公开(公告)号：JPWO2017119244A1

公开(公告)日：2018-10-25

申请号：JP2016087088

申请日：2016-12-13

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： 高橋 智美 ,  高橋 智威 ,  清水 哲也 ,  吉井 朗子 ,  室 祐継

IPC分类号： C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D17/08 ,  C11D7/32 ,  H01L21/304

CPC分类号： C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/26 ,  C11D7/32 ,  C11D7/50 ,  C11D17/08 ,  H01L21/304

摘要： 本発明は、優れた残渣物除去性能、および、金属膜への優れた防食性能を有する半導体デバイス用の処理液、並びに、基板の洗浄方法、半導体デバイスの製造方法を提供する。 本発明の処理液は、半導体デバイス用の処理液であって、フッ化水素酸、および、金属イオンを含まない塩基とフッ化水素酸との塩からなる群から選択される少なくとも1種と、アルカリ化合物と、水と、を含有し、光散乱式液中粒子計数器によって計数される、0.05μm以上のサイズの被計数体の数が、処理液1mlあたり1〜2000個である。

公开(公告)号：JP2018164091A

公开(公告)日：2018-10-18

申请号：JP2018098635

申请日：2018-05-23

申请人： バーサム マテリアルズ ユーエス,リミティド ライアビリティ カンパニー

发明人： リ イ−チア ,  マドゥカー バスカラ ラオ ,  ガウタム バナジー ,  リウ ウェン ダー ,  アイピン ウ ,  稲岡 誠二

IPC分类号： C11D7/50 ,  C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/28 ,  C11D7/10 ,  H01L21/304

CPC分类号： H01L21/02052 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

摘要： 【課題】パターニングされたマイクロエレクトロニクス・デバイスからエッチング後及び/又はアッシュ後の銅含有残留物を除去するための組成物及び方法を提供する。 【解決手段】除去用組成物は、水と、水混和性有機溶媒と、アミン化合物と、有機酸と、フッ化物イオン供給源を含む。当該組成物は、露出した低k誘電材料と金属相互接続材料にダメージを与えることなく、マイクロエレクトロニクス・デバイスからエッチング後銅含有残留物を有効に除去する。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP2018525535A

公开(公告)日：2018-09-06

申请号：JP2018528093

申请日：2016-08-19

申请人： ベラテルム アーゲー ,  BERATHERM AG

发明人： ポール、アレクサンダー ,  ブルムホーファー、ギュンター ロルフ ,  ゲーベル、ミヒャエル ヒューゴ

IPC分类号： C11D17/08 ,  C11D7/04 ,  C11D7/26 ,  C23G1/08

CPC分类号： C23G1/088 ,  C11D7/06 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D11/0029 ,  C23G1/02

摘要： 媒体と接触したステンレス鋼表面上のルージュ沈着物を除去するための、第1成分及び第2成分を含む水性洗浄液。第1成分はアルカリ金属亜硫酸塩であり、第2成分はアルカリ金属ギ酸塩であり、その濃度は、ギ酸塩が亜硫酸塩に対し1.5〜4.2のモル比で存在し、洗浄液のpH値が4.0〜4.8となるように調整される。この水性洗浄液を調製するためには、まず最初にアルカリ金属水酸化物の水溶液を準備し、その後、pH値が3.5〜4.5に定まるように過剰の第1量の濃水性ギ酸を混合し、次いで、確立すべき亜硫酸塩濃度に応じて第2量の固体アルカリ金属亜硫酸塩を混合し、その結果としてpH値を5.5〜6.5とし、最後に、第3量の濃水性ギ酸をpH値が4.0〜4.8に到達するまで混合する。

公开(公告)号：JP2018138655A

公开(公告)日：2018-09-06

申请号：JP2018062478

申请日：2018-03-28

申请人： ザ プロクター アンド ギャンブル カンパニー ,  インダストリアル ケミカルズ グループ リミテッド

发明人： ニーゲル パトリック サマービル ロバーツ ,  クリストファー デービッド ヒューズ ,  ロバート イアン ダイソン ,  ポール ジュークス

IPC分类号： C11D3/08 ,  C11D3/10 ,  C11D3/04 ,  C11D3/20 ,  C11D3/33

CPC分类号： C11D17/0039 ,  C11D3/046 ,  C11D3/33 ,  C11D7/10 ,  C11D7/3245

摘要： 【課題】保管中、移送中、製造中にその物理的構造を維持し且つ安定させると同時に、無リン酸塩洗剤中でさえも洗剤組成物内で安定であり且つその外観を維持する粒子の製造方法を提供する。 【解決手段】自動食器洗剤組成物用のコアシェル構造を有する粒子を製造する方法であって、a)メチルグリシン二酢酸及びその塩から選択されるアミノカルボン酸系ビルダーを含有する溶液を提供する工程と、b)前記溶液を乾燥させて中間粒子を製造する工程と、c)任意に、前記中間粒子を乾燥させる工程と、d)前記中間粒子を水溶性無機塩でコーティングしてコアシェル粒子を製造する工程と、を含む。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018005208A

公开(公告)日：2018-01-11

申请号：JP2016178729

申请日：2016-09-13

申请人： ペガヴィジョン コーポレーション ,  PEGAVISION CORPORATION

发明人： ハン−イー・チャン ,  ヤー−スァン・リャオ ,  スウ−チェン・ルウ ,  ヤー−フイ・チャン ,  ユウ−チン・ライ

IPC分类号： G02C13/00

CPC分类号： A61L12/14 ,  A61K9/0048 ,  A61K9/08 ,  A61K47/32 ,  C08F130/02 ,  C11D3/0078 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D3/168 ,  C11D3/365 ,  C11D3/3784 ,  C11D7/10

摘要： 【課題】コンタクトレンズ処理用の溶液を提供する。 【解決手段】数平均分子量が約4,000〜約1,000,000ダルトン(Dalton)であり、且つ式(I)の構造を有し、ホスホリルコリン(phosphorylcholine)基を有する約0.01〜1.0重量部のポリマーと、約0.01〜1重量部の無機塩と、約100重量部の水と、を含むコンタクトレンズ処理用の溶液。(式(I)において、mは正整数であり、nは0又は正整数であり、RはC 2 〜C 12 アルキル基又はC 2 〜C 12 ヒドロキシアルキル基であり、nが正整数である場合、m/nは1より大きい。) 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2017533091A

公开(公告)日：2017-11-09

申请号：JP2017519510

申请日：2015-10-16

申请人： ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー ,  ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company ,  ローム アンド ハース カンパニーRohm And Haas Company

发明人： パトリック・イー・ブルット ,  アフア・サーポン・カリカリ ,  ウィリアム・シー・マイルズ ,  クリストファー・ジェイ・タッカー

IPC分类号： B01D19/04

CPC分类号： C10M145/14 ,  B01D19/0404 ,  B01D19/0409 ,  C08L23/0876 ,  C08L2205/03 ,  C10M125/18 ,  C10M155/02 ,  C10M173/00 ,  C10M2201/081 ,  C10M2209/084 ,  C10M2229/047 ,  C10N2220/021 ,  C10N2230/18 ,  C10N2240/40 ,  C11D3/0026 ,  C11D3/046 ,  C11D3/06 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/3409 ,  C11D3/361 ,  C11D3/362 ,  C11D3/3707 ,  C11D3/373 ,  C11D3/3765 ,  C11D7/10 ,  C11D7/16 ,  C11D7/265 ,  C11D7/34 ,  C11D7/36

摘要： 少なくとも3つの構成成分を有する安定化消泡組成物。第1の構成成分は、消泡剤である。第2の構成成分は、エチレン−(メタ)アクリル酸コポリマーである。第3の構成成分は、塩である。【選択図】なし

公开(公告)号：JP2016215468A

公开(公告)日：2016-12-22

申请号：JP2015101851

申请日：2015-05-19

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 長岡 恭介

IPC分类号： B41J2/14 ,  B41J2/05 ,  B08B3/08 ,  B41J2/16

CPC分类号： B41J2/1631 ,  B41J2/1603 ,  B41J2/1623 ,  B41J2/1628 ,  B41J2/1629 ,  B41J2/1639 ,  B41J2/1642 ,  B41J2/1645 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/5004 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022

摘要： 【課題】無機物と有機物の密着強度を高めるシランカップリング剤を洗浄工程により端子から除去しても、端子の腐食を抑制できる液体吐出ヘッドの製造方法を提供する。 【解決手段】外部との電気的接続を行う端子を有する基板1と、基板上の無機材料層3と、無機材料層の上に配置され、有機材料を含む流路形成部材8と、を備える液体吐出ヘッドの製造方法であって、端子に付着したシランカップリング剤を、フッ化水素、フッ化アンモニウムおよび水溶性有機溶剤を含む溶液を用いて除去する洗浄工程を有する。 【選択図】図2

摘要翻译： 阿由无机材料和清洗处理的硅烷偶联剂以改善的有机质粘合强度的终端移除，以用于制造液体排出头能够抑制端子的腐蚀的方法。 包括具有用于电以外的无机材料层3的基板上连接A，终端基板1，设置在无机材料层，包括有机材料的流路形成部件8，上 一种制造喷液头，其具有连接到所述终端，氟化氢，使用含有氟化铵和水溶性有机溶剂的溶液中除去的清洗工序的硅烷偶联剂的方法。 .The

公开(公告)号：JP6005135B2

公开(公告)日：2016-10-12

申请号：JP2014506592

申请日：2012-04-20

申请人： リバートツプ・リニユーアブルズ・インコーポレイテツド

发明人： スミス,タイラー・エヌ ,  シヤーリー・リチヤード

IPC分类号： C11D7/26 ,  C11D7/04 ,  C09K3/00

CPC分类号： C11D3/2086 ,  C11D3/046 ,  C11D3/2075 ,  C11D3/2079 ,  C11D3/2082 ,  C11D7/10 ,  C11D7/22 ,  C11D7/265

公开(公告)号：JP2016040382A

公开(公告)日：2016-03-24

申请号：JP2015237884

申请日：2015-12-04

申请人： エア プロダクツ アンド ケミカルズ インコーポレイテッド ,  AIR PRODUCTS AND CHEMICALS INCORPORATED

发明人： リ イ−チア ,  マドゥカー バスカラ ラオ ,  ガウタム バナジー ,  リウ ウェン ダー ,  アイピン ウ ,  稲岡 誠二

IPC分类号： C11D7/32 ,  C11D7/26 ,  C11D7/04 ,  H01L21/304 ,  C11D7/50

CPC分类号： H01L21/02052 ,  C11D7/10 ,  C11D7/265 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/3218 ,  C11D7/3281 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  G03F7/425 ,  G03F7/426

摘要： 【課題】パターニングされたマイクロエレクトロニクス・デバイスからエッチング後及び/又はアッシュ後の銅含有残留物を除去するための組成物及び方法を提供する。 【解決手段】除去用組成物は、水と、水混和性有機溶媒と、アミン化合物と、有機酸と、フッ化物イオン供給源を含む。当該組成物は、露出した低k誘電材料と金属相互接続材料にダメージを与えることなく、マイクロエレクトロニクス・デバイスからエッチング後銅含有残留物を有効に除去する。 【選択図】図1

摘要翻译： 要解决的问题：提供从图案化的微电子器件中去除含铜的后蚀刻和/或后灰渣残留物的组合物和方法。解决方案：除去组合物包括水，水混溶性有机溶剂，胺化合物， 有机酸和氟离子源。 该组合物有效地从微电子器件中除去含铜的蚀刻后残留物，而不损害暴露的低k电介质和金属互连材料。选择图：图1

公开(公告)号：JP2015527183A

公开(公告)日：2015-09-17

申请号：JP2015517691

申请日：2013-06-13

申请人： ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG ,  ワッカー ケミー アクチエンゲゼルシャフトWacker Chemie AG

发明人： マルクス、メルゲト ,  リヒャルト、ベッカー

IPC分类号： B01D19/04 ,  C08K3/00 ,  C08L83/08 ,  C11D3/37 ,  C11D17/06

CPC分类号： B01D19/0413 ,  B01D19/0404 ,  B01D19/0409 ,  C11D3/0026 ,  C11D3/046 ,  C11D3/08 ,  C11D3/10 ,  C11D3/128 ,  C11D3/3742 ,  C11D7/10 ,  C11D7/12 ,  C11D7/14

摘要： 消泡剤及び洗剤におけるその使用(1)5〜35重量%の、アミノ−官能性オルガノポリシロキサンであり、少なくとも1個の一般式のシロキサン単位及び一般式のシロキサン単位からなる消泡剤と(式中、R1は、同一であるか、又は異なっており、水素原子、一価の、所望によりフッ素、塩素又は臭素で置換されたC1〜C18−ヒドロカルビルラジカル又はC1〜C12−アルコキシラジカル又はヒドロキシルラジカル、好ましくはC1〜C18−ヒドロカルビルラジカル又はC1〜C3−アルコキシラジカル又はヒドロキシルラジカルであり、Qは、一般式のアミノラジカルであるか、又はその、窒素原子上で部分的又は完全にプロトン化した形態であり、式中、R2は、二価のC1〜C18−ヒドロカルビルラジカルであり、R3、R4及びR5は、それぞれ独立して、水素原子又はC1〜C10−アルキルラジカルであり、aは、0、1又は2、bは、1、2又は3、cは、0、1、2又は3であり、mは、2、3又は4であり、xは、0、1又は2であり、a+bの合計は、≦̸3であり)、(2)65〜95%重量の、炭酸ナトリウム、硫酸ナトリウム、ケイ酸アルミニウム、炭酸カリウム、硫酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム及びゼオライト、及びそれらの混合物の群から選択された担体材料とを含む、消泡作用が遅延された、新規な消泡粉体、及び洗剤における使用を記載する。