , B01J2208/00761 , B01J2208/00769 , C10G2300/80
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公开(公告)号:JP5888979B2
公开(公告)日:2016-03-22
申请号:JP2011537900
申请日:2009-12-01
发明人: シュヴェーフェル,マインハルト , グローブズ,ミハエル , フックス,ユルゲン , マウラー,ライナー , ザイフェルト,ロルフ , ヒュンデゲン,ベルンハルト
CPC分类号: B01J8/0285 , B01J12/007 , B01J15/005 , B01J19/0013 , B01J19/002 , B01J19/2485 , B01J19/26 , B01J8/008 , B01J8/025 , B01J8/0278 , C01B21/26 , C01B21/267 , C01B21/28 , C01C3/022 , B01J2208/00203 , B01J2208/00212 , B01J2208/00495 , B01J2208/00548 , B01J2208/00716 , B01J2219/00083 , B01J2219/00094 , B01J2219/00119 , B01J2219/00155 , B01J2219/00164 , B01J2219/00245 , B01J2219/32296 , B01J2219/324
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