公开(公告)号：JP6340014B2

公开(公告)日：2018-06-06

申请号：JP2015553046

申请日：2014-01-08

Applicant: フェデラル−モーグル ブルシェイド ゲーエムベーハー ,  FEDERAL−MOGUL BURSCHEID GMBH

Inventor： イヴァノヴ,ユーリー ,  ケネディ,マルクス ,  ラマーズ,ラルフ ,  ツィナボルト,ミヒャエル

IPC: F16C33/10 ,  F16J9/26

CPC classification number: F16J9/26 ,  C23C28/32 ,  C23C28/341 ,  C23C28/343 ,  C23C28/347

公开(公告)号：JP6337086B2

公开(公告)日：2018-06-06

申请号：JP2016504750

申请日：2014-03-26

Applicant: ハーダイド ピーエルシー

Inventor： ジューク,ユリ ,  ラコトキン,ユリ

IPC: C04B41/88 ,  C30B29/04 ,  C04B41/89

CPC classification number: B24D3/06 ,  B24D18/0072 ,  C04B41/009 ,  C04B41/5133 ,  C04B41/52 ,  C04B41/90 ,  C09K3/1445 ,  C23C12/02 ,  C23C16/0272 ,  C23C16/14 ,  C23C16/30 ,  C23C24/085 ,  C23C28/027 ,  C23C28/324 ,  C23C28/341 ,  C23C28/347 ,  C23C28/36 ,  C23C28/42 ,  C04B35/52 ,  C04B41/4545 ,  C04B41/4556 ,  C04B41/5057 ,  C04B41/4531 ,  C04B41/522

公开(公告)号：JP6110852B2

公开(公告)日：2017-04-05

申请号：JP2014523824

申请日：2013-07-08

Applicant: トーカロ株式会社 ,  東洋炭素株式会社

Inventor： 高畠 剛 ,  大井手 雄平 ,  折島 毅 ,  泉宮 正樹 ,  多田 良臣

IPC: C04B41/85 ,  C04B41/89 ,  C21D9/56 ,  C21D1/00 ,  C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C4/18 ,  C04B41/87

CPC classification number: C04B41/90 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C21D1/06 ,  C21D1/18 ,  C23C28/322 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345 ,  C23C4/02 ,  C23C4/08 ,  C23C4/134 ,  C21D1/08 ,  C21D2251/00 ,  C21D9/38 ,  C22C19/05 ,  C22C27/06

公开(公告)号：JPWO2015068776A1

公开(公告)日：2017-03-09

申请号：JP2015546678

申请日：2014-11-06

Applicant: Dowaサーモテック株式会社

Inventor： 元浩 渡辺 ,  元浩 渡辺 ,  松岡　宏之 ,  宏之 松岡 ,  渉 榊原 ,  渉 榊原 ,  惣一郎 野上 ,  惣一郎 野上

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/34 ,  C23C16/27

CPC classification number: C23C14/22 ,  C23C14/0036 ,  C23C14/024 ,  C23C14/027 ,  C23C14/0635 ,  C23C14/165 ,  C23C14/345 ,  C23C16/26 ,  C23C16/50 ,  C23C28/322 ,  C23C28/341 ,  C23C28/343

Abstract: 基材とDLC膜との間に形成される中間層をPVD法を用いて形成する中間層形成方法において、基材上にTi層を成膜するTi層成膜工程と、Ti層上にTiC層を成膜するTiC層成膜工程とを有し、Ti層成膜工程では、基材が搬入されるチャンバー内にArガスを供給し、成膜圧力を0.4Pa以上、1Pa以下の範囲内の圧力にしてTi層を成膜し、TiC層成膜工程では、前記チャンバー内にArガスとCH4ガスを供給し、成膜圧力を0.2Pa以上、0.4Pa未満の範囲内の圧力にして、Ti層成膜工程において基材に印加する第1のバイアス電圧よりもバイアス電圧が高く、かつ、−100Vよりバイアス電圧が高い第2のバイアス電圧を基材に印加してTiC層を成膜する。

公开(公告)号：JP2016536653A

公开(公告)日：2016-11-24

申请号：JP2016550973

申请日：2014-10-21

Applicant: カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー

Inventor： フーベル ペーター ,  フーベル ペーター

IPC: G03F7/20 ,  G02B5/08

CPC classification number: G03F7/702 ,  C23C8/20 ,  C23C28/322 ,  C23C28/341 ,  G02B1/14 ,  G02B5/0816 ,  G02B5/085 ,  G02B5/0891 ,  G02B5/28 ,  G03F7/70316 ,  G03F7/70958 ,  G03F7/70983 ,  G21K1/062 ,  G21K2201/067

Abstract: 本発明はミラー、具体的には、マイクロリソグラフィー投影露光装置用ミラーに関するものである。本発明によるミラーは、光学有効面(10a)と、ミラー基板(11)と、光学有効面(10a)に入射する電磁放射光を反射するための反射層スタック(12)とを有し、金属拡散障壁層(13)は、反射層スタック(12)の面のうち光学有効面(10a)側の面の上に配置され、安定化層(14)は、前記拡散障壁層(13)の面のうち前記光学有効面(10a)側の面の上に配置され、電磁放射光で前記光学有効面(10a)を照射すると、前記安定化層は、前記安定化層(14)のない類似する構造に比べて、前記拡散障壁層(13)の変形を軽減し、前記安定化層(14)は多孔性であり、幾何学密度と真密度との比で定義される安定化層(14)の相対密度は80%以下である。【選択図】図1

Abstract translation: 本发明是一个反射镜，特别是，涉及一种用于微光刻投射曝光设备的反射镜。 根据本发明的反射镜具有一个光学有效表面和（10A）中，反射镜衬底（11），和用于反射电磁辐射入射到光学有效表面上（10A）的反射层堆叠（12），金属 扩散阻挡层（13）被布置在反射层堆叠（12），所述稳定层（14）的表面的表面的光学有效表面（10A）侧的表面上，所述扩散阻挡层（13） 设置的光学有效表面（10A）侧的表面上，用电磁辐射（10a）的照射光学有效表面时，所述稳定层，没有稳定层相似（14） 的结构相比，扩散阻挡层（13）的降低的变形，稳定层（14）是由几何密度和真密度之比定义的多孔的，稳定层（14） 的80％或更低的相对密度。 点域1

公开(公告)号：JPWO2013145233A1

公开(公告)日：2015-08-03

申请号：JP2014507199

申请日：2012-03-29

Applicant: オーエスジー株式会社

Inventor： 正俊 櫻井 ,  正俊 櫻井 ,  功基 村澤 ,  功基 村澤

IPC: B23B51/00 ,  B23B27/14 ,  B23C5/16 ,  B23D77/00 ,  B23G5/06

CPC classification number: C23C14/0036 ,  C23C14/0057 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/067 ,  C23C14/16 ,  C23C14/3464 ,  C23C28/322 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345 ,  C23C28/347 ,  C23C28/42

Abstract: 優れた耐摩耗性及び耐溶着性を兼ね備えた切削工具用硬質被膜及び硬質被膜被覆切削工具を提供する。Agから成る第1被膜層(24)と、Al1−a−bCraMbの窒化物、酸化物、炭化物、炭窒化物、又は硼化物から成る第2被膜層(26)とが、交互に2層以上積層した多層膜であり、第2被膜層(26)に係るMはSi、V、Wのうち少なくとも1種類を含むものであり、第2被膜層(26)に係る原子比aは0.2以上0.5以下の範囲内、bは0より大きく0.3以下の範囲内であり、第1被膜層(24)と第2被膜層(26)との積層周期d3は0.2nm以上100nm以下の範囲内であり、且つ、総膜厚Dは0.2μm以上10.0μm以下の範囲内であることから、被膜中にAgを含有することで摩擦係数及び切削抵抗を軽減させることができ、潤滑性及び耐溶着性に優れると共に高硬度の被膜が得られる。

Abstract translation: 提供同时具有优异的耐磨性和耐熔敷性的切削工具的硬涂层和硬涂层被覆切削工具。 由Ag制成的第一涂层（24），AL1-A-bCraMb，氧化物，碳化物，碳氮化物，或含有硼化物和（26）的第二被覆层的氮化物，但两个或多个层交替 一个层合多层膜，所述第二涂层（26）中的M个那些含有Si，V，W中的至少一个，所述第二包衣层的原子比一（26）为0.2至0.5 以下的范围内，b在大于0.3小于0的范围内，层压周期D3的第一涂层（24）的第二涂层（26）之间是在0.2nm的以上100nm以下的范围内， 并且，总的膜厚度D是因为它是以下为0.2μm或10.0微米的范围内，因此能够降低摩擦和通过在涂层含有Ag切削力的系数，它具有优异的润滑性和耐熔敷性 涂层的高硬度与获得。

公开(公告)号：JP5430820B2

公开(公告)日：2014-03-05

申请号：JP2006163096

申请日：2006-06-13

Applicant: ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

Inventor： ブライアン・トーマス・ヘイゼル ,  イリーネ・スピッツバーグ

IPC: C04B41/87 ,  C04B41/89 ,  F01D5/28 ,  F02C7/00

CPC classification number: C04B41/89 ,  C04B41/009 ,  C04B41/52 ,  C04B2111/00405 ,  C09D1/00 ,  C09D5/18 ,  C23C28/042 ,  C23C28/048 ,  C23C28/324 ,  C23C28/34 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/36 ,  C04B41/4527 ,  C04B41/5096 ,  C04B41/5024 ,  C04B41/5037 ,  C04B41/5032 ,  C04B41/5042 ,  C04B41/4529 ,  C04B41/522 ,  C04B35/565 ,  C04B35/584 ,  C04B35/806

公开(公告)号：JP2013174013A

公开(公告)日：2013-09-05

申请号：JP2013026141

申请日：2013-02-14

Applicant: General Electric Co ,  ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ

Inventor： NELSON WARREN A ,  LAU YUK-CHIU ,  DIMASCIO PAUL STEPHEN

IPC: C23C4/06 ,  C22C19/05 ,  C22C21/12 ,  C22C38/00 ,  C22C38/60 ,  C23C4/10 ,  F01D5/28 ,  F01D25/00 ,  F02C7/00 ,  F04D29/02 ,  F04D29/38

CPC classification number: C23C28/02 ,  C23C28/021 ,  C23C28/023 ,  C23C28/30 ,  C23C28/32 ,  C23C28/34 ,  C23C28/341 ,  F01D5/286 ,  F01D5/288 ,  F05D2300/132 ,  F05D2300/518 ,  Y10T428/24942 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/31678

Abstract: PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a coated article in which a crack formed at a surface of the coating hardly propagates into a metallic substrate through a brittle coating, thereby improving fatigue life, and to provide a coating application process.SOLUTION: A coated article 100 includes a metallic surface 102, a first layer positioned proximal to the metallic surface and having a first ductility, and a second layer positioned distal from the metallic surface and having a second ductility. The first ductility is at least about 20% greater than the second ductility. A process includes providing an article including the metallic surface, applying the first layer proximal to the metallic surface having the first ductility, and applying the second layer distal from the metallic surface having the second ductility.

Abstract translation: 要解决的问题：提供一种涂层制品，其中形成在涂层表面的裂纹通过脆性涂层几乎不会传播到金属基底中，从而提高疲劳寿命，并提供涂布施加方法。 100包括金属表面102，位于金属表面附近并具有第一延展性的第一层，以及远离金属表面定位且具有第二延展性的第二层。 第一延展性比第二延展性至少大约20％。 一种方法包括提供包括金属表面的物品，将第一层施加在具有第一延展性的金属表面附近，以及将具有第二延展性的金属表面远离第二层。

公开(公告)号：JP5281578B2

公开(公告)日：2013-09-04

申请号：JP2009533187

申请日：2008-09-18

Applicant: シチズンホールディングス株式会社

Inventor： 佐藤　　惇司 ,  義継 渋谷 ,  万貴 早川 ,  龍太 小池

IPC: C23C28/00

CPC classification number: C22C5/02 ,  A44C27/006 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/341 ,  C23C28/3455 ,  C23C28/42 ,  Y10T156/1002 ,  Y10T428/26 ,  Y10T428/31678

Abstract: [Subject] In a decorative part having a pink Au alloy hard coating film, the sophisticated pink aesthetic appearance thereof can be maintained for long time use by making the decorative part that flaws or peelings are hardly visible even if flaws are caused in the coating film or the coating film is peeled off. [Means for solving Subject] The decorative part comprises a hardening layer having a pink Au alloy coating film on the surface wherein the hardening layer is obtainable by laminating a base layer, a primary layer and a finishing layer from the side of a substrate, the base layer comprises a metal layer comprising one metal or two or more metals selected from Hf, Ti and Zr and, superimposed thereon, a compound layer comprising the same metal constituting the metal layer and further comprising nitrogen, carbon or oxygen, the primary layer has a laminating structure such that an Au alloy layer, and a compound layer comprising one metal or two or more metals selected from Hf, Ti and Zr and further comprising nitrogen, carbon or oxygen are laminated one after the other, and the finishing layer comprises an Au alloy layer.

公开(公告)号：JP2012518281A

公开(公告)日：2012-08-09

申请号：JP2011550317

申请日：2010-02-16

Applicant: ウッドラフ、ジェイコブWOODRUFF,Jacob ,  セイガー、ブライアン エム.SAGER,Brian M. ,  ファン デューレン、イェルーン カー.イェー.VAN DUREN Jeroen K.J. ,  ロビンソン、マシュー アール.ROBINSON,Matthew R.

Inventor： ウッドラフ、ジェイコブ ,  エム． セイガー、ブライアン ,  デューレン、イェルーン カー．イェー． ファン ,  アール． ロビンソン、マシュー

IPC: H01L31/04

CPC classification number: H01L31/0322 ,  C23C18/08 ,  C23C18/1204 ,  C23C18/127 ,  C23C18/1279 ,  C23C18/1283 ,  C23C18/1295 ,  C23C28/021 ,  C23C28/023 ,  C23C28/321 ,  C23C28/322 ,  C23C28/34 ,  C23C28/341 ,  C23C28/345 ,  C23C28/36 ,  H01L21/02425 ,  H01L21/02568 ,  H01L21/02601 ,  H01L21/02614 ,  H01L21/02628 ,  H01L31/1864 ,  Y02E10/541 ,  Y02P70/521

Abstract: Methods and devices are provided for forming an absorber layer. In one embodiment, a method is provided comprising of depositing a solution on a substrate to form a precursor layer. The solution comprises of at least one equilibrium and/or near equilibrium material. The precursor layer is processed in one or more steps to form a photovoltaic absorber layer. In one embodiment, the absorber layer may be created by processing the precursor layer into a solid film and then thermally reacting the solid film in an atmosphere containing at least an element of Group VIA of the Periodic Table to form the photovoltaic absorber layer. Optionally, the absorber layer may be processed by thermal reaction of the precursor layer in an atmosphere containing at least an element of Group VIA of the Periodic Table to form the photovoltaic absorber layer.