-
公开(公告)号:JP6433875B2
公开(公告)日:2018-12-05
申请号:JP2015198979
申请日:2015-10-07
申请人: ゼロックス コーポレイション , XEROX CORPORATION
发明人: エイドリアン・ピエール・コート , ブリン・メアリー・ドゥーリー , アンソニー・ウィグルスワース
CPC分类号: C08J5/18 , C08G77/24 , C08J7/047 , C08J2379/08 , C08J2383/00 , C08J2483/06 , C09D183/06 , C09D183/08
-
公开(公告)号:JP6430940B2
公开(公告)日:2018-11-28
申请号:JP2015529649
申请日:2012-12-27
申请人: エルジー・ハウシス・リミテッド , LG HAUSYS,LTD.
IPC分类号: B32B27/00 , C08G77/24 , C09D183/07 , C09D183/04 , C09D183/02 , C09D5/00 , C09D7/40 , G02B1/111
CPC分类号: C09D5/006 , C08G77/24 , C08J5/18 , C08J7/047 , C08J2367/02 , C08J2483/02 , C08J2483/04 , C08K7/26 , C09D183/02 , C09D183/04 , C09D183/06 , G02B1/11 , G02B1/111 , C09D183/08
-
公开(公告)号:JPWO2017111098A1
公开(公告)日:2018-10-18
申请号:JP2016088514
申请日:2016-12-22
申请人: AGC株式会社
CPC分类号: C08F292/00 , C01P2006/60 , C07F7/1804 , C07F7/1892 , C07F7/28 , C08F2/44 , C08G77/24 , C09C1/3684 , C09C3/12 , G02B1/04
摘要: フッ素原子含有率が高い液体の含フッ素化合物に分散しやすい表面修飾金属酸化物粒子およびその製造方法;アッベ数が高く、透明性に優れる分散液;アッベ数が高く、透明性に優れる硬化物を得ることができる硬化性組成物およびその硬化物の提供。 屈折率が1.9以上である金属酸化物粒子の表面に、特定のフルオロアルキル基含有表面修飾基および特定の(メタ)アクリロイル基含有表面修飾基を有する表面修飾金属酸化物粒子(A);表面修飾金属酸化物粒子(A)と、フッ素原子含有率が20質量%以上であり、25℃において液体である含フッ素化合物とを、特定の割合で含む分散液;表面修飾金属酸化物粒子(A)と、フッ素原子含有率が20質量%以上であり、かつ(メタ)アクリロイル基を1つ以上有する化合物(B)と、重合開始剤(D)とを、特定の割合で含む硬化性組成物。
-
公开(公告)号:JP2018529792A
公开(公告)日:2018-10-11
申请号:JP2018501975
申请日:2016-03-15
IPC分类号: H01M8/1025 , H01M8/1037 , H01M8/1046 , H01B1/06 , H01B13/00 , C08L83/04 , C08L81/06 , C08L71/08 , C08J5/18
CPC分类号: C08L83/06 , C08G65/4056 , C08G77/24 , C08G77/26 , C08G77/28 , C08G77/30 , C08G77/46 , C08G81/00 , C08J5/2256 , C08J2371/00 , C08J2381/06 , C08J2483/06 , C08K5/42 , C08L71/00 , C08L83/08 , H01M8/10 , H01M8/1004 , C08L83/00
摘要: 本発明は、プロトン供与体(proton donor)を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)とプロトン受容体(proton acceptor)を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンがスルホン基を有する芳香族炭化水素高分子膜に導入されたプロトン伝導性ナノ複合膜及びその製造方法に関するものである。本発明のナノ複合膜には、プロトン供与体を有するPOSSとププロトン受容体を有するPOSSが共に添加されており、発生したプロトン(陽イオン)がイオンチャンネル内で水素結合を介して簡単にホッピング(hopping)されてイオン導電率が増加している。また、本発明に使われたPOSSは、その大きさが非常に小さくて高分子膜内のイオンチャンネルでのプロトンの移動をほとんど妨害しないため、優れたプロトン導電率を実現することができる。また、本発明によるプロトン伝導性ナノ複合膜は高分子膜のスルホン化度が増加しても優れた機械的強度を示す。 【選択図】 なし
-
公开(公告)号:JP6404678B2
公开(公告)日:2018-10-10
申请号:JP2014215036
申请日:2014-10-22
发明人: ビン・アール・シェイ , ティモシー・ディー・ストウ
-
公开(公告)号:JP2018525778A
公开(公告)日:2018-09-06
申请号:JP2018501968
申请日:2016-03-15
IPC分类号: H01M8/1044 , H01M8/1088 , H01B1/06 , H01B13/00 , C08J5/22 , H01M8/1039
CPC分类号: H01M8/1004 , C08G77/24 , C08G77/26 , C08G77/28 , C08G77/30 , C08G77/385 , C08G77/392 , C08J5/2237 , C08J2327/12 , C08J2327/18 , C08J2483/06 , C08L27/22 , C08L83/06 , C08L83/08 , C08L2203/20 , H01M8/10 , H01M8/1041 , H01M2300/0082 , Y02P70/56 , C08L83/00
摘要: 本発明は、プロトン供与体(proton donor)を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサン(POSS)とプロトン受容体(proton acceptor)を有する多面体オリゴマーシルセスキオキサンがフッ素系プロトン伝導性高分子膜に導入されたプロトン伝導性ナノ複合膜及びその製造方法に関するものである。本発明のナノ複合膜には、プロトン供与体を有するPOSSとププロトン受容体を有するPOSSが共に添加されており、発生したプロトン(陽イオン)がイオンチャンネル内で水素結合を介して簡単にホッピング(hopping)されてイオン導電率が増加している。また、本発明に使われたPOSSは、その大きさが非常に小さくて高分子膜内のイオンチャンネルでのプロトンの移動をほとんど妨害しないため、優れたプロトン導電率を実現することができる。また、本発明によるプロトン伝導性ナノ複合膜は高分子膜のスルホン化度が増加しても優れた機械的強度を示す。 【選択図】 なし
-
公开(公告)号:JP6386548B2
公开(公告)日:2018-09-05
申请号:JP2016523776
申请日:2014-06-13
发明人: ストゥバン ジェ.コルブレーン , ルドルフ ジ.ダムズ , トム オプスタル , ミゲル エー.ゲラ
CPC分类号: C08L83/08 , C08G65/007 , C08G65/226 , C08G65/332 , C08G65/337 , C08G77/20 , C08G77/24 , C08G77/385 , C08G77/46 , C08G2650/48 , C08L71/00 , C08L2205/05
-
公开(公告)号:JP6373363B2
公开(公告)日:2018-08-15
申请号:JP2016516685
申请日:2014-05-15
发明人: チゥ, ザイ‐ミン , ラソア, ジテンドラ エス.
IPC分类号: C08G77/06 , C08G77/385 , C08L83/05 , C08L83/06 , C08L83/07 , B32B27/00 , C09J7/40 , C09J133/00 , C09J183/04 , C09D183/08 , C09D183/10 , C07F7/08 , C08G77/24
CPC分类号: C09J7/201 , C08G77/24 , C08G77/385 , C09D183/08 , C09J7/401 , C09J2427/00 , C09J2483/00 , C09J2483/005 , Y10T428/14
-
公开(公告)号:JP6356635B2
公开(公告)日:2018-07-11
申请号:JP2015112952
申请日:2015-06-03
申请人: 信越化学工業株式会社
发明人: 工藤 宗夫
IPC分类号: C08F230/08 , G02C7/04 , C07F7/18
-
公开(公告)号:JP2018025293A
公开(公告)日:2018-02-15
申请号:JP2017106966
申请日:2017-05-30
申请人: CKD株式会社
CPC分类号: F16K41/103 , C08G77/24 , C08J5/18 , C08J2383/08 , C09D183/08 , F16K1/02 , F16K1/12 , F16K1/42 , F16K7/12 , F16K7/14 , F16K25/005 , F16K31/0655 , F16K31/0675 , F16K41/12 , F16K51/02
摘要: 【課題】腐食性の高いプロセスガスを流しても腐食することなく長い時間(長期間)連続して使用し得る流体制御弁を提供すること。 【解決手段】流路が形成された流路ブロックと、流路ブロックに設けられた弁座と、弁座と当接離間する弁体とを有し、弁座に対する弁体の動作により流路を開閉して流体を制御する流体制御弁において、弁体の動作に伴って形状が変化する形状変化部を備え、形状変化部の表面に、フルオロシラン系物質の単分子膜が形成されている。 【選択図】図1
-
-
-
-
-
-
-
-
-