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公开(公告)号：JP2018157048A
公开(公告)日：2018-10-04
申请号：JP2017052066
申请日：2017-03-17
申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L22/26 , G01B11/0625 , G01B11/0675 , H01J37/32082 , H01J37/32449 , H01J2237/006 , H01J2237/3347 , H01L21/31116 , H01L21/31144 , H01L21/67069 , H01L21/67253
摘要： 【課題】本発明の目的は、パターン上の過剰なデポ膜厚を制御するプラズマエッチングにおいて、高精度なエッチングを行うエッチング方法及びプラズマ処理装置を提供することである。 【解決手段】本発明は、被エッチング材料表面にガスを吸着させて反応層を形成する反応層形成工程と、前記反応層形成工程後、前記反応層を脱離させる脱離工程と、反応層または堆積膜を除去する除去工程とを有し、前記反応層形成工程と前記脱離工程により前記被エッチング材料表面をエッチングすることを特徴とするエッチング方法である。 【選択図】図5
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公开(公告)号：JP2018152183A
公开(公告)日：2018-09-27
申请号：JP2017046223
申请日：2017-03-10
申请人： 株式会社日立製作所
IPC分类号： H01J37/317
CPC分类号： H01J37/317 , H01J37/045 , H01J2237/006 , H01J2237/30472
摘要： 【課題】所望の加工位置以外にイオンビームが照射されることを回避する技術を提供する。 【解決手段】微細構造体の製造方法は、試料へイオンビームを照射する工程(S101)と、試料へガスを供給する工程(S102)と、試料へのガスの供給を停止する工程(S104)と、試料へのイオンビームの照射を停止する工程(S105)と、を有する。そして、イオンビームを照射する工程(S101)はガスを供給する工程(S102)より先に行われる、もしくは、ガスの供給を停止する工程(S104)はイオンビームの照射を停止する工程(S105)より先に行われる。 【選択図】図3
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公开(公告)号：JP6292310B2
公开(公告)日：2018-03-14
申请号：JP2016549842
申请日：2014-09-25
申请人： 三菱電機株式会社
发明人： 綾 淳
IPC分类号： H01J37/317 , H01J27/02 , H01L21/265 , H01J27/08 , H01J37/08
CPC分类号： H01J37/3171 , H01J27/08 , H01J37/08 , H01J37/18 , H01J2237/006 , H01J2237/08
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公开(公告)号：JP6234431B2
公开(公告)日：2017-11-22
申请号：JP2015503400
申请日：2013-03-21
发明人： ボン ウォン クー , リチャード エム ホワイト , スヴェトラナ ビー ラドヴァノフ , ケビン エム ダニエルズ , エリック アール カッブ , デービッド ダブリュー ピットマン
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317
CPC分类号： H01L21/265 , C23C14/48 , H01J37/08 , H01J37/3171 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/0825
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公开(公告)号：JP2017532719A
公开(公告)日：2017-11-02
申请号：JP2017507950
申请日：2015-07-30
发明人： マティアス ファーゲル , マティアス ファーゲル
IPC分类号： H01J37/06 , B22F3/10 , B22F3/105 , B22F3/16 , B22F3/24 , B29C64/153 , B29C64/188 , B29C64/25 , B29C64/268 , B29C64/371 , B29C64/393 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , B33Y80/00 , H01J37/317
CPC分类号： B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B23K15/0086 , B23K15/02 , B23K15/06 , B29C64/153 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , H01J37/06 , H01J37/305 , H01J2237/006 , H01J2237/022 , H01J2237/182 , Y02P10/295
摘要： 三次元物品(3)を形成するために、電子ビーム源(6)からの電子ビームを用いて融着される粉体材料の個々の層を順次積層することにより、該物品を形成する方法。前記三次元物品のモデルを準備し、真空室(20、20a、20b)は、少なくとも第1(20a)および第2(20b)のセクションを有し、融着される粉体材料が前記第1のセクションに設けられ、少なくとも1つの電子ビーム源が前記第2のセクションに設けられ、前記第1および第2のセクションは相互に開口連結される。前記三次元物品の第1の断面を形成するために、前記モデルに従って第1の選択箇所において溶融させるべく、前記少なくとも1つの電子ビーム源からの電子ビームを前記ワークテーブル(2)の上に向け、その一方で、前記真空室の前記第2のセクションに(46から44、50を介して)ガスを供給する。【選択図】図1
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公开(公告)号：JP6224710B2
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：JP2015525521
申请日：2013-07-30
申请人： エフ・イ−・アイ・カンパニー
发明人： マーク・カスターニャ , クライブ・ディー・チャンドラー , ウェイン・クロウスキ , ダニエル・ウッドロー・ハイファー・ジュニア
IPC分类号： H01J37/301 , H01J37/28
CPC分类号： H01J37/26 , H01J37/18 , H01J37/28 , H01J2237/0044 , H01J2237/006 , H01J2237/24445
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公开(公告)号：JP6192618B2
公开(公告)日：2017-09-06
申请号：JP2014160010
申请日：2014-08-06
申请人： エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
CPC分类号： H01J37/261 , H01J37/147 , H01J37/22 , H01J37/26 , H01J37/263 , H01J2237/006 , H01J2237/2605 , H01J2237/262
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公开(公告)号：JP6166376B2
公开(公告)日：2017-07-19
申请号：JP2015541607
申请日：2014-10-08
申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ
IPC分类号： H01J37/08 , H01J37/317 , H01J27/26
CPC分类号： H01J37/08 , H01J27/26 , H01J37/1474 , H01J37/18 , H01J37/285 , H01J2237/002 , H01J2237/006 , H01J2237/0807 , H01J2237/28 , H01J37/3005
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公开(公告)号：JP6151395B2
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：JP2016031711
申请日：2016-02-23
申请人： エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
IPC分类号： H01L21/285 , C23C16/455
CPC分类号： C23C14/221 , B05B1/005 , B05B1/14 , B05B7/24 , H01J37/30 , H01J2237/006 , H01J2237/31732 , H01J2237/3174 , H01J2237/31749
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公开(公告)号：JP6143487B2
公开(公告)日：2017-06-07
申请号：JP2013024533
申请日：2013-02-12
申请人： エフ イー アイ カンパニ , FEI COMPANY
IPC分类号： G01N1/28
CPC分类号： H01J37/28 , G01N1/42 , H01J2237/006 , H01J2237/31745
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