半導体装置
    6.
    发明专利

    公开(公告)号:JPWO2021024643A1

    公开(公告)日:2021-11-25

    申请号:JP2020025212

    申请日:2020-06-26

    发明人: 斉藤 功

    IPC分类号: H03K17/04 H03K17/687 H02M1/08

    摘要: 半導体装置は、電源電圧が印加される第1ラインと負荷が接続される第2ラインとの間で互いのドレイン電極が直列に接続された第1及び第2MOSトランジスタと、前記第1MOSトランジスタのゲート電極に接続された第3ラインと、前記第2MOSトランジスタのゲート電極に接続され、前記第3ラインと電気的に分離して設けられた第4ラインと、を備える。