High heat-resistant member, method for producing the same, graphite crucible and method for producing single crystal ingot
    4.
    发明专利
    High heat-resistant member, method for producing the same, graphite crucible and method for producing single crystal ingot 有权
    高耐热构件,其制造方法,石墨坩埚和用于生产单晶体的方法

    公开(公告)号:JP2013075814A

    公开(公告)日:2013-04-25

    申请号:JP2012177799

    申请日:2012-08-10

    IPC分类号: C30B23/08 C04B35/52 C04B41/87

    摘要: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a high heat-resistant member, such as a graphite crucible, which has excellent durability and is used in the production of a single crystal ingot by a sublimation method.SOLUTION: The high heat-resistant member includes: a graphite substrate formed from isotropic graphite; and a carbide coating film formed from a carbide (tantalum carbide or the like), covering a surface of the graphite substrate. The carbide coating film is composed of a non-oriented granular structure in which crystallites having a size, indexed by a full width at half maximum of a diffraction peak of an X-ray diffraction spectrum in (111) plane, of 0.2° or less are accumulated at a non-oriented state. The orientation of the carbide coating film is determined by whether or not the degree of orientation (F) calculated based on the X-ray diffraction spectrum using the Lotgering method is within a range from -0.2 to 0.2 even in any Miller plane. The carbide coating film composed of the non-oriented granular structure is almost prevented from the occurrence and extension of cracks and stable even in a high temperature environment. Consequently, the high heat-resistant member whose surface is covered with the carbide coating film also exhibits excellent durability.

    摘要翻译: 要解决的问题:提供耐久性优异的高耐热构件,例如石墨坩埚,并通过升华法制造单晶锭。 解决方案:高耐热构件包括:由各向同性石墨形成的石墨基底; 以及由碳化物(碳化钽等)形成的覆盖石墨基板的表面的碳化物涂膜。 碳化物涂膜由非取向粒状结构构成,其中,(111)面的X射线衍射光谱的衍射峰的半峰全宽为0.2°以下的微晶 在非向导状态下积累。 碳化物涂膜的取向是通过使用“漂白法”的X射线衍射光谱计算的取向度(F)是否在任意的米勒平面内均在-0.2〜0.2的范围内的范围内。 由非取向粒状结构构成的碳化物涂膜几乎可以防止裂缝的发生和扩展,即使在高温环境下也是稳定的。 因此,表面被碳化物涂膜覆盖的高耐热构件也具有优异的耐久性。 版权所有(C)2013,JPO&INPIT

    太陽光反射・熱放射多層膜の設計方法および太陽光反射・熱放射多層膜

    公开(公告)号:JPWO2010119974A1

    公开(公告)日:2012-10-22

    申请号:JP2011509378

    申请日:2010-04-19

    IPC分类号: G02B5/26 G02B5/08 G02B5/28

    摘要: 宇宙空間で有利に使用される熱制御フィルム、特に多層膜の設計方法が提供される。この設計方法は、(a)多層膜を構成するための少なくとも2つの候補材料、および多層膜の層数を設定するステップ;および(b)遺伝的アルゴリズムであって、(b−1)少なくとも、個体数(n)、選択方法、交叉方法および交叉率、および突然変異率を設定するステップ、(b−2)設定された層数を有する第1世代の個体を設定された数だけ生成する初期化ステップ、(b−3)世代数が、所定の世代数に達するまで、または所定の評価基準に達する個体が得られるまで、次の(i)〜(iii)のサブステップを繰り返すループステップ(i)生成されたn個の個体を、評価関数により評価する評価ステップ;(ii)前記評価に基づいて、n個の個体から、次のステップの対象となる個体を選択する選択ステップ;および(iii)選択された個体から、設定された交叉方法および交叉率、並びに設定された突然変異率に従って、n個の次世代の個体を生成する次世代生成ステップを有し、前記評価関数が、(評価関数1) αs=1−Rs(但し、Rsは、太陽光の放射波長範囲の中で、設計の対象の波長範囲内の太陽光エネルギーの反射率を表す。)(評価関数2) εH(εH=1−RIRであり、RIRは、熱放射の波長範囲の中で、設計の対象の波長範囲内の熱放射エネルギーの反射率を表す。)である遺伝的アルゴリズムを使用して、候補材料および層厚の組み合わせを設計するステップを含む。

    人工衛星
    9.
    发明专利
    人工衛星 审中-公开

    公开(公告)号:JP2018514442A

    公开(公告)日:2018-06-07

    申请号:JP2017557101

    申请日:2016-06-01

    IPC分类号: B64G1/22 B64G1/50

    摘要: 本発明は、人工衛星に関しており、当該人工衛星は、熱を放散可能なバッテリパック(62)と、前記バッテリパック(62)によって放散された熱を宇宙へ伝達可能な少なくとも1つのラジエータ(64)と、250ワット/m2未満の個々の電力束密度を有する低損失設備部材(52)と、を備えており、前記ラジエータ(64)とともに、輻射によって熱制御を行う内部等温領域(68)を区切る断熱カバー(66)を備え、前記バッテリパック(62)および前記低損失設備(52)は、前記断熱カバー(66)内に配置されており、前記バッテリパック(62)は、0℃と50℃との間の動作範囲、好適には10℃と30℃との間の動作範囲を有することを特徴とする。