公开(公告)号：KR102234960B1

公开(公告)日：2021-04-01

申请号：KR1020207000210A

申请日：2018-05-28

申请人： 샌트랄 글래스 컴퍼니 리미티드

发明人： 유즈루 가네코 ,  츠바사 이타쿠라 ,  료 나다노

IPC分类号： C08F20/22 ,  C07D307/20 ,  C07D307/24 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/032 ,  G03F7/20 ,  G03F7/26

CPC分类号： C08F20/22 ,  C07D307/20 ,  C07D307/24 ,  C08F20/28 ,  G03F7/004 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/032 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2012 ,  G03F7/26

摘要： 광산발생제와 함께 막으로 하였을 때에, 제막 후에는 발수성을 나타내고, 광 조사에 의해 산에 의해 친수성으로 되는 패턴 형성 재료로서, 고감도 또한 고해상도의 패턴을 부여하는 탄소수 4 이상의 퍼플루오로알킬기를 포함하지 않는 함불소 중합체를 제공한다. 본 발명의 함불소 중합체는, 식 (1)로 나타내어지는 반복 단위를 포함하는 것을 특징으로 한다.

(식 중, R
1 은 수소 원자, 불소 원자 또는 탄소수 1∼10의 알킬기이고, R
2 ∼R
5 는 수소 원자, 탄소수 1∼10의 알킬기이고, X는 단결합 또는 2가의 기이고, Y는 탄소수 1∼3의 함불소 알킬기, 또는 카르본산 에스테르기(-COOR)이고, R은 탄소수 1∼3의 함불소 알킬기이다. 이들 기가 포함하는 7개 이하의 수소 원자가 불소 원자에 의해 치환되어 있어도 된다.)

公开(公告)号：KR20210027278A

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：KR1020207037108A

申请日：2020-08-28

申请人： 에스코-그래픽스 이미징 게엠베하

发明人： 클라우스 발터 아를트

IPC分类号： F21V23/00 ,  F21K9/20 ,  F21V29/70 ,  F21W131/40 ,  H05B45/10 ,  H05B47/19

CPC分类号： G03F7/7005 ,  F21V23/005 ,  F21K9/20 ,  F21V23/007 ,  F21V29/70 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0066 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2055 ,  G03F7/24 ,  H05B45/10 ,  H05B47/19 ,  F21W2131/40 ,  F21Y2105/00 ,  F21Y2115/10 ,  G02B3/08

摘要： 화학 방사선의 소스는 프린팅 플레이트를 큐어링하기 위한 것이다. 소스는 히트 싱크가 있는 베이스를 포함하고, 그 폭보다 더 큰 길이를 가진다. 베이스 상에 장착되어 있는 하나 이상의 회로 기판들은 베이스의 길이에 걸쳐 분포되어 있는 복수의 발광 다이오드들(LEDs)을 제공한다. 투명하거나 반투명한 커버는 베이스와 함께 복수의 LED들을 위한 인클로저를 정의한다. 소스는 방출 각도로 방사선을 제공하는데, 방출 각도는 베이스의 축에 대해 수직하는 평면에서 단일의 LED의 방출 각도보다 더 크기도 하고, 베이스의 축을 포함하고 있거나 베이스의 축에 대해 평행하되 표적 조명 평면에 대해 수직하는 평면에서 단일의 LED의 방출 각도보다 더 크기도 하며, 또는 이들의 조합으로 되어 있다. 소스는 형광 전구를 대체하도록 구성될 수 있다. 이러한 소스들을 사용하는 프린팅 플레이트들의 뱅크 노출을 위한 방법들 및 시스템 또한 기술되어 있다.

公开(公告)号：JP6427684B2

公开(公告)日：2018-11-21

申请号：JP2017543079

申请日：2016-09-09

申请人： 富士フイルム株式会社

发明人： ▲高▼田 暁 ,  平野 修史 ,  下重 直也 ,  高橋 年哉 ,  望月 英宏

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C08F230/08 ,  C08F212/04 ,  G03F7/075

CPC分类号： G03F7/0758 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38 ,  G03F7/40

公开(公告)号：JP6419581B2

公开(公告)日：2018-11-07

申请号：JP2015002168

申请日：2015-01-08

申请人： 株式会社東芝

发明人： 塩原 英志

IPC分类号： G01N5/02 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70925 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70033 ,  G03F7/70591 ,  G03F7/7085 ,  H01L22/12

公开(公告)号：JP6401377B2

公开(公告)日：2018-10-10

申请号：JP2017503479

申请日：2015-10-05

申请人： エルジー・ケム・リミテッド

发明人： リー、ビュン スン ,  カン、ヒュン コー ,  ユン、ホ ジェオン ,  ジャン、エウン ジン ,  ラー、キュン イル

IPC分类号： G02B5/30

CPC分类号： G02B5/305 ,  C08J5/18 ,  C08J2329/04 ,  C08K3/16 ,  G02B1/14 ,  G02B5/005 ,  G02B5/3033 ,  G02F1/13318 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/133528 ,  G02F1/133533 ,  G02F2001/13312 ,  G03F7/0005 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  G03F7/16 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/322

公开(公告)号：JP2018155908A

公开(公告)日：2018-10-04

申请号：JP2017052453

申请日：2017-03-17

申请人： 信越化学工業株式会社

发明人： 畠山 潤 ,  藤原 敬之

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/20 ,  C08F20/10 ,  C08F12/22 ,  G03F7/004

CPC分类号： G03F7/0045 ,  G03F7/0382 ,  G03F7/0397 ,  G03F7/162 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/2006 ,  G03F7/2037 ,  G03F7/2041 ,  G03F7/322 ,  G03F7/325 ,  G03F7/38

摘要： 【課題】ポジ型レジスト材料においてもネガ型レジスト材料においても、高感度かつLWRが小さいレジスト材料、及びこれを用いるパターン形成方法を提供する。 【解決手段】ベースポリマー、及び下記式(A−1)で表されるスルホニウム塩及び/又は(A−2)で表されるヨードニウム塩を含むレジスト材料。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018527422A

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：JP2017567186

申请日：2016-06-02

申请人： メルク パテント ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ,  Merck Patent Gesellschaft mit beschraenkter Haftung

发明人： ソン、 ドンミ ,  クォン、 キスン ,  イ、 フヨン ,  クラーゼン−メマー、 メラニエ ,  シェーネフェルト、 クリスチャン ,  シュナイダー、 コンスタンチン ,  コッホ、 マチアス ,  ペシュケ、 ヨルク ,  ブレマー、 マチアス ,  グレイナート、 ニルズ

IPC分类号： C07C69/54 ,  C07C69/653 ,  C07C43/225 ,  C09K19/30 ,  C09K19/20 ,  C09K19/12 ,  G02F1/13 ,  C09K19/14 ,  C09K19/16 ,  C09K19/34 ,  C09K19/54

CPC分类号： C09K19/542 ,  C08F220/16 ,  C08F220/28 ,  C08F2220/282 ,  C09K19/0208 ,  C09K19/061 ,  C09K19/062 ,  C09K19/20 ,  C09K19/3066 ,  C09K19/3068 ,  C09K19/32 ,  C09K19/321 ,  C09K19/3402 ,  C09K2019/044 ,  C09K2019/0444 ,  C09K2019/0448 ,  C09K2019/0455 ,  C09K2019/0466 ,  C09K2019/122 ,  C09K2019/123 ,  C09K2019/124 ,  C09K2019/3004 ,  C09K2019/3009 ,  C09K2019/301 ,  C09K2019/3015 ,  C09K2019/3019 ,  C09K2019/3021 ,  C09K2019/3025 ,  C09K2019/3037 ,  C09K2019/3069 ,  C09K2019/3071 ,  C09K2019/3077 ,  C09K2019/3422 ,  C09K2019/548 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/031 ,  G03F7/2002 ,  G03F7/2004

摘要： 【課題】重合性化合物を含有する液晶媒体を提供する。 【解決手段】本発明は、重合性化合物を含む液晶(LC:liquid crystal)媒体と、それを調製する方法と、光学的、電気光学的および電子的目的のためで、特にLCディスプレイにおけるそれの使用と、およびそれを含むLCディスプレイとに関する。 【選択図】なし

公开(公告)号：JP2018147917A

公开(公告)日：2018-09-20

申请号：JP2017038235

申请日：2017-03-01

申请人： 株式会社SCREENホールディングス

发明人： 松尾 友宏 ,  福本 靖博 ,  大木 孝文 ,  浅井 正也 ,  春本 将彦 ,  田中 裕二 ,  中山 知佐世

IPC分类号： H01L21/683 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/7055 ,  B81C1/00 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/70008 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/70933 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31133 ,  H01L21/67115 ,  H01L21/67253 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/68742

摘要： 【課題】基板の露光処理の効率を向上させることが可能な露光装置、基板処理装置、露光方法および基板処理方法を提供する。 【解決手段】基板Wが収容された処理室120内の雰囲気が吸引装置173により排気される。処理室120内の酸素濃度が予め定められた露光開始濃度まで低下した時点で、光源部163による基板Wへの真空紫外線の照射が開始される。基板Wへの真空紫外線の照射期間に、照度計183により真空紫外線の一部が受光され、受光された真空紫外線の照度が計測される。計測される照度に基づいて基板Wの露光量が算出され、露光量が予め定められた設定露光量まで上昇した時点で基板Wへの真空紫外線の照射が停止される。露光開始濃度は、1%よりも高くかつ大気中の酸素濃度よりも低く、真空紫外線の照射により酸素原子から生成されるオゾンが基板Wの被処理面の膜に損傷を与えないように予め定められる。 【選択図】図1

公开(公告)号：JP6373926B2

公开(公告)日：2018-08-15

申请号：JP2016204739

申请日：2016-10-18

申请人： ローム アンド ハース エレクトロニック マテリアルズ エルエルシー ,  Rohm and Haas Electronic Materials LLC ,  ダウ グローバル テクノロジーズ エルエルシー

发明人： ファシン・チョウ ,  ヴィプル・ジェイン ,  ジン・ウック・サン ,  ピーター・トレフォナス・サード ,  フィリップ・ディー・フスタッド ,  ミンキ・リー

IPC分类号： G03F7/039 ,  G03F7/038 ,  G03F7/40 ,  H01L21/027 ,  C08F293/00

CPC分类号： G03F7/038 ,  B81C2201/0149 ,  C08F293/00 ,  C08F293/005 ,  C08F2438/03 ,  C08L53/00 ,  C09D153/00 ,  C09D183/10 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/11 ,  G03F7/162 ,  G03F7/165 ,  G03F7/168 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/325 ,  G03F7/40 ,  G03F7/405 ,  H01L21/0274 ,  H01L21/31144

公开(公告)号：JP6370428B2

公开(公告)日：2018-08-08

申请号：JP2017055771

申请日：2017-03-22

申请人： ランクセス・ドイチュランド・ゲーエムベーハー

发明人： フランク・リンケ ,  サビーネ・エンデルト ,  ハンス−ウルリッヒ・ボルスト

IPC分类号： C09B45/22 ,  C09B67/20 ,  C09D17/00 ,  C09D11/322 ,  C09D11/037 ,  C09D5/02 ,  C09D7/41 ,  C09D201/00 ,  D06P1/44 ,  G03F7/004 ,  B41M5/00 ,  G02B5/20 ,  C09B45/18

CPC分类号： C09B45/22 ,  B41M5/0023 ,  C08K5/0091 ,  C09B29/3665 ,  C09B45/18 ,  C09B67/0002 ,  C09B67/0029 ,  C09B67/0051 ,  C09D5/028 ,  C09D7/41 ,  C09D11/037 ,  C09D11/322 ,  C09D17/003 ,  G02B5/223 ,  G03F7/0007 ,  G03F7/0042 ,  G03F7/028 ,  G03F7/105 ,  G03F7/16 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/32