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公开(公告)号：JP2018522981A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：JP2018500491
申请日：2016-07-05
IPC分类号： C11D17/04 , C11D3/43 , C11D1/83 , C11D3/40 , C11D3/37 , C11D17/06 , C11D17/08 , D06F35/00 , C11D1/72
CPC分类号： C11D17/042 , C11D1/72 , C11D1/721 , C11D1/825 , C11D3/40 , C11D3/42 , C11D3/43 , C11D17/043
摘要： 本発明は、水溶性フィルム及び洗濯処理組成物を含む、水溶性単位用量物品であって、洗濯処理組成物が、 a.組成物の0.0001重量%〜8重量%の非界面活性剤有効成分と、 b.組成物の40重量%〜80重量%のアルコキシル化アルキル界面活性剤の系を含む、水溶性単位用量物品に関する。
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公开(公告)号：JP2017186575A
公开(公告)日：2017-10-12
申请号：JP2017132963
申请日：2017-07-06
发明人： ロバート・クラスナンスキー , セヴェリン・フェリュークス , バートランド・アミュークス , ジャン・エドワード・シャルマン , エリック・ワッサーマン
IPC分类号： C11D1/722 , C11D3/04 , C08F20/68 , C08F20/10 , C08L71/02 , C08L33/04 , C08L33/02 , C08K5/51 , C11D3/37
CPC分类号： C11D3/3769 , C11D1/66 , C11D1/72 , C11D1/825 , C11D1/8255 , C11D3/08 , C11D3/10 , C11D3/33 , C11D3/3757 , C11D1/721 , C11D1/722
摘要： 【課題】良好な食器洗浄用洗剤を提供すること。 【解決手段】ビルダーと、界面活性剤と、モノエチレン性不飽和C3〜C6カルボン酸単位、及び(メタ)アクリル酸C1〜C12アルキル単位を含む第1のポリマーと、モノエチレン性不飽和C3〜C6カルボン酸単位を含む第2のポリマーを含む分散剤と、を含む、食器洗浄用洗剤。 【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017503051A
公开(公告)日：2017-01-26
申请号：JP2016540977
申请日：2014-11-21
申请人： ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company , ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company , ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー , ユニオン カーバイド ケミカルズ アンド プラスティックス テクノロジー エルエルシー
发明人： ロバート・クラスナンスキー , セヴェリン・フェリュークス , バートランド・アミュークス , ジャン・エドワード・シャルマン , エリック・ワッサーマン
CPC分类号： C11D3/3769 , C11D1/66 , C11D1/72 , C11D1/721 , C11D1/722 , C11D1/825 , C11D1/8255 , C11D3/08 , C11D3/10 , C11D3/33 , C11D3/3757
摘要： ビルダーと、界面活性剤と、モノエチレン性不飽和C3−C6カルボン酸単位、及びC1−C12アルキル(メタ)アクリル酸塩単位を含む第1のポリマーと、モノエチレン性不飽和C3−C6カルボン酸単位を含む第2のポリマーを含む分散剤と、を含む、食器洗浄用洗剤。
摘要翻译： 助洗剂和，表面活性剂，单烯不饱和C3-C6羧酸单元和包含C 1 -C 12烷基（甲基）丙烯酸酯单元的第一聚合物，单烯不饱和C3-C6羧酸 含有包括容纳单元的第二聚合物，餐具洗涤剂分散剂。
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4.发明专利
公开(公告)号：JP6060174B2
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：JP2014545134
申请日：2012-12-06
发明人： コールス・カルステン , ヌネス・ジョージ・イタロ・ピトンベイラ
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公开(公告)号：JP5559707B2
公开(公告)日：2014-07-23
申请号：JP2010550303
申请日：2009-03-06
发明人： スー ディル ペニー , ケース コリーヌ , アン ペリー キャスリーン , ゲイル ベグレイ パマラ
CPC分类号： C11D3/386 , A47L15/0002 , A47L15/0007 , A47L2601/00 , C11D1/721 , C11D3/0036 , C11D3/378 , C11D3/38618 , C11D3/38627 , C11D3/3942 , C11D3/3953 , C11D11/0023 , C11D17/0039 , C11D17/0091 , C11D17/043 , C11D17/044 , C11D17/045 , C12N9/2414 , C12N9/2417 , C12Y302/01001
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6.发明专利
公开(公告)号：JP4795431B2
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：JP2008514904
申请日：2006-06-02
发明人： カレル、クレイス , フランク、フルスコッター , モハメド、ズバー , ユゴー、ジャン、マリー、デメイェール
IPC分类号： D06M13/463 , D06M13/144 , D06M13/17
CPC分类号： C11D1/721 , C11D1/62 , C11D1/722 , C11D1/835 , C11D3/0015 , C11D3/2003 , C11D3/2048
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公开(公告)号：JP2010506720A
公开(公告)日：2010-03-04
申请号：JP2009533327
申请日：2007-10-15
发明人： アナ・マリア・フェルナンデス , マイケル・アレン , リチャード・クルーズ
CPC分类号： B01F17/0092 , C08F2/24 , C11D1/72 , C11D1/721 , C11D1/8255
摘要： 一般式（ＩＩＩ）：Ｒ
１ −Ｏ−［ＣＨ
２ −ＣＨ
２ Ｏ］
ｎ −Ｈ、および一般式（ＩＶ）：
で示される化合物を含む界面活性剤濃縮物を提供する。 水中で該界面活性剤濃縮物を含む液体界面活性剤組成物も提供する。 界面活性剤濃縮物、および一般式（Ｖ）：Ｒ
１ −Ｏ−［ＣＨ
２ −ＣＨ
２ Ｏ］
ｎ −Ａ、および一般式（ＶＩ）：
を含む液体界面活性剤組成物も提供する。 エマルションポリマーまたはポリマー分散液を安定化するため、および乳化重合反応またはポリマー分散液に添加して、重合反応を実施するための方法も提供する。-
公开(公告)号：JP2008534652A
公开(公告)日：2008-08-28
申请号：JP2008504763
申请日：2006-04-05
发明人： ハイデマン トーマス , トリラー ミヒャエル , レーパー ミヒャエル , シュテファン ユルゲン , トロープシュ ユルゲン
CPC分类号： C07C41/06 , C07C43/135 , C08G65/329 , C11D1/72 , C11D1/721 , C11D3/3707 , Y02P20/582
摘要： The present invention relates to a process for preparing polyol alkyl ethers by reacting compounds comprising at least three hydroxyl functionalities with olefins in the presence of acidic catalysts at temperatures of from 20 to 250° C. and pressures of from 0.5 to 10 bar, wherein the olefins correspond to the general formula (I) in which R1 is hydrogen and R2 is a linear or branched carbon radical having from 7 to 28 carbon atoms, or R1 and R2 are each linear or branched carbon radicals having from 1 to 27 carbon atoms, the sum of the carbon number of R1 and R2 being at most 28, to polyol alkyl ethers derived from compounds having at least three hydroxyl functionalities, not more than all but one hydroxyl functionality being replaced by a moiety of the general formula (VIII) to the use of these polyol alkyl ethers as surfactants and to laundry detergents and cleaning compositions comprising these polyol alkyl ethers.
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10.发明专利Cleaning liquid of integrated circuit device, and cleaning method using cleaning liquid 审中-公开集成电路装置的清洗液和清洁液的清洗方法
公开(公告)号：JP2005142559A
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：JP2004314668
申请日：2004-10-28
发明人： BUN SHOSHO , CHOI SANG-JUN , HONG CHANGKI
IPC分类号： C11D1/72 , C11D3/00 , C11D3/02 , C11D3/04 , C11D3/16 , C11D3/20 , C11D3/30 , C11D3/34 , C11D11/00 , C11D17/08 , C23G1/18 , H01L21/304
CPC分类号： C11D3/0026 , C11D1/721 , C11D3/0073 , C11D3/044 , C11D3/164 , C11D3/30 , C11D3/3427 , C11D11/0047
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a cleaning liquid of an integrated circuit device formed on a wafer which shall be cleaned, and a cleaning method using the cleaning liquid.
SOLUTION: The cleaning liquid cleans an integrated circuit device which comprises a low cellularity detergent, metal corrosion inhibitor, acid pH modifier or alkaline pH modifier, and water. When a metal substance like tungsten is introduced into a manufacturing process of gate line, the cleaning liquid relating to this invention can be employed in a cleaning process for removing particles which is executed after forming gate line pattern thereby.
COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI摘要翻译： 要解决的问题：提供形成在待清洁的晶片上的集成电路器件的清洗液和使用该清洗液的清洗方法。 解决方案：清洗液清洗包含低细胞洗涤剂，金属腐蚀抑制剂，酸性pH调节剂或碱性pH调节剂和水的集成电路装置。 当将诸如钨的金属物质引入栅极线的制造过程中时，与本发明有关的清洗液体可以用于清除在形成栅线图案之后执行的颗粒的清洁工艺。 版权所有（C）2005，JPO＆NCIPI
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