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公开(公告)号：JP2016073977A
公开(公告)日：2016-05-12
申请号：JP2016003534
申请日：2016-01-12
Applicant: アドヴェニラ エンタープライジーズ,インコーポレイテッド
Inventor： リャボーヴァ,エルミラ
CPC classification number: B05C13/02 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05C15/00 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
Abstract: 【課題】複雑面を有するオブジェクトに均一な塗布を可能にするシステムを提供する。 【解決手段】前処理ユニット、浸漬塗布用タンク6、第1の後処理ユニット、および第1のジンバル26および第2、第3ジンバルを軸を中心に回転させるように構成された3次元のジンバル装置を備え、オブジェクトをジンバルで把持し、タンク内に浸漬後、引き上げ、回転モーター22、スピンドル24により、ジンバル26回転させ、他のジンバルも同様の方法で回転させ、2もしくは3軸の回転で、多方向の遠心力を生成し、これによって塗布液がオブジェクトのすべてもしくは一部、又はオブジェクトの複雑面の上に均一に広がり、均一な薄膜を生成する。 【選択図】図13
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种能够在具有复杂面部的物体上均匀涂覆的系统。解决方案：该系统配备有预处理单元，用于浸渍涂层的罐6，第一后处理单元和 三维万向架装置被构造成围绕第一万向节26旋转，以及第二和第三万向节。 物体被万向架夹住，并在其浸入槽中后被拉起，万向节26由旋转马达22和主轴24旋转，其他万向节也通过类似的方法旋转，并且通过以下方式产生多向离心力： 所述万向节的双轴或三轴旋转，由此涂覆液体扩散在物体的全部或一部分上，或物体的复杂面上，从而形成均匀的薄膜。选择的图示：图13
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公开(公告)号：JP5872102B1
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：JP2015184406
申请日：2015-09-17
Applicant: アドヴェニラ エンタープライジーズ,インコーポレイテッド
Inventor： リャボーヴァ,エルミラ
CPC classification number: B05C13/02 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05C15/00 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
Abstract: 【課題】複雑面を有するオブジェクトに均一な塗布を可能にするシステム及びプロセスを提供する。 【解決手段】均一にオブジェクトを塗布するために塗布システム及びプロセスが開示される。システムは、前処理ユニット、第1の加工ユニット、第1の後処理ユニット、及びそれぞれがオブジェクトを係合し、オブジェクトを2つ以上の軸を中心に又は2つ以上の軸の周囲を回転させるように構成された、1つ又は複数の塗布装置を備える。システム内で使用される塗布装置は、第1のジンバルが第1の軸を中心に又は第1の軸の周囲を回転可能にするために、第1の回転機構に連結された第1のジンバル、第2の軸を中心に又は第2の軸の周囲を回転可能にするために、第1のジンバルに連結された第2のジンバル、及び第3の軸を中心に又は第3の軸の周囲を回転可能にするために、第2のジンバルに連結された第3のジンバルを備えることができる。第2の回転機構は、第2のジンバルが第2の軸を中心に又は第2の軸の周囲を回転するために、第2のジンバルに連結され、第3の回転機構は、第3のジンバルが第3の軸を中心に又は第3の軸の周囲を回転するために、第3のジンバルに連結される。オブジェクトホルダは第3のジンバルに連結される。オブジェクトがオブジェクトホルダ内に存在している場合、オブジェクトを塗布溶液内に浸漬させて、塗布されたオブジェクトを形成することができる。次いで、塗布されたオブジェクトを2もしくは3軸を中心に又は2もしくは3軸の周囲を回転させ、これは一緒に多方向の遠心力を生成し、これは重力と一緒に三次元のテンソル力を生成し、これによって塗布液がオブジェクトのすべてもしくは一部、又はオブジェクトの複雑面の上に均一に広がって、均一な薄膜を生成する。また少なくともオブジェクトのすべてもしくは一部、又はオブジェクトの複雑面に共有結合された均一な薄膜もつ、オブジェクトを備える複合体も開示される。 【選択図】図1
Abstract translation: 一种系统和方法，其允许具有复杂表面的物体上的均匀的涂层。 用于施加对象均匀的涂布系统和方法被公开。 系统，预处理单元，第一处理单元，所述第一后处理单元，并且每个啮合对象，旋转围绕两个或多个轴线上居中或多于一个的轴对象 配置为包括一个或多个涂覆装置。 在系统中使用，以便第一万向涂布装置是围绕绕所述第一轴或第一轴，耦合到所述第一旋转机构的第一万向节可旋转 ，以便允许围绕所述第二轴中心或第二轴线，该第二万向节，和第三轴线向耦合到所述第一万向节的中心或第三轴线的旋转 到可绕，它可以包括耦合到所述第二万向接头的第三万向接头。 第二旋转机构，以所述第二万向绕第二轴中心或第二轴线，被连接到所述第二万向接头，所述第三转动机构，所述第三 万向架绕在中心或第三轴线的第三轴线，是连接到第三万向接头。 对象保持器被连接到第三万向接头。 如果在对象保持器中存在的物体，它可以是通过浸渍该对象在涂层溶液中，以形成涂覆的物体。 然后，通过围绕涂布对象周围2或3轴或2或3个轴，其产生的离心力一起多方向，三维与重力，这个张量力而旋转 产生的，由此所有或部分涂布液是一个对象，或者均匀地分布在所述物体的复平面，以产生均匀的薄膜。 和至少一个对象，或具有均匀的薄膜的全部或部分共价键合到所述物体的复杂曲面，包括：对象复杂也被公开。 点域1
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公开(公告)号：JP2014519406A
公开(公告)日：2014-08-14
申请号：JP2014512156
申请日：2012-05-25
Applicant: アドヴェニラ エンタープライジーズ,インコーポレイテッド
Inventor： リャボーヴァ，エルミラ
CPC classification number: B05C13/02 , B05C15/00 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
Abstract: 均一にオブジェクトを塗布するために塗布システム及びプロセスが開示される。 システムは、前処理ユニット、第１の加工ユニット、第１の後処理ユニット、及びそれぞれがオブジェクトを係合し、オブジェクトを２つ以上の軸を中心に又は２つ以上の軸の周囲を回転させるように構成された、１つ又は複数の塗布装置を備える。 システム内で使用される塗布装置は、第１のジンバルが第１の軸を中心に又は第１の軸の周囲を回転可能にするために、第１の回転機構に連結された第１のジンバル、第２の軸を中心に又は第２の軸の周囲を回転可能にするために、第１のジンバルに連結された第２のジンバル、及び第３の軸を中心に又は第３の軸の周囲を回転可能にするために、第２のジンバルに連結された第３のジンバルを備えることができる。 第２の回転機構は、第２のジンバルが第２の軸を中心に又は第２の軸の周囲を回転するために、第２のジンバルに連結され、第３の回転機構は、第３のジンバルが第３の軸を中心に又は第３の軸の周囲を回転するために、第３のジンバルに連結される。 オブジェクトホルダは第３のジンバルに連結される。 オブジェクトがオブジェクトホルダ内に存在している場合、オブジェクトを塗布溶液内に浸漬させて、塗布されたオブジェクトを形成することができる。 次いで、塗布されたオブジェクトを２もしくは３軸を中心に又は２もしくは３軸の周囲を回転させ、これは一緒に多方向の遠心力を生成し、これは重力と一緒に三次元のテンソル力を生成し、これによって塗布液がオブジェクトのすべてもしくは一部、又はオブジェクトの複雑面の上に均一に広がって、均一な薄膜を生成する。 また少なくともオブジェクトのすべてもしくは一部、又はオブジェクトの複雑面に共有結合された均一な薄膜もつ、オブジェクトを備える複合体も開示される。
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公开(公告)号：JP2013144279A
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：JP2012006062
申请日：2012-01-16
Applicant: Mtek-Smart Corp , エムテックスマート株式会社
Inventor： MATSUNAGA MASABUMI
CPC classification number: H01L33/501 , B05B12/084 , B05B13/04 , B05B15/1288 , B05C5/02 , B05C9/10 , B05C11/1015 , B05C15/00 , H01L33/507 , H01L2933/0041
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method and device for applying a coating material reacting at room temperature, thickening with time or difficult to handle such as unstable slurry easy to precipitate, onto an object to be applied such as LED or LED members of high value.SOLUTION: According to the method and device, since a coated product can be produced while controlling a coating amount by automatically measuring the coating amount using a highly precise measuring instrument installed in the atmosphere which does not substantially influence the measurement at least before applying the coating material to the object to be applied, a large amount of high-quality coated products can be produced while holding down their production cost.
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种施加在室温下反应的涂料的方法和装置，随着时间的增加或难以处理的易于沉淀的不稳定的浆料，如待处理的物体如LED或LED的高成分 价格。解决方案：根据该方法和装置，由于可以通过使用安装在气氛中的至少在施加前基本上不影响测量的高精度测量仪器自动测量涂布量来控制涂布量，因此可以生产涂布产品 对被涂物的涂料，可以在抑制生产成本的同时生产大量高品质的涂布产品。
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5.发明专利Dip-coating process and method of manufacturing electrophotographic photosensitive member 有权DIP涂层工艺和制造电子摄影成像的方法
公开(公告)号：JP2010115641A
公开(公告)日：2010-05-27
申请号：JP2009229650
申请日：2009-10-01
Inventor： KAWAI YASUHIRO , KAKO KENICHI
CPC classification number: B05D1/18 , B05C3/02 , B05C3/09 , B05C15/00 , B05D3/0406 , B05D3/0486 , G03G5/00 , G03G5/04 , G03G5/0525
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a dip-coating process having a stable volatile environment of solvent and to provide a method of manufacturing electrophotographic photosensitive member utilizing the dip-coating process.
SOLUTION: A telescopic sliding hood is made by connecting a plurality of tubular members such that diameters successively decrease from the lower side of the dip-coating direction toward the upper side thereof and, when lifting a member to be coated, an air flow from the upper side of the dip coating direction toward the lower side thereof is generated in a gap between the inner face of the telescopic sliding hood and the member to be coated to discharge vapor of solvent to the outside of the telescopic sliding hood.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPITAbstract translation: 要解决的问题：提供具有稳定的溶剂挥发性环境的浸涂方法，并提供利用浸涂工艺制造电子照相感光构件的方法。 解决方案：通过连接多个管状构件制成伸缩式滑动罩，使得直径从浸涂方向的下侧朝向其上侧逐渐减小，并且当提升要涂覆的构件时， 在伸缩式滑动罩的内表面与要被涂覆的构件之间的间隙中产生从浸涂方向的上侧朝向其下侧的流动，以将溶剂的蒸气排放到伸缩式滑动罩的外部。 版权所有（C）2010，JPO＆INPIT
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：JP2018096626A
公开(公告)日：2018-06-21
申请号：JP2016242201
申请日：2016-12-14
CPC classification number: B05B15/00 , B05B16/00 , B05C9/14 , B05C15/00 , F24F3/147 , F26B3/04 , F26B15/12 , F26B21/00
Abstract: 【課題】エネルギロスが小さくて設備コスト及び運転コストの面で優れた塗装用乾燥設備を提供する。 【解決手段】処理室4から取り出した空気を除湿対象空気A″として吸脱着除湿装置11の吸着域13に導く除湿用往路20aと、吸着域13を通過した除湿後の空気A″を処理室4に導く除湿用復路20bとを設け、吸着域13を通過して除湿用復路7bに送出される除湿後の空気A″を吸熱源として、吸脱着除湿装置11の脱着域14に通過させる脱着用空気HAを加熱する脱着用ヒートポンプ15を設けるとともに、除湿用往路7aにおける除湿対象空気A″を、脱着用ヒートポンプ15により吸熱されて降温した除湿用復路7bにおける除湿後の空気A″と熱交換させて冷却する顕熱熱交換器21を設ける。 【選択図】 図1
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公开(公告)号：JP2018047420A
公开(公告)日：2018-03-29
申请号：JP2016184050
申请日：2016-09-21
Applicant: 東レエンジニアリング株式会社
IPC: B05C15/00
Abstract: 【課題】臭気量を低下させることなく、臭気を流通させる臭気配管部の擦れによる発塵を抑え、耐久性を向上させることができる脱臭装置及びその脱臭装置を備えた塗布装置を提供する。 【解決手段】ステージ面に搬送された基板に塗布膜を形成する塗布装置に設けられる脱臭装置であって、塗布器に対して移動可能に設けられ、廃液トレイの臭気を脱臭する脱臭器本体と、排気吸引源を有する支持フレーム部と、脱臭器本体と支持フレーム部とを連結し、前記脱臭器本体の臭気を排気吸引源に導くジョイントダクト部と、を有しており、ジョイントダクト部は、脱臭器本体と支持フレームとを連結する連通ダクト部と、連通ダクト部をステージ面に垂直な軸周りに回転可能に支持する旋回支持部とを有しており、支持フレーム部には、旋回支持部が脱臭器本体の移動方向と直交する方向に変位することを許容する差分吸収ガイド部が設けられている構成とする。 【選択図】図4
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公开(公告)号：JP5931306B2
公开(公告)日：2016-06-08
申请号：JP2016003534
申请日：2016-01-12
Applicant: アドヴェニラ エンタープライジーズ,インコーポレイテッド
Inventor： リャボーヴァ,エルミラ
CPC classification number: B05C13/02 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05C15/00 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
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公开(公告)号：JP5814464B2
公开(公告)日：2015-11-17
申请号：JP2014512156
申请日：2012-05-25
Applicant: アドヴェニラ エンタープライジーズ,インコーポレイテッド
Inventor： リャボーヴァ,エルミラ
CPC classification number: B05C13/02 , B05D1/005 , B05D1/18 , B05C15/00 , B05D3/0263 , B05D3/065 , B05D3/142 , Y10T428/24322 , Y10T428/24355 , Y10T428/24364 , Y10T428/24521 , Y10T428/24612 , Y10T428/24942 , Y10T428/249953
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公开(公告)号：JP2012164949A
公开(公告)日：2012-08-30
申请号：JP2011063722
申请日：2011-03-23
Applicant: Dainippon Screen Mfg Co Ltd , 大日本スクリーン製造株式会社
Inventor： HASHIZUME AKIO
IPC: H01L21/306
CPC classification number: B05C9/06 , B05C11/00 , B05C13/00 , B05C15/00 , C01B21/0687 , H01L21/02164 , H01L21/0217 , H01L21/3105 , H01L21/31111 , H01L21/31116 , H01L21/67028 , H01L21/67063 , H01L21/67115 , H01L21/67126 , H01L21/6719 , H01L21/67207 , H01L21/68742
Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a substrate processing method and a substrate processing apparatus in which the selection ratio of selective etching can be enhanced.SOLUTION: A substrate W is silylated when a silylation reagent is supplied thereto. When an etching agent is supplied subsequently to the substrate W, the substrate W thus silylated is etched.
Abstract translation: 要解决的问题：提供一种可以提高选择性蚀刻选择比的衬底处理方法和衬底处理装置。 解决方案：当向其提供甲硅烷基化试剂时，底物W被甲硅烷基化。 当在衬底W之后提供蚀刻剂时，蚀刻硅烷化的衬底W. 版权所有（C）2012，JPO＆INPIT
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