酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法、ITOターゲットの製造方法及び水酸化インジウム−メタ錫酸混合物の製造方法
    9.
    发明专利
    酸化インジウム−酸化錫粉末の製造方法、ITOターゲットの製造方法及び水酸化インジウム−メタ錫酸混合物の製造方法 有权
    氧化铟 - 一种制造氧化锡粉末的方法,所述ITO靶制备和氢氧化铟 - 偏锡酸的混合物的制造方法

    公开(公告)号:JPWO2014112198A1

    公开(公告)日:2017-01-19

    申请号:JP2014557339

    申请日:2013-11-18

    摘要: 還元炉内で、インジウム及び錫を含有するITOターゲットスクラップを還元ガスで還元し、ITO中の金属成分の組成比を維持したまま、ITOターゲットの原料となるインジウム−錫合金を回収する方法。ITOスパッタリングターゲットの製造時又は使用後に発生する高純度酸化インジウム−錫含有スクラップからインジウム−錫合金を回収すると共に、これを酸化インジウム−酸化錫粉とし、さらにこの酸化インジウム−酸化錫粉を原料としてITOターゲットを製造する技術を提供する。すなわち、スクラップをそのまま合金に還元し、得られた合金の組成を維持したままITO製造に使用し、これにより製造工程での組成の制御及び調整を簡素化する。また、インジウム−錫のリサイクルを酸化物の還元だけとする事で工程を簡素化し、従来法に比べて製造コストを削減することができる。さらに、副生成物を水だけとすることができるので、有害な物質の取り扱い、発生を抑制し、以って環境への負荷を低減させることができる。【選択図】図3

    摘要翻译: 用于回收锡合金过程 - 还原炉,将含有铟和锡的ITO靶废料与还原气体还原,在保持在ITO的金属成分的相对比例,铟作为ITO靶材料。 废料铟含锡 - - 制造后或使用高纯度的铟的ITO溅射靶的过程中发生的与锡合金的恢复,氧化铟 - 氧化锡粉末,其进一步的氧化铟 - 锡氧化物粉末作为原料 用于制造ITO靶的技术。 即,减少了对合金废料,使用ITO制造,同时保持所得到的合金的成分,从而简化制造过程中的组合物的控制和调整。 此外,铟 - 锡再循环通过仅为氧化物的还原简化工序,所以能够与传统方法相比,减少了制造成本。 此外,副产品可以是唯一的水,处理有害物质,抑制发生,有可能减少对环境有什么比负载。 点域