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公开(公告)号：JP6575511B2
公开(公告)日：2019-09-18
申请号：JP2016510556
申请日：2015-03-27
申请人： 東洋紡株式会社
IPC分类号： C07C63/14 , C07D487/08 , C07D295/027 , C07D213/22 , B01J20/22 , B01J20/30 , C07C63/26
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公开(公告)号：JP6483145B2
公开(公告)日：2019-03-13
申请号：JP2016550969
申请日：2014-10-15
发明人： レナート カディロフ
IPC分类号： C07C211/07 , C07C211/27 , C07C211/48 , C07C213/00 , C07C215/08 , C07D295/023 , C07D295/027 , C07C209/52
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公开(公告)号：JP2017105740A
公开(公告)日：2017-06-15
申请号：JP2015242614
申请日：2015-12-11
申请人： 東ソー株式会社
IPC分类号： C07D295/027 , C07D487/08 , B01J29/40 , C07D295/023
摘要： 【課題】 ピペラジンが高選択的且つ高収率で得られるピペラジン及びトリエチレンジアミンの併産製造方法を提供する。 【解決手段】 pHが8以上の塩基性条件下で、アルカリ金属塩を用いてイオン交換したペンタシル型ゼオライトと1種類以上のアミン類を、50重量%以上の基質濃度条件で反応させる。 【選択図】 なし
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公开(公告)号：JPWO2015147273A1
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2016510556
申请日：2015-03-27
申请人： 東洋紡株式会社
IPC分类号： C07C63/26 , B01J20/22 , B01J20/30 , C07C63/14 , C07C63/307 , C07C63/333 , C07C63/337 , C07D213/22 , C07D295/027 , C07D487/08
CPC分类号： C07C63/38 , B01D53/02 , B01D2253/1122 , B01D2253/20 , B01D2256/12 , B01J20/226 , B01J20/3085 , C07C63/26 , C07F7/006
摘要： 【課題】優れたガス吸着性能、優れたガス吸蔵性能及びガス分離性能を有する金属錯体を提供すること。【解決手段】テレフタル酸に代表される下記一般式(I)で表される二座以上で配位可能なカルボン酸化合物と、ジルコニウムイオンと、該ジルコニウムイオンに窒素部位で二座配位可能な有機配位子とを反応させてなる金属錯体によって上記課題を解決する。【選択図】なし
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公开(公告)号：JP2017088500A
公开(公告)日：2017-05-25
申请号：JP2015215599
申请日：2015-11-02
申请人： 東ソー株式会社 , Tosoh Corp
发明人： NOMURA TAKAO
IPC分类号： C07D295/023 , C07D295/027 , C07D295/125
摘要： 【課題】環状エチレンアミン類を選択性良く製造する方法を提供する。【解決手段】パラジウム、もしくはパラジウム及び金を含有し、パラジウムの割合が50〜100モル%である固体触媒を用いて、エチレンアミン類を脱アミノ化縮合させる。【選択図】なし
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公开(公告)号：JP5934114B2
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：JP2012552081
申请日：2011-02-03
发明人： ネイサン・シュールタイス , サラ・ベスーン
IPC分类号： C07C55/12 , C07D223/26 , C07D295/027 , C07D473/12 , A61K31/09 , A61K31/194 , A61K31/495 , A61K31/522 , A61K31/55 , A61P3/02 , C07C43/23
CPC分类号： C07D473/12 , C07C43/23
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7.发明专利
公开(公告)号：JP2007514811A
公开(公告)日：2007-06-07
申请号：JP2006541478
申请日：2004-11-29
申请人： ロバート・ヴァレンタイン・カソウスキー
发明人： ロバート・ヴァレンタイン・カソウスキー
IPC分类号： C09K21/12 , C07D251/00 , C07D251/40 , C07D295/02 , C07D295/027 , C07D295/13 , C07F9/02 , C07F9/22 , C08K5/5399 , C08L101/00 , C09D5/18 , C09K21/10
CPC分类号： C07D295/027 , C07D295/13 , C07F9/222 , C08K5/5399 , C09D5/18 , C09K21/12
摘要： この発明は、難燃性組成物および水から形成された防炎性組成物を調製する方法と同様に防炎性組成物に関する。 防護物は、層上に若しくはガラス、木材、紙、ポリマーフィルムおよび層混合物と同様に他の層状材料の２層以上の間にはさまれた、防炎性組成物または防炎性ポリマーを含む。
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公开(公告)号：JP2002544546A
公开(公告)日：2002-12-24
申请号：JP2000617197
申请日：2000-05-05
申请人： キネティック リミテッド
发明人： ペネロウプ アン チャロナー , ルーシー マリー ドゥッタ , ガーミット シン バーラ , ウィリアム ヒーリー
IPC分类号： G02F1/37 , C07C59/255 , C07C59/48 , C07D295/02 , C07D295/027 , G02F1/361
CPC分类号： C07D295/027 , C07C59/255 , C07C59/48 , G02F1/3612 , G02F1/3613
摘要： (57)【要約】 非線形光学装置に用いるのに適した材料は、非中心対称結晶形を有する、酒石酸、ヒドロキシ置換安息香酸又はヒドロキシ置換ケイ皮酸より選ばれたヒドロキシ置換脂肪族又は芳香族カルボン酸のモルホリニウム塩又はチオモルホリニウム塩を含んでいる。 好ましい塩としては、3-ヒドロキシ安息香酸モルホリニウム、4-ヒドロキシ安息香酸モルホリニウム、3,5-ジヒドロキシ安息香酸モルホリニウム、3-フルオロ-4-ヒドロキシ安息香酸モルホリニウム、2,3,5,6-テトラフルオロ-4-ヒドロキシ安息香酸二モルホリニウム、4-(4-ヒドロキシフェニル)安息香酸モルホリニウム、酒石酸モルホリニウム、4-ヒドロキシケイ皮酸モルホリニウム、4-ヒドロキシ安息香酸チオモルホリニウム又は3,5-ジヒドロキシ安息香酸チオモルホリニウムが挙げられる。
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公开(公告)号：JP3080695B2
公开(公告)日：2000-08-28
申请号：JP17579891
申请日：1991-06-21
IPC分类号： B01J23/86 , B01J32/00 , C07B61/00 , C07C213/02 , C07C217/08 , C07D295/02 , C07D295/027
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公开(公告)号：JP2804917B2
公开(公告)日：1998-09-30
申请号：JP4954096
申请日：1996-02-13
IPC分类号： C07D249/08 , C07C67/00 , C07C209/00 , C07C211/62 , C07C211/64 , C07D235/30 , C07D239/42 , C07D249/14 , C07D251/18 , C07D251/48 , C07D251/54 , C07D251/70 , C07D295/02 , C07D295/027 , C07D487/04 , C07D487/16 , C07D521/00 , C08K3/32 , C08K5/05 , C08K5/34 , C08K5/3435 , C08K5/3462 , C08K5/3472 , C08K5/3477 , C08K5/3492 , C08K5/49 , C08K5/51 , C08L23/00 , C08L77/00 , C08L101/00 , C09K21/12
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