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公开(公告)号：JP5336383B2
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：JP2009536248
申请日：2007-11-01
发明人： リーズ、ウェイン、エム．
CPC分类号： C23F11/1676 , A01N59/00 , C11D1/342 , C11D3/0073 , C11D3/361 , C11D3/3956 , C11D7/36
摘要： A cleaning composition with a corrosion inhibitor system and an active halogen-based bleaching system and aqueous solution is described for inhibiting corrosion of metal surfaces to which the composition is applied, especially when the cleaning composition is not rinsed from the treated metal surface prior to drying of the composition on the metal surface. The corrosion inhibitor is at least an alkyl phosphonate compound, wherein the alkyl group has 6 or more carbon atoms, and salts thereof. The bleaching system includes one or more sources of hypohalous acid or hypohalite ion, such as a stabilized hypochlorite solution, in particular a mixture of N-chlorosulfamate salts.
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公开(公告)号：JP2010530025A
公开(公告)日：2010-09-02
申请号：JP2010512350
申请日：2008-06-12
申请人： ローディア インコーポレイティド
发明人： アラン ハフ，ローレンス , ヨハネス フッテラー，トビアス , リー レイアーソン，ロバート
CPC分类号： C11D3/0036 , C11D1/342 , C11D1/345 , C11D3/361 , C11D3/362 , C11D3/3784 , C11D11/0017
摘要： 有機リン防汚剤及び所望による非綿用の第２の防汚剤を含む、全ての布帛に防汚の利益を提供する洗濯用洗浄剤組成物。 本発明は、綿製品を、水溶性及び／又は分散性の有機リン材料と接触させることを含む、綿布帛に防汚利益を付与するための方法にさらに関する。 接触は、洗浄の際、あるいは上記組成物を汚染物に直接適用するか、又は洗浄の前に上記組成物に衣類を予浸することによる前処理によりなされうる。 本発明は、漂白剤の存在下で、洗濯物の洗浄の負荷における、全ての布帛に防汚利益を付与することにさらに関する。
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公开(公告)号：JPWO2006025373A1
公开(公告)日：2008-05-08
申请号：JP2006532711
申请日：2005-08-30
申请人： 三洋化成工業株式会社
IPC分类号： C11D1/02 , C11D1/06 , C11D1/10 , C11D1/12 , C11D1/34 , C11D3/20 , C11D3/26 , C11D3/37 , C11D3/43 , H01L21/304
CPC分类号： C11D1/04 , C11D1/143 , C11D1/146 , C11D1/22 , C11D1/342 , C11D1/345 , C11D1/37 , C11D11/0047
摘要： 実質的にアルカリ金属を使用せず、洗浄時において微細化したパーティクルの再付着防止性に優れ、極めて効率的な高度洗浄を可能にする界面活性剤を提供する。本発明は、中和塩(AB1)及び/又は中和塩(AB2)からなることを特徴とする界面活性剤を用いる。中和塩(AB1):酸解離反応における生成熱変化が3〜200kcal/molである酸からなる酸基(X1)と炭素数が1〜36の疎水基(Y1)とをそれぞれ少なくとも1つ有する酸性化合物(A1)と、プロトン付加反応における生成熱変化が10〜152kcal/molである窒素含有塩基性化合物(B)との中和塩(AB1)であって、(X1)がスルホン酸基等からなる群より選ばれる少なくとも1種である中和塩中和塩(AB2):分子内に少なくとも1つの酸基(X2)を少なくとも1つ有するポリマー(A2)と、プロトン付加反応における生成熱変化が10〜152kcal/molである窒素含有塩基性化合物(B)との中和塩(AB2)
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公开(公告)号：JP5748043B2
公开(公告)日：2015-07-15
申请号：JP2010512350
申请日：2008-06-12
发明人： フッテラー,トビアス ヨハネス , ハフ,ローレンス アラン , レイアーソン,ロバート リー
CPC分类号： C11D3/0036 , C11D1/342 , C11D1/345 , C11D11/0017 , C11D3/361 , C11D3/362 , C11D3/3784
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公开(公告)号：JP3773506B2
公开(公告)日：2006-05-10
申请号：JP2003278876
申请日：2003-07-24
申请人： 松下電器産業株式会社
IPC分类号： H01L27/04 , C11D1/34 , H01L21/822 , H01L27/02
CPC分类号： H01L27/0285 , C11D1/342 , C11D1/345
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公开(公告)号：JP2016532634A
公开(公告)日：2016-10-20
申请号：JP2016516095
申请日：2015-01-05
申请人： 南通思▲鋭▼生物科技有限公司
IPC分类号： A01N37/02 , A01N59/00 , A01P1/00 , A01P3/00 , C11D1/14 , C11D1/18 , C11D1/34 , C11D3/04 , C11D3/06 , C11D3/28 , C11D3/30 , C11D3/36 , C11D3/39 , C11D3/48
CPC分类号： A01N59/00 , A01N25/22 , A01N25/30 , A01N37/16 , C11D1/143 , C11D1/146 , C11D1/342 , C11D1/62 , C11D1/65 , C11D3/06 , C11D3/30 , C11D3/361 , C11D3/3942 , C11D3/3945 , C11D3/3947 , C11D3/48 , A01N33/12
摘要： 本発明は、殺菌洗浄用製剤であって、過酸化水素(0.1〜6%、w/w%)、過酢酸(0.01〜0.6%、w/w%)、第四級アンモニウム化合物(0.01〜2%、w/w%)、界面活性剤(0.01〜1%、w/w%)、塩基(1〜3%、w/w%)、ピロリン酸ナトリウム(0〜1%、w/w%)、および水(90〜96%、w/w%)を含む、殺菌洗浄用製剤に関する。この殺菌洗浄用製剤のpHは7.0〜9.9である。本発明の利点として、毒性が低いこと、腐食性が低いこと、刺激臭が微小であること、ならびに、細菌、ウイルス、および胞子を迅速に死滅させることができる、広域スペクトラム殺菌洗浄剤であること、が挙げられる。
摘要翻译： 本发明提供了一种杀菌清洗制剂，过氧化氢（0.1〜6％，重量/重量％），过乙酸（0.01〜0.6％，W / W％），季铵化合物（0.01至2 ％，w / w的％），表面活性剂（0.01〜1％，W / W％），基站（1〜3％，W / W％），焦磷酸钠（0〜1％，W / w％）的 和水（90〜96％，W / W％），其包括，在杀菌清洁配制剂。 杀菌清洁制剂的pH是7.0至9.9。 作为本发明的一个优点，即它是毒性较低，这是较少的腐蚀性，它的刺激性气味非常小，并且，细菌，病毒，和孢子可以迅速杀死广谱杀菌洗涤剂 ，等等。
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9.发明专利Water-repellent protection film and chemical solution for protection film formation 审中-公开水保护膜和化学溶液用于保护膜形成
公开(公告)号：JP2014039014A
公开(公告)日：2014-02-27
申请号：JP2013117775
申请日：2013-06-04
申请人： Central Glass Co Ltd , セントラル硝子株式会社
发明人： SAIO TAKASHI , KUMON SOICHI , SAITO MASANORI , ARATA SHINOBU
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/02068 , C09D5/1662 , C09D5/1681 , C09K3/18 , C11D1/006 , C11D1/342 , C11D3/361 , C11D3/368 , C11D3/43 , C11D7/36 , C11D11/0047 , H01L21/02057
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the pattern collapse in a cleaning step of a metal-based wafer with concave and convex patterns formed on a surface thereof.SOLUTION: A chemical solution comprises a water-repellent protection-film-forming agent expressed by the following general formula [1]. The chemical solution is used in a surface treatment before a drying step after a cleaning step of a metal-based wafer. (In the formula [1], Ris a monovalent hydrocarbon group with 1-18 carbon atoms in which a fluorine element may be partially or totally substituted for a hydrogen element; Ris a monovalent organic group including a hydrocarbon group with 1-18 carbon atoms in which a fluorine element may be partially or totally substituted for a hydrogen element in a mutual independent manner; and "a" is an integer of 0-2.)
摘要翻译： 要解决的问题：为了防止在其表面上形成有凹凸图案的金属基晶片的清洁步骤中的图案塌陷。解决方案：化学溶液包含由...表示的防水保护膜形成剂 按照通式[1]。 该化学溶液在金属基晶片的清洗步骤之前的干燥步骤之前用于表面处理。 （式[1]中，R为具有1-18个碳原子的一价烃基，其中氟元素可部分或全部被氢元素取代; R为含有1-18个碳原子的烃基的单价有机基团 其中氟元素可以以相互独立的方式部分或全部取代氢元素;并且“a”是0-2的整数。）
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公开(公告)号：JPWO2007116586A1
公开(公告)日：2009-08-20
申请号：JP2008509698
申请日：2007-04-06
申请人： 花王株式会社
IPC分类号： C11D1/34 , A61K8/33 , A61K8/45 , A61K8/46 , A61K8/55 , A61Q19/10 , C11D1/29 , C11D1/68 , C11D1/72
CPC分类号： C11D1/83 , A61K8/463 , A61K8/556 , A61K8/86 , A61K2800/596 , A61Q19/10 , C11D1/29 , C11D1/342 , C11D1/722
摘要： 皮膚等に対する刺激が少なく、起泡性に優れ、泡質がクリーミーで、かつすすぎ性が良好な洗浄剤組成物を提供する。次の成分(A)、(B)及び(C)(A) (a1)一般式(1)で表されるリン酸モノエステル系界面活性剤と(a2)一般式(2)で表されるリン酸ジエステル系界面活性剤との混合物であって、その含有比率が重量比で(a1)/(a2)=90/10〜50/50であるリン酸エステル系界面活性剤:(B)一般式(3)で表される硫酸エステル系界面活性剤;(C)(C−1)炭素数6〜12の直鎖もしくは分岐鎖のアルキル基もしくはアルケニル基を有する1種以上のグリセリルエーテル、及び(C−2)一般式(4)で表される化合物から選ばれる1種以上;を含有する洗浄剤組成物。
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