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    高純度モノアルケニル含有グリセリン誘導体及びその製造方法
    3.
    发明专利
    高純度モノアルケニル含有グリセリン誘導体及びその製造方法 有权
    含有甘油衍生物和其制备方法的高纯度的单链烯

    公开(公告)号：JPWO2014104255A1

    公开(公告)日：2017-01-19

    申请号：JP2014554574

    申请日：2013-12-26

    申请人： 東レ・ダウコーニング株式会社

    发明人： 達央 早田 ,  達央 早田 ,  さゆり 澤山 ,  さゆり 澤山 ,  常仁 杉浦 ,  常仁 杉浦 ,  田村　誠基 ,  誠基 田村 ,  堀　誠司 ,  誠司 堀

    IPC分类号： C07C43/178 ,  A61K8/893 ,  A61K47/34 ,  C07C41/26 ,  C07C41/28 ,  C08G77/38 ,  C08G77/50

    CPC分类号： C07C43/1785 ,  A61K8/893 ,  A61K8/895 ,  A61K2800/10 ,  A61Q1/02 ,  A61Q17/04 ,  A61Q19/00 ,  C07C41/03 ,  C07C41/18 ,  C07C41/28 ,  C08G77/14 ,  C08G77/38 ,  C07C43/178

    摘要： 本発明は、純度が92%以上であり、電気伝導度が50μS/cm以下である、モノアルケニル含有グリセリン誘導体に関する。前記モノアルケニル含有グリセリン誘導体は、工程(A):ケタ—ル化グリセリン誘導体及びモノアルケニルグリシジルエーテルを無機塩基の存在下で反応させて、ケタ—ル化グリセリン誘導体のケタール体を得る工程、工程(B):工程(A)で得られた前記ケタール体を蒸留により精製する工程、及び工程(C):工程(B)で得られた同ケタール体を、加水分解する工程を含む製造方法によって製造することができる。本発明により、従来困難であった高純度のモノアルケニル含有グリセリン誘導体を提供することができる。更に、前記モノアルケニル含有グリセリン誘導体を用いて、化学的に安定で、更に、乳化性等の実用性、配合安定性に優れたグリセリン誘導体変性シリコーンおよびその用途を提供することができる。

    摘要翻译： 本发明具有的纯度为92％以上，导电率不大于50微米S / cm，约含单链烯基甘油的衍生物。 含单链烯基甘油的衍生物，步骤（A）：数字 - 乐甘油衍生物和单链烯基缩水甘油基醚在无机碱的存在下反应，数字 - 以获得勒缩酮甘油衍生物，步骤（ B）：步骤（通过蒸馏纯化的步骤是在得到的缩酮体），并且步骤（C）：）在（B得到的缩酮体的步骤，该方法包含水解步骤制造 它可以。 本发明可以提供一种甘油的衍生物含有单链烯基以往难以高纯度。 此外，通过使用含单链烯基甘油的衍生物，化学稳定的，此外，也可以提供一种实用的，制剂稳定性优异甘油衍生物改性的有机硅和其应用，例如可乳化的。

    A short period of time to alkoxylated with continuously high temperature chemical substance by active hydrogen atoms (ethoxylated, propoxylated) to a method and apparatus
    7.
    发明专利
    A short period of time to alkoxylated with continuously high temperature chemical substance by active hydrogen atoms (ethoxylated, propoxylated) to a method and apparatus 有权

    公开(公告)号：JP2013544234A

    公开(公告)日：2013-12-12

    申请号：JP2013533200

    申请日：2011-10-12

    申请人： ブッス ケム テック アーゲーBuss Chem Tech Ag

    发明人： アイグナー ルドルフ ,  ヒルシュ デービット ,  ラグナツ アルフレッド

    IPC分类号： C07C41/03 ,  B01J14/00 ,  C07B61/00 ,  C07C43/13 ,  C07C43/23

    CPC分类号： B01J8/067 ,  B01J4/002 ,  B01J4/005 ,  B01J14/00 ,  B01J19/002 ,  B01J19/006 ,  B01J19/2425 ,  B01J19/247 ,  C07C41/03 ,  C08G65/2696 ,  C07C43/23 ,  C07C43/11

    摘要： 開示されるのは、液体アルキレンオキシドと、活性水素原子を有する有機化合物及び触媒を含む液体物質とを、リアクターにおいて連続的に反応させる方法であって、（１）アルキレンオキシドは、反応スペースに入る前に、第１の分量及び第２の分量、また任意選択的には更なる分量に分けられ、（２）アルキレンオキシドの上記第１の分量は第１の位置において上記リアクターの反応スペースに入り、（３）液体有機物質は、上記第１の位置の下流の第２の位置において上記リアクターの内部に供給され、（４）液体アルキレンオキシドは、上記第１の位置において、この位置の反応スペース又は反応ギャップの断面積全体にわたってリアクターに入り、（５）アルキレンオキシドの上記第２の分量及び任意選択的には更なる分量は、上記第１の位置において分けられ、上記第１の位置から第３の位置へ導かれ、またアルキレンオキシドの更なる分量が分けられる場合には、アルキレンオキシドの各分量用の別個のチューブを通して反応スペース又は反応ギャップ内の更なる位置へ導かれ、別個のチューブは、反応スペース内に挿入され、上記第１の位置からリアクタースペースの上記第３の位置又は上記更なる位置のそれぞれに延び、（６）上記第３の位置及び任意選択的な更なる位置は、上記第２の位置の下流に位置し、この第２の位置から、またリアクターにチャージする流れ方向において互いから或る距離を有し、（７）液体アルキレンオキシドの上記第２の分量及び任意選択的な更なる分量は、上記第３の位置及び上記任意選択的な更なる位置において反応スペースに入り、リアクターの端部へ下流に向かいながら液体反応混合物と混ぜられて液体反応混合物と反応する、方法、及び、この方法を実行する好ましい装置である。
    【選択図】図３

    Method for producing ether compound
    10.
    发明专利
    Method for producing ether compound 有权
    生产醚化合物的方法

    公开(公告)号：JP2010222340A

    公开(公告)日：2010-10-07

    申请号：JP2009282125

    申请日：2009-12-11

    申请人： Kao Corp ,  花王株式会社

    发明人： MATSUMOTO TOMOTAKA ,  NISHI TAKAFUMI ,  UNO MITSURU

    IPC分类号： C07C41/03 ,  B01J27/053 ,  C07B61/00 ,  C07C43/13

    CPC分类号： C07C41/03 ,  B01J27/053 ,  C07C43/13

    摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for easily and efficiently producing an ether compound from a compound having a hydroxy group and an epoxy compound.
    SOLUTION: The method for producing the ether compound comprises reacting the compound having a hydroxy group with the epoxy compound in the presence of an oxide of a group 4 metal of the periodic table, the oxide having sulfate ions supported thereon. When the metal oxide is examined by X-ray powder diffractometry, the sum of the diffraction intensity for the crystal lattice (111) plane and the diffraction intensity for the crystal lattice (-111) plane is 2,000 cps or more.
    COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

    摘要翻译： 待解决的问题：提供一种由具有羟基和环氧化合物的化合物容易且有效地制备醚化合物的方法。 解决方案：制备醚化合物的方法包括在周期表第4族金属的氧化物，负载有硫酸根离子的氧化物的存在下使具有羟基的化合物与环氧化合物反应。 当通过X射线粉末衍射法检查金属氧化物时，晶格（111）面的衍射强度与晶格（-111）面的衍射强度之和为2,000cps以上。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT