公开(公告)号：KR20210027278A

公开(公告)日：2021-03-10

申请号：KR1020207037108A

申请日：2020-08-28

申请人： 에스코-그래픽스 이미징 게엠베하

发明人： 클라우스 발터 아를트

IPC分类号： F21V23/00 ,  F21K9/20 ,  F21V29/70 ,  F21W131/40 ,  H05B45/10 ,  H05B47/19

CPC分类号： G03F7/7005 ,  F21V23/005 ,  F21K9/20 ,  F21V23/007 ,  F21V29/70 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0066 ,  G03F7/2004 ,  G03F7/201 ,  G03F7/2055 ,  G03F7/24 ,  H05B45/10 ,  H05B47/19 ,  F21W2131/40 ,  F21Y2105/00 ,  F21Y2115/10 ,  G02B3/08

摘要： 화학 방사선의 소스는 프린팅 플레이트를 큐어링하기 위한 것이다. 소스는 히트 싱크가 있는 베이스를 포함하고, 그 폭보다 더 큰 길이를 가진다. 베이스 상에 장착되어 있는 하나 이상의 회로 기판들은 베이스의 길이에 걸쳐 분포되어 있는 복수의 발광 다이오드들(LEDs)을 제공한다. 투명하거나 반투명한 커버는 베이스와 함께 복수의 LED들을 위한 인클로저를 정의한다. 소스는 방출 각도로 방사선을 제공하는데, 방출 각도는 베이스의 축에 대해 수직하는 평면에서 단일의 LED의 방출 각도보다 더 크기도 하고, 베이스의 축을 포함하고 있거나 베이스의 축에 대해 평행하되 표적 조명 평면에 대해 수직하는 평면에서 단일의 LED의 방출 각도보다 더 크기도 하며, 또는 이들의 조합으로 되어 있다. 소스는 형광 전구를 대체하도록 구성될 수 있다. 이러한 소스들을 사용하는 프린팅 플레이트들의 뱅크 노출을 위한 방법들 및 시스템 또한 기술되어 있다.

公开(公告)号：JP2017037336A

公开(公告)日：2017-02-16

申请号：JP2016208052

申请日：2016-10-24

申请人： 株式会社ブイ・テクノロジー

发明人： 川島 洋徳 ,  軽石 修作 ,  永井 新一郎 ,  原田 智紀

IPC分类号： G03F7/213 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/2008 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/7035

摘要： 【課題】光源部の交換時間及び装置のダウンタイムを短縮することができる露光装置用光照射装置及びその点灯制御方法、並びに露光装置、露光方法及び基板を提供する。 【解決手段】光照射装置80は、ランプ71とランプから発生された光に指向性をもたせて射出する反射鏡72をそれぞれ含む複数の光源部73と、所定数の光源部をそれぞれ取り付け可能な複数のカセット81と、複数のカセットを取り付け可能な支持体82と、を備える。 【選択図】図4

摘要翻译： 一种光照射装置和用于能够缩短光源单元的停机时间的更换时间和器件的曝光装置的照明控制方法以及曝光装置，提供曝光方法和基板。 的光照射装置80包括灯71和多个光源73包括反射镜72分别并发射赋予方向性中产生的光从灯，其中能够相应的安装预定数量的光源单元 包括多个盒81的，支承82可以附接多个盒中，。 点域4

公开(公告)号：JP5806479B2

公开(公告)日：2015-11-10

申请号：JP2011036334

申请日：2011-02-22

申请人： キヤノン株式会社

发明人： 大阪 昇

IPC分类号： G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7005 ,  G03F7/70075 ,  G03F7/70208

公开(公告)号：JP2014514759A

公开(公告)日：2014-06-19

申请号：JP2014502991

申请日：2012-03-08

申请人： イエーノプティーク オプティカル システムズ ゲーエムベーハー

发明人： ヤン ヴェルシュニク ,  マルクス アウグスティン ,  ルッツ ライヒマン

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70208 ,  G02B3/0056 ,  G02B26/0841 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70291 ,  H01L21/67069

摘要： 本発明は、ウェハの構造化された露光のための露光装置（１４）に関し、少なくとも１つの露光配置（１３）を有し、２つのサブ光束（２．１，２．２）に分けられた光束（２）は、ウェハの露光中にスループット速度を加速するために、２つのマイクロミラーアレイ（５．１，５．２）を介して変調される露光装置。

公开(公告)号：JPWO2011105461A1

公开(公告)日：2013-06-20

申请号：JP2012501835

申请日：2011-02-23

申请人： Nskテクノロジー株式会社

发明人： 洋徳 川島 ,  洋徳 川島 ,  宙 橋永 ,  宙 橋永 ,  工 富樫 ,  工 富樫 ,  昌明 松坂 ,  昌明 松坂

IPC分类号： G03F7/20 ,  G03F1/42 ,  H01L21/027 ,  H01L21/68 ,  H01L21/683

CPC分类号： G03F7/7035 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70075

摘要： 高価なマスクを用いることなく、解像度を改善することが可能な露光装置用光照射装置、近接露光装置、及び近接露光方法、並びに基板の製造方法を提供する。また、カラーフィルタまたは液晶パネルを効率よく製造することができるマスク、被露光基板、露光装置及び露光方法を提供する。近接露光装置は、複数の光源部73から出射される光の主光軸Lがインテグレータ74の周辺部に分散して入射される。また、マスクは、被露光基板に露光するパターンが形成された露光パターンと、露光パターンの外縁の第1の辺に隣接した位置に形成された第1のアライメントマークと、露光パターンの外縁の第1の辺に対向する第2の辺に隣接した位置に形成された第2のアライメントマークと、を有し、第1のアライメントマークは、ステップ方向から見た場合において、第2のアライメントマークが形成されている位置とは、重ならない位置に配置されている。

公开(公告)号：JP2013069860A

公开(公告)日：2013-04-18

申请号：JP2011207271

申请日：2011-09-22

申请人： Orc Manufacturing Co Ltd ,  株式会社オーク製作所

发明人： SERIZAWA IZUMI

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/7005 ,  F21K9/23 ,  F21V7/0008 ,  F21Y2107/30 ,  F21Y2115/10 ,  G03F7/70175

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide exposure equipment using an LED light source device, achieving high illuminance.SOLUTION: An LED light source device 20 used in exposure equipment and others, includes: an LED unit 30 in which LEDs 40A to 40F are arranged on side faces of a support member 32, respectively; and a reflection part 12 constituted by reflectors 12A to 12F. The reflectors 12A to 12F are not formed integrally, and are attached individually to and along the side faces having the LEDs 40A to 40F arranged thereon.

摘要翻译： 要解决的问题：提供使用LED光源装置的曝光设备，实现高照度。 解决方案：在曝光设备等中使用的LED光源装置20包括：LED单元30，其中LED 40A至40F分别布置在支撑构件32的侧面上; 以及由反射器12A〜12F构成的反射部12。 反射器12A〜12F不一体地形成，并且分别安装在其上并且沿着布置在其上的LED 40A至40F的侧面。 版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP5080009B2

公开(公告)日：2012-11-21

申请号：JP2006025889

申请日：2006-02-02

申请人： 日立ビアメカニクス株式会社

发明人： 欣秀 山口 ,  洋 小山

IPC分类号： G03F7/20 ,  H01L21/027 ,  H05K3/00

CPC分类号： G03F7/70291 ,  G03F7/203 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70383 ,  G03F7/70466 ,  H05K3/0082

公开(公告)号：JP2011003866A

公开(公告)日：2011-01-06

申请号：JP2009200653

申请日：2009-08-31

申请人： Samsung Electro-Mechanics Co Ltd ,  三星電機株式会社

发明人： JIN YONG HYUN ,  KIM YOUNG TAE ,  YOON GUN JUNG ,  KIM JI SOOK ,  LEE GI WOO

IPC分类号： H01L21/027 ,  G03F7/20

CPC分类号： G03F7/70825 ,  G03F7/7005 ,  G03F7/70391 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70558 ,  H01L21/67115

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an exposure device for reducing a calorific value and the influence of diffraction of light.SOLUTION: The exposure device 100 used for drawing a circuit on a semiconductor wafer and a TFTLCD substrate includes a casing 110; a plurality of LEDs 120 housed in the casing 110 and straightly radiating light within an UV wavelength range from upper cover 111 made up of transparent member to the outside; and a power source impressing part 110 for supplying electric supply to be applied to the LED 120.

摘要翻译： 要解决的问题：提供一种用于降低发热量和光的衍射影响的曝光装置。解决方案：用于在半导体晶片和TFTLCD基板上绘制电路的曝光装置100包括壳体110; 容纳在壳体110中的多个LED120，并且在由紫外线波长范围内直接照射由透明构件构成的上盖111到外部的光; 以及用于提供要施加到LED 120的电源的电源施加部110。

公开(公告)号：JP2010263218A

公开(公告)日：2010-11-18

申请号：JP2010105420

申请日：2010-04-30

申请人： Ultratech Inc ,  ウルトラテック インク

发明人： HAWRYLUK ANDREW M

IPC分类号： H01L21/027

CPC分类号： G03F7/7005 ,  G03F7/70075

摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To give a high irradiating output to an LED-type UV irradiating device by efficiently using UV light-emitting diodes efficiently to collect the output light.
SOLUTION: The LED-type UV-irradiating device has a plurality of LED light sources for emitting UV light and having a plurality of dichroic mirrors. The dichroic mirrors are disposed opposite to the LED light sources, and the UV light is directed along the common optical axis. Homogenizers of light pipes are disposed along the common optical axis, and homogenize the UV light. The UV irradiating device has light-collecting efficiency of 50% or more, and has an irradiating output of 850 mW/mm
2 or more. A lithographic system using the LED-type UV-irradiating device is also disclosed.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT

摘要翻译： 要解决的问题：通过有效地使用UV发光二极管有效地收集输出光，向LED型UV照射装置提供高照射输出。 解决方案：LED型紫外线照射装置具有用于发射UV光并具有多个分色镜的多个LED光源。 分色镜与LED光源相对设置，并且UV光沿着公共光轴被引导。 光管的均质器沿共同的光轴设置，使紫外光均匀化。 紫外线照射装置具有50％以上的聚光效率，并且具有850mW / mm 2以上的照射输出。 还公开了使用LED型紫外线照射装置的光刻系统。 版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

公开(公告)号：JP4546019B2

公开(公告)日：2010-09-15

申请号：JP2002195086

申请日：2002-07-03

申请人： 日立ビアメカニクス株式会社 ,  株式会社日立製作所

发明人： 重信 丸山 ,  芳達 内藤 ,  義久 大坂 ,  和夫 小林 ,  良忠 押田

IPC分类号： G02B3/00 ,  G02B5/02 ,  G02B19/00 ,  G02B27/09 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC分类号： G03F7/70075 ,  G02B3/005 ,  G02B3/0062 ,  G02B19/0014 ,  G02B19/0057 ,  G03F7/7005