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公开(公告)号：KR20210031664A
公开(公告)日：2021-03-22
申请号：KR1020210030751A
申请日：2021-03-09
申请人： 주식회사 에스앤에스텍
IPC分类号： G03F1/62
CPC分类号： G03F1/62
摘要： 극자외선 리소그래피용 펠리클이 개시된다. 펠리클은 펠리클층 및 지지층을 구비하며, 펠리클층의 가장자리 영역은 그 판면이 1회 이상 굴곡되어 형성된 주름부로 형성된다. 펠리클층에 일시적 또는 지속적인 변형력이 가해지더라도 펠리클층의 신장 및 원상 수축에 의해 외력이 흡수된다. 따라서 펠리클층의 판면에 손상이나 처짐이 발생하지 않게 된다.
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公开(公告)号：JP2018536186A
公开(公告)日：2018-12-06
申请号：JP2018519686
申请日：2016-10-25
CPC分类号： G03F7/70983 , B82Y40/00 , G03F1/24 , G03F1/62 , G03F1/64 , G03F7/70916 , G03F7/70958 , G21K2201/067
摘要： EUVリソグラフィ用の膜アセンブリ(80)を製造するための方法。この方法は、支持基板(41)と取付基板(51)との間に膜層(45)を備えるスタック(40)を提供することであって、支持基板は内側領域及び第1の境界領域を備える、ことと、支持基板の内側領域を選択的に除去することを含めてスタックを処理して膜アセンブリを形成することであって、膜アセンブリは、少なくとも膜層から形成された膜(45)と、膜を保持する支持体(81)であって、少なくとも部分的に支持基板の第1の境界領域から形成された支持体と、を備えることと、を含む。取付基板はスタックの残り部分に接合することができる。 【選択図】図8
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公开(公告)号：JP2018151622A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2018030792
申请日：2018-02-23
发明人： ナム,キ−ス , イ,チャン−フン , ホン,ジュ−ヒ , パク,チョル−キュン
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/70983
摘要： 【課題】 極紫外線用露光光に対する透過率と機械的強度に優れた極紫外線フォトマスク用ペリクル及びその製造方法を提供する。 【解決手段】 ペリクルは、支持層パターン、支持層パターンの上部に形成された埋め込み酸化層パターン、及び埋め込み酸化層パターンによって支持されて設けられたペリクル層を有する。ペリクルは、ペリクル層の機械的強度を補強する補強層、補強層に対して機械的強度を追加的に補完する補助層、ペリクル層の熱を放出する熱放出層をさらに有することができる。 【選択図】 図1A
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公开(公告)号：JP6382298B2
公开(公告)日：2018-08-29
申请号：JP2016504544
申请日：2014-03-04
发明人： ワイリー、ジェームス、ノーマン , スカッカバロッツィ、ルイージ , ブラウンス、デルク、セルバティウス、ゲートルーダ , アリアス エスピノサ、フアン ディエゴ , デ ウィンター、ローレンティウス、コーネリウス , ダルウィン、フローリアン、ディディエ、アルビン , リゾ ディアゴ、ペドロ、フリアン
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F7/70908 , G03F7/70983
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公开(公告)号：JP2018092155A
公开(公告)日：2018-06-14
申请号：JP2017222531
申请日：2017-11-20
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/7015 , G03F7/70883
摘要： 【課題】フォトマスク用ペリクル、それを含むレチクル、及びリソグラフィ用露光装置を提供する。 【解決手段】フォトマスク用ペリクルP100、それを含むレチクルR100、及びリソグラフィ用露光装置に係り、該フォトマスク用ペリクルP100は、ペリクル膜M100を含み、ペリクル膜M100は、ナノ結晶グラフェンを含み、該ナノ結晶グラフェンは、欠陥を有し、該ナノ結晶グラフェンは、ナノスケールの複数結晶粒を含み、複数の結晶粒は、芳香族環構造を有する二次元炭素構造体を含み、該ナノ結晶グラフェンの欠陥は、sp 3 炭素原子、酸素原子、窒素原子及び炭素空孔のうち少なくとも一つを含んでもよい。 【選択図】図22
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公开(公告)号：JP2018077412A
公开(公告)日：2018-05-17
申请号：JP2016220221
申请日：2016-11-11
申请人： 信越化学工業株式会社
发明人： 簗瀬 優
IPC分类号： G03F1/64 , C01B32/15 , C01B32/18 , C01B32/182 , G03F1/62
CPC分类号： C01B32/184 , B05D1/005 , B05D3/0254 , B05D3/107 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , G03F1/62 , Y10S977/734 , Y10S977/888 , Y10S977/892
摘要： 【課題】 本発明の目的は、グラフェン膜を得るための有効な製造方法及びEUV光に対して高い透過率を示すペリクルの製造方法を提供することである。 【解決手段】 本発明は、基板上に設けられたグラフェンを準備する工程と、グラフェンを保護膜で被覆する工程と、基板をウェットエッチングにより除去する工程と、保護膜をウェットエッチングに用いるウェットエッチング液よりも表面張力の小さな溶剤を用いて溶解除去する工程、を含むことを特徴とするものである。 【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6275064B2
公开(公告)日：2018-02-07
申请号：JP2015023776
申请日：2015-02-10
申请人： 信越化学工業株式会社
IPC分类号： C09J133/00 , C09J11/06 , C09J11/08 , G03F1/62 , B01D19/04 , C09J183/05
CPC分类号： G03F1/64 , C09J133/08 , C09J183/08 , G03F1/62
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公开(公告)号：JPWO2016133054A1
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：JP2017500670
申请日：2016-02-15
申请人： 株式会社ブイ・テクノロジー
IPC分类号： H01L21/673 , G03F1/64
CPC分类号： G03F1/62 , G03F1/66 , H01L21/677
摘要： ペリクルフレーム等に歪みが生じている場合にも、作業者が介在することなくペリクルフレームを把持することができる。所定の間隔で略水平に保持される2本の棒213、214のそれぞれに複数ずつ設けられたペリクル把持部材にそれぞれ設けられた計測部によりペリクル把持部材及びペリクル100の側面に形成された溝の高さを連続して取得する。容器本体11を上方へ移動させ、ペリクル把持部材の高さと溝の高さとが略一致した場合には、ペリクル把持部材を溝に挿入し、ペリクル把持部材が溝に挿入されたら容器本体11を下方へ移動させる。
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公开(公告)号：JPWO2015178250A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016521048
申请日：2015-05-12
申请人： 三井化学株式会社
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/62 , G03F7/2004
摘要： ペリクル膜は、有機系材料及び無機系材料からなるフィルムを有し、該フィルムの同一平面上に有機系材料を含む領域と無機系材料からなる領域とが存在し、少なくとも前記フィルムの中心部は無機系材料からなる領域であり、かつ、少なくとも前記フィルムの周端部は有機系材料を含む領域である。
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公开(公告)号：JPWO2015166927A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：JP2016516378
申请日：2015-04-27
申请人： 三井化学株式会社
CPC分类号： G03F1/64 , G03F1/22 , G03F1/62 , G03F7/2004 , H01L21/67359
摘要： 厚さ方向の一端面であってペリクル膜が支持される側の一端面に設けられた溝と、外周面と前記一端面に設けられた溝の壁面との間を貫通する貫通孔と、を有する枠本体を備える、ペリクル枠。
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