公开(公告)号：JP2017523558A

公开(公告)日：2017-08-17

申请号：JP2016568434

申请日：2014-06-27

申请人： インテル・コーポレーション

发明人： エー． ムノズ、ジョルジ ,  エー． ムノズ、ジョルジ ,  イー． ニコノブ、ドミトリ ,  イー． ニコノブ、ドミトリ ,  ジェイ． クーン、ケリン ,  ジェイ． クーン、ケリン ,  テオファニス、パトリック ,  パワシェ、シトラ ,  リン、ケビン ,  キム、セイヨン

IPC分类号： H01H59/00 ,  B81B3/00 ,  B81C1/00

CPC分类号： B82B1/005 ,  B81B3/0016 ,  B81B7/02 ,  B81B2201/014 ,  B81B2203/0118 ,  B82B1/002 ,  B82B3/0023 ,  B82Y15/00 ,  B82Y25/00 ,  B82Y40/00 ,  H01H59/0009 ,  H01L29/66227 ,  H01L29/82 ,  H01L29/84 ,  Y10S977/732 ,  Y10S977/838 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/938

摘要： 複数の動作電圧の範囲を改善し、カンチレバーの寸法の制御を改善するための複数のナノ磁石を有するナノエレクトロメカニカル(NEMS)デバイスが記載されている。例えば、一実施形態において、ナノエレクトロメカニカル(NEMS)デバイスは、基板層、基板層の上に配置される第1磁性層、第1磁性層の上に配置される第1誘電体層、第1誘電体層の上に配置される第2誘電体層、及び第2誘電体層の上に配置されるカンチレバーを備える。カンチレバーは、電圧がカンチレバーに印加される場合に、基板層に向かって第1の位置から第2の位置まで撓む。

公开(公告)号：JP2016507158A

公开(公告)日：2016-03-07

申请号：JP2015555205

申请日：2014-01-21

申请人： コーニング インコーポレイテッド ,  コーニング インコーポレイテッド

发明人： アレハンドロ ケサダ，マーク ,  アレハンドロ ケサダ，マーク ,  ワン，ジエングオ ,  ヂャン，イン

IPC分类号： H01L21/027 ,  C08J9/00

CPC分类号： B05D5/00 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  Y10S977/888

摘要： ナノピラー基体表面を製造する方法は、基体表面に両親媒性ブロックコポリマーおよび親水性ホモポリマーを含有するポリマー溶液を塗布する工程を有してなる。このポリマー溶液中の両親媒性ブロックコポリマーおよび親水性ホモポリマーは基体表面で自己組織化して、自己組織化ポリマー層を形成し、この層は、基体表面に隣接した疎水性領域および自己組織化ポリマー層中に延在する親水性領域を有する。この親水性領域の少なくとも一部分を除去して、自己組織化ポリマー層の露出表面に複数の細孔を形成することができる。複数の細孔を通してエッチングして貫通孔を形成するためのマスクとして、保護層をその露出表面に堆積させることができる。ナノピラー形成材料を、その貫通孔を通じて基体表面上に堆積させることができる。次いで、自己組織化ポリマー層の残りの部分を除去して、ナノピラー基体表面を露出することができる。

摘要翻译： 用于制造纳米柱衬底表面的方法将具有将含有两亲性嵌段共聚物和基材表面上的亲水性均聚物的聚合物溶液的工序。 两亲嵌段共聚物，并在基板表面通过自组装的聚合物溶液的亲水性均聚物，以形成自组装聚合物层，该层是邻近衬底表面疏水性区域与所述自组装聚合物 它具有延伸到该层的亲水性区域。 亲水性区域的至少一部分被去除，因此能够形成多个自组装聚合物层的暴露表面上的孔。 作为掩模，以形成通孔，通过具有多个孔的蚀刻，该保护层可以在暴露表面上沉积。 形成材料的纳米柱可以在衬底表面上通过通孔淀积。 然后，通过移除自组装聚合物层的剩余部分，有可能以暴露纳米柱的衬底表面。

公开(公告)号：JP2015502668A

公开(公告)日：2015-01-22

申请号：JP2014547570

申请日：2012-12-19

申请人： キャノン・ナノテクノロジーズ・インコーポレーテッド ,  モレキュラー・インプリンツ・インコーポレーテッド

发明人： レスニック，ダグラス・ジェイ ,  ミラー，マイケル・エヌ ,  シュ，フランク・ワイ

IPC分类号： H01L21/027 ,  G02B5/30

CPC分类号： B29D11/0074 ,  B29C33/3842 ,  B29C43/003 ,  B29C43/021 ,  B29C59/022 ,  B29C2033/426 ,  B29C2043/025 ,  B29C2059/023 ,  B29D11/00 ,  B29D11/00769 ,  B82Y10/00 ,  B82Y30/00 ,  B82Y40/00 ,  G03F7/0002 ,  G03F7/0017 ,  Y10S977/887 ,  Y10S977/888

摘要： 【解決手段】ワイヤーグリッド偏光器(WGP)等を有する大面積光学デバイスをパターン化するのに有用な大面積テンプレートを形成する方法である。【選択図】図3

摘要翻译： A是用于形成有用的大面积模板图案具有线栅偏振器（WGP）等的大面积的光学装置的方法。 点域

公开(公告)号：JP5528355B2

公开(公告)日：2014-06-25

申请号：JP2010545264

申请日：2009-02-03

申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Machines Corporation

发明人： ブラック、チャールズ、ティー ,  ダルトン、ティモシー、ジェイ ,  ドリス、ブルース、ビー ,  ラデンズ、カール

IPC分类号： B82B3/00 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/027

CPC分类号： H01L21/0338 ,  B81B2203/0369 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0198 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/0337 ,  H01L51/0017 ,  Y10S977/882 ,  Y10S977/887 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24736 ,  Y10T428/24802

公开(公告)号：JP5215414B2

公开(公告)日：2013-06-19

申请号：JP2010543095

申请日：2008-01-14

申请人： スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー

发明人： デュアン・ディ・ファンスラー ,  トーマス・イー・ウッド

IPC分类号： B01J23/66 ,  C23C14/14

CPC分类号： B01J23/52 ,  B01J23/66 ,  B01J35/0013 ,  B01J37/0238 ,  B01J37/06 ,  C01B2203/044 ,  Y10S977/773 ,  Y10S977/888

公开(公告)号：JP2011522707A

公开(公告)日：2011-08-04

申请号：JP2010545264

申请日：2009-02-03

申请人： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーションInternational Business Maschines Corporation

发明人： ダルトン、ティモシー、ジェイ ,  ドリス、ブルース、ビー ,  ブラック、チャールズ、ティー ,  ラデンズ、カール

IPC分类号： B82B3/00 ,  B82B1/00

CPC分类号： H01L21/0338 ,  B81B2203/0369 ,  B81C1/00031 ,  B81C2201/0149 ,  B81C2201/0198 ,  B82Y30/00 ,  H01L21/0337 ,  H01L51/0017 ,  Y10S977/882 ,  Y10S977/887 ,  Y10S977/888 ,  Y10T428/24479 ,  Y10T428/2457 ,  Y10T428/24612 ,  Y10T428/24736 ,  Y10T428/24802

摘要： 【課題】 外部構造によって生成される自己集合ブロック共重合体のオーダー範囲を超える面積にわたって延在する隣接ナノスケール自己集合自己整合構造及びその製造方法を提供する。
【解決手段】 一実施形態では、大きい面積を包含する六角形タイルが３つのグループに分けられ、各グループは、互いに分離されるすべての六角形タイルの１／３ずつを収容する。 各グループ内の六角形タイルの開口（Ｏ１、Ｏ２、Ｏ３）がテンプレート層（２０Ａ、２０Ｂ、２０Ｃ）に形成され、１組の自己集合ブロック共重合体が各開口内に塗布されパターン化される。 このプロセスを３回繰り返して３つのすべてのグループを包含することにより、広い面積にわたって延在する自己整合パターンが得られる。 別の実施形態では、上記の大きい面積は、互いに重複しない２つの相補グループの矩形タイルに分割される。 各矩形エリアの幅は、自己集合ブロック共重合体のオーダー範囲未満となる。 自己集合自己整合ライン・アンド・スペース構造（４０Ａ、５０Ａ；４０Ｂ、５０Ｂ；４０Ｃ、５０Ｃ）が各グループ内に順次形成され、その結果、オーダー範囲を超えて延在する大きい面積にわたるライン・アンド・スペース・パターンが形成される。
【選択図】 図１Ａ

公开(公告)号：JP4651390B2

公开(公告)日：2011-03-16

申请号：JP2004569953

申请日：2003-06-19

申请人： コリア・インスティテュート・オブ・マシナリー・アンド・マテリアルズ

发明人： ジェオン，ジュン‐ホ ,  シム，ヨン‐スック ,  シン，ヨン‐ジェ ,  ソン，ヒョンキー ,  ホァン，キュン‐ヒュン ,  リー，ユン‐スク

IPC分类号： H01L21/027 ,  B81C99/00 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  G03F7/00

CPC分类号： G03F7/0002 ,  B82Y10/00 ,  B82Y40/00 ,  H01L21/0273 ,  Y10S977/887 ,  Y10S977/888

公开(公告)号：JP4505683B2

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：JP2003525864

申请日：2002-07-25

申请人： ナンテロ,インク.

发明人： シーガル，ブレント，エム． ,  ブロック，ダレン，ケイ． ,  ルイクス，トーマス

IPC分类号： B82B1/00 ,  H01L29/06 ,  B81B3/00 ,  B82B3/00 ,  G11C13/02 ,  G11C23/00 ,  H01H59/00 ,  H01L21/768 ,  H01L27/10

CPC分类号： G11C23/00 ,  B82Y10/00 ,  G11C13/025 ,  G11C2213/16 ,  G11C2213/81 ,  H01H1/0094 ,  H01L21/76838 ,  H01L27/10 ,  Y10S977/724 ,  Y10S977/742 ,  Y10S977/796 ,  Y10S977/856 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/943 ,  Y10T428/24893 ,  Y10T428/24917

公开(公告)号：JPWO2007055371A1

公开(公告)日：2009-04-30

申请号：JP2007544232

申请日：2006-11-14

申请人： 国立大学法人東京工業大学

发明人： 智一 彌田 ,  智一 彌田 ,  香織 鎌田 ,  香織 鎌田 ,  亮子 渡辺 ,  亮子 渡辺

IPC分类号： H01L21/306 ,  B82B1/00 ,  B82B3/00 ,  C01B33/02 ,  C08F297/00

CPC分类号： H01L21/3086 ,  H01L21/0337 ,  Y10S438/942 ,  Y10S438/947 ,  Y10S977/888 ,  Y10S977/892 ,  Y10S977/895 ,  Y10T428/24504

摘要： 両親媒性ブロック共重合体を基板上に塗布することにより、膜の表面に対して垂直方向な親水性シリンダーを有するナノ相分離構造が形成された基板を、エッチング溶剤に浸漬して、径が3〜40nmの孔が60nm以下の間隔で整列したナノポーラス基板を製造する。

公开(公告)号：JP2009021556A

公开(公告)日：2009-01-29

申请号：JP2008128743

申请日：2008-05-15

申请人： Commissariat A L'energie Atomique ,  コミサリア、ア、レネルジ、アトミクCommissariat A L’Energie Atomique

发明人： GAILLARD FREDERIC-XAVIER ,  COIFFIC JEAN-CHRISTOPHE

IPC分类号： H01L21/306 ,  B82B3/00 ,  C01B31/02 ,  C01G23/04 ,  H01L29/06

CPC分类号： H01L21/7682 ,  H01L2221/1094 ,  Y10S977/888

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for producing air gaps using nanotubes. SOLUTION: A target layer (4) comprising at least one degradable material (5) is deposited on a support (1). Then, nanotubes (6) are formed on the degradable material (5) of the target layer (4) before deposition of an insulating layer (7) is performed. Degradation of the degradable material (5) and elimination of degradation sub-products are then performed by means of the nanotubes (6) passing through the insulating layer (7) thus forming air gaps (10) in the target layer (4). COPYRIGHT: (C)2009,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种使用纳米管制造气隙的方法。 解决方案：包含至少一种可降解材料（5）的目标层（4）沉积在载体（1）上。 然后，在进行绝缘层（7）的沉积之前，在目标层（4）的可降解材料（5）上形成纳米管（6）。 然后通过穿过绝缘层（7）的纳米管（6）进行可降解材料（5）的降解和降解的副产物的消除，从而在目标层（4）中形成气隙（10）。 版权所有（C）2009，JPO＆INPIT