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公开(公告)号:JP2018113412A
公开(公告)日:2018-07-19
申请号:JP2017004430
申请日:2017-01-13
申请人: 東京応化工業株式会社
IPC分类号: H01L21/312
CPC分类号: C09D183/16 , C08G77/62 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02318
摘要: 【課題】比較的低温の焼成条件であっても、安定的に膜質のよいシリカ質膜を与えることのできる組成物と、当該組成物を用いたシリカ質膜の製造方法とを提供すること。 【解決手段】本発明に係る組成物は、(A)ポリシラザンと、(B)以下の式(B)で示されるイミダゾール基含有化合物とを含む。 【化1】 【選択図】なし
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公开(公告)号:JP2018502975A
公开(公告)日:2018-02-01
申请号:JP2017543303
申请日:2015-11-04
发明人: グロスマン, クレイグ , グロスマン, ガブリ , モロス, ダニエル
IPC分类号: C08G77/54 , A01N25/10 , A01N55/00 , A01P3/00 , C07F7/18 , C08G73/00 , C08G77/60 , C08K3/22 , C08L83/04 , C08L83/14 , C08L83/16 , C09D5/02 , C09D5/14 , C09D183/08 , C09D185/00
CPC分类号: C08K3/22 , B05D1/02 , C08G73/0246 , C08G77/26 , C08G77/62 , C08K2003/2241 , C09D5/14 , C09D183/08 , C09D183/16 , C08L83/14
摘要: 構造(R4が、−Hおよび−CH2−CH2−OHからなる群より選択される)を有するアミノポリオールと、構造(R1が、−H、−CH3、および−CH2−CH3からなる群より選択され、R2が、−OH、−O−CH3、O−CH2−CH3、アルキル、塩素部分を有するアルキル、アミノ部分を有するアルキル、および第四級アンモニウム基を有するアルキルからなる群より選択される)を有するオルガノシランとを反応させることによって形成される、ポリマー材料。
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公开(公告)号:JP6158921B2
公开(公告)日:2017-07-05
申请号:JP2015520696
申请日:2013-07-03
发明人: フィッシュ、 クリス
IPC分类号: C09D183/04 , C09D7/12 , B29C33/64 , C09D183/16
CPC分类号: C09D183/16 , B05D3/007 , C08L83/16 , C09D183/00 , C09D183/04 , C09D183/10 , C09D183/14 , C09D5/00 , C09D5/08 , C09D5/24 , C09D5/32 , B05D5/08 , C08G77/04 , C08G77/60 , C08G77/62
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公开(公告)号:JP2016204487A
公开(公告)日:2016-12-08
申请号:JP2015086203
申请日:2015-04-20
IPC分类号: C09D7/12 , B05D3/06 , B05D7/04 , B05D7/24 , C09D183/00
CPC分类号: C09D183/16 , C08L83/16 , C08G77/62
摘要: 【課題】ガスバリア性能に優れた被膜を形成することができる被膜形成用組成物と被膜形成方法の提供。 【解決手段】露光によりポリシラザンと反応する特定のケイ素化合物と、ポリシラザンと、有機溶剤とを含んでなることを特徴とする被膜形成用組成物と、その組成物を基板に塗布し、露光することを含んでなる被膜形成方法。 【選択図】なし
摘要翻译: 本发明提供一种涂料组合物和涂膜形成能够形成优良的阻气性能的薄膜的方法。 和与由曝光聚硅氮烷,聚硅氮烷,一个膜形成组合物,其特征在于包含有机溶剂,将组合物施加到基材上进行反应,曝光一个具体的硅化合物 膜形成方法包括。 系统技术领域
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公开(公告)号:JP2016522784A
公开(公告)日:2016-08-04
申请号:JP2016515670
申请日:2013-06-05
发明人: ホッペ カール−フリードリヒ , ホッペ カール−フリードリヒ , ゲッツ クリスティアン , ゲッツ クリスティアン , イューレンブルック ゴスヴィン , イューレンブルック ゴスヴィン , ラウレーダー ハルトヴィッヒ , ラウレーダー ハルトヴィッヒ
IPC分类号: C01B21/087
CPC分类号: C01B21/087 , B01D3/143 , B01J19/24 , B01J2219/24 , C08G77/62
摘要: 本発明の対象は、不活性溶媒中に存在しているモノクロロシランに対してアンモニアを化学量論的に過剰に計量供給して、液相中でトリシリルアミンおよびポリシラザンを製造する方法である。ここで、トリシリルアミンならびにポリシラザンが生じる反応が進行する。続いて、TSAが、ガス状で前記混合生成物から分離される。得られたTSAは、ろ過および蒸留によって精製されて、高純度またはきわめて高い純度で得られる。前記底部混合生成物は、前記反応器からろ過ユニットに通され、ここで、固体の塩化アンモニウムが分離されて、ポリシラザンと溶媒からなる液状の混合物が得られる。この混合物は、さらなる蒸留に供給されて、溶媒が回収される。NH3をモノクロロシランに対して化学量論的に過剰に計量供給することによって、モノクロロシランは、前記反応器内で完全に反応する。それによって、TSAを精製するための下流の装置部材において、モノクロロシランと、さらに形成された少量のジシリルアミンとが反応して固体の塩化アンモニウムが形成されることが完全に阻止される。前記反応器の後でろ過された溶液は、それに応じて固体をまったく含んでいない。使用された蒸留塔は、蒸留工程の終了後、いかなる固体もしくは沈殿物も含んでいない。
摘要翻译: 本发明中,氨和化学计量过量的计量相对于一氯硅烷存在,在惰性溶剂,使三硅烷基胺和在液相中聚硅氮烷的方法。 这里,三甲硅烷基胺和聚硅氮烷的反应发生进展。 随后,TSA是从以气态形式混合产物分离。 将得到的TSA通过过滤和蒸馏纯化,以高纯度或非常高的纯度得到。 它说底部产物混合物通过过滤单元从所述反应器中,其中所述固体氯化铵在组成聚硅氮烷的液体的混合物分离,并且获得了溶剂通过。 该混合物被送入另一个蒸馏,溶剂被回收。 通过过度计量加入化学计量相对于氯甲硅烷的NH 3,一氯硅烷在反应器中完全反应。 由此,下游设备构件用于纯化TSA,和一氯,进行反应,并且进一步形成固体氯化铵形成disilylamine少量被完全阻塞。 过滤后的溶液后,所述反应器不包含任何相应的固体。 使用蒸馏塔是,后蒸馏步骤完成不包含任何固体或沉淀。
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公开(公告)号:JP5940034B2
公开(公告)日:2016-06-29
申请号:JP2013193327
申请日:2013-09-18
发明人: ウィリアム・アール・ベッツ , クリストファー・エム・リントン
CPC分类号: B01J20/28026 , B01J20/08 , B01J20/103 , B01J20/20 , B01J20/26 , B01J20/28004 , B01J20/2803 , B01J20/28033 , B01J20/28035 , B01J20/28042 , B01J20/28057 , B01J20/28069 , B01J20/28078 , B01J20/281 , B01J20/3223 , B01J20/3293 , C03C12/00 , C03C25/101 , C08G77/62 , C08L83/16 , B01J2220/46 , B01J2220/54 , B01J2220/64 , B01J2220/86 , Y10T428/1321 , Y10T428/1393 , Y10T428/2933 , Y10T428/31663
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公开(公告)号:JP2015115369A
公开(公告)日:2015-06-22
申请号:JP2013254456
申请日:2013-12-09
发明人: 岡 村 聡 也 , 神 田 崇 , 櫻 井 一 成 , バートラム、ベルント、バーニッケル , 青 木 宏 幸
IPC分类号: H01L21/316
CPC分类号: H01L21/02222 , C01B21/087 , C08G77/62 , C09D1/00 , H01L21/02164 , H01L21/02282
摘要: 【課題】欠陥の少ないシリカ質膜を形成することができるペルヒドロポリシラザンとそれを含む硬化用組成物の提供。 【解決手段】本発明によれば、重量平均分子量が5,000以上17,000以下のペルヒドロポリシラザンであって、前記ペルヒドロポリシラザンをキシロールに溶解させた17重量%溶液の 1 H−NMRを測定した時、キシロールの芳香族環水素の量を基準としたSiH 1,2 の量の比が0.235以下、NHの量の比が0.055以下であることを特徴とするペルヒドロポリシラザンと、それを含む硬化用組成物が提供される。本発明は、その硬化用組成物を基材上に塗布し、加熱することを含むシリカ質膜の形成方法も提供するものである。 【選択図】なし
摘要翻译: 要解决的问题:提供能够形成缺陷少的硅质膜的全氢硅氮烷; 和包含这种全氢聚硅氮烷的硬化组合物。解决方案:提供全氢聚硅氮烷和包含全氢聚硅氮烷的硬化组合物。 全氢聚硅氮烷的重均分子量为5,000-17,000。 根据溶解在二甲苯中的全氢聚硅氮烷的17重量%液体溶液的1 H-NMR测定,SiH的量与二甲苯的芳香环氢的量的比例为0.235以下,NH 为0.055以下。 此外,提供了一种形成硅质膜的方法,其包括以下步骤:用硬化组合物涂覆基材; 并加热涂覆的基底。
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公开(公告)号:JP5692736B2
公开(公告)日:2015-04-01
申请号:JP2009231970
申请日:2009-10-05
申请人: 株式会社ADEKA
IPC分类号: C09D5/25 , C01B21/068 , C01B21/087 , C01B33/12 , H01L21/316 , H01L21/314 , C09D1/00
CPC分类号: C08G77/62 , C08G77/12 , C08L83/16 , C09D1/00 , C09D183/16 , H01B3/02 , H01L21/02164 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , Y10T428/24008
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公开(公告)号:JP5653994B2
公开(公告)日:2015-01-14
申请号:JP2012500138
申请日:2010-03-16
发明人: ローデ・クラウス , ストヤノヴィク・サンドラ , シュニープス・ヤン , カウフマン・クリスティアン , ショック・ハンス−ヴェルナー
IPC分类号: H01L31/18 , H01L31/0749
CPC分类号: C09D183/16 , C08G77/62 , H01L31/03923 , H01L31/0749 , Y02E10/541
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公开(公告)号:JP5306669B2
公开(公告)日:2013-10-02
申请号:JP2008049906
申请日:2008-02-29
IPC分类号: H01L21/76 , H01L21/316
CPC分类号: H01L21/3125 , C08G77/62 , C09D183/16 , H01L21/02164 , H01L21/02222 , H01L21/02282 , H01L21/02304 , H01L21/02348 , H01L21/316 , H01L21/76224 , Y10T428/24612
摘要: The present invention provides a method for formation of a siliceous film containing nitrogen in a low concentration. The method according to the present invention comprises the steps of: applying a polysilazane composition on an engraved substrate surface, to form a coating layer; hardening the coating layer only in the part adjacent to the substrate surface, to form a covering film along the shape of the engraved substrate; and removing the polysilazane composition of the coating layer in the part not hardened in the above covering film-formation step. According to this method, two or more siliceous films can be formed and layered.
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